[實用新型]透光結構、光源裝置和三維打印設備有效
| 申請號: | 202222091070.5 | 申請日: | 2022-08-09 |
| 公開(公告)號: | CN218455806U | 公開(公告)日: | 2023-02-07 |
| 發明(設計)人: | 盧勝海 | 申請(專利權)人: | 深圳市縱維立方科技有限公司 |
| 主分類號: | G02B3/08 | 分類號: | G02B3/08 |
| 代理公司: | 北京中強智尚知識產權代理有限公司 11448 | 代理人: | 郭曉迪 |
| 地址: | 518172 廣東省深圳市龍崗區龍城街道尚景社區龍城大道85號萬科時代廣場3B寫字樓1*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 透光 結構 光源 裝置 三維 打印 設備 | ||
1.一種透光結構,用于3D打印機,其特征在于,包括:
透光結構本體,所述透光結構本體包括入射面和折射面;
多個凹槽,形成于所述折射面上;
其中,所述入射面的平整度小于或等于所述透光結構本體的厚度與所述凹槽深度的差值。
2.根據權利要求1所述的透光結構,其特征在于,
所述凹槽包括:第一槽壁和第二槽壁,所述第一槽壁和所述第二槽壁之間形成有過渡段;
其中,所述過渡段的曲率半徑為0mm至0.1mm,和/或,所述第一槽壁與所述第二槽壁的夾角大于或等于20°,且小于90°,和/或,所述凹槽的深度與所述透光結構本體的厚度的比值小于0.4。
3.根據權利要求2所述的透光結構,其特征在于,
所述第一槽壁與所述透光結構本體的光軸方向的夾角小于所述第二槽壁與所述光軸方向的夾角;
相鄰兩個凹槽的第一槽壁之間的最短距離大于0.2mm且小于透光結構本體的厚度;和/或
所述第一槽壁與所述光軸方向的夾角θ滿足如下公式:
θ=A+Bδ
其中,A和B均為預設常數、δ為第一槽壁與透光結構本體的光軸之間的最短距離。
4.根據權利要求2所述的透光結構,其特征在于,
相鄰兩個第二槽壁的曲率半徑相同,且所述第二槽壁的曲率半徑與三維打印設備的顯示屏的顯示外徑的比值為0.1至30;或
多個第二槽壁之間至少有兩個第二槽壁的曲率半徑不同,且所述第二槽壁的曲率半徑與三維打印設備的顯示屏的顯示外徑的比值為0.1至30。
5.根據權利要求1至4中任一項所述的透光結構,其特征在于,
所述入射面的曲率半徑與三維打印設備的顯示屏的顯示外徑的比值大于或等于0.1;和/或
所述透光結構本體的厚度為0.5mm至50mm。
6.一種光源裝置,其特征在于,包括:
如權利要求1至5中任一項所述的透光結構;
曲面透光結構;
發光組件,所述曲面透光結構設置在所述透光結構和所述發光組件之間。
7.根據權利要求6所述的光源裝置,其特征在于,
所述曲面透光結構背離于所述發光組件的一側為凸面,所述凸面為球面或非球面;
其中,在所述凸面為非球面的情況下,所述非球面滿足如下公式:
其中,z為非球面上點(x,y)處的矢高,cx為非球面頂點x方向的曲率,Rx為非球面頂點x方向曲率半徑,cy為非球面頂點y方向的曲率,Ry為非球面頂點y方向曲率半徑,kx為x方向的非球面系數,ky為y方向的非球面系數,A2n和B2n均為非球面高次項系數或為非球面修正系數,n為大于等于1的正整數;和/或
所述曲面透光結構由高硼硅玻璃制成。
8.根據權利要求6所述的光源裝置,其特征在于,還包括:
遮光件,位于所述曲面透光結構和所述透光結構之間;和/或
所述遮光件朝向于所述曲面透光結構的一側設置有吸光層;和/或
所述遮光件的厚度小于100mm;和/或
所述遮光件與所述透光結構之間的距離小于或等于10mm;和/或
所述遮光件可以為框狀,所述遮光件的中空區域為透光區域,所述透光區域的形狀與三維打印設備的顯示屏的大小相同。
9.一種三維打印設備,其特征在于,包括:
如權利要求6至8中任一項所述的光源裝置;
顯示屏,設置在所述光源裝置背離于所述發光組件的一側。
10.根據權利要求9所述的三維打印設備,其特征在于,
所述透光結構的焦距與所述顯示屏的顯示外徑的比值為0.2至2;和/或
所述曲面透光結構的焦距f1滿足如下公式:
0.1(b+c)≤f1≤1.5(b+c)
其中,b為所述發光組件與所述透光結構的折射面之間的最短距離,c為所述折射面與所述顯示屏之間的最短距離;和/或
所述曲面透光結構的頂點與所述發光組件之間的最短距離為5mm至100mm;和/或
所述發光組件的發光面與所述透光結構的折射面之間的最短距離與所述顯示屏的顯示外徑的比值為0.2至5;和/或
所述折射面與所述顯示屏之間的距離與所述發光組件與所述透光結構的折射面之間的最短距離的比值小于或等于0.5。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于深圳市縱維立方科技有限公司,未經深圳市縱維立方科技有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202222091070.5/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:發射電路及射頻組件
- 下一篇:一種生化系統高溫廢水降溫設備





