[實用新型]一種降低添加劑研磨水分的研磨裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202222083204.9
• 申請日: 2022-08-09
• 公開（公告）號: CN217594788U
• 公開（公告）日: 2022-10-18
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 張良勇;朱勝濤;季玉棟;王文枝;賈凱;崔志靜;李栓根;賈偉
• 申請（專利權(quán)）人: 新鄉(xiāng)化纖股份有限公司
• 主分類號: B02C19/20
• 分類號: B02C19/20;B02C23/02;F26B21/00
• 代理公司: 新鄉(xiāng)市平原智匯知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 41139
• 代理人: 石佳磊

1.一種降低添加劑研磨水分的研磨裝置，包括容筒（100）、支撐筒（200）、頂筒（300）和頂蓋（400），其特征在于：所述容筒（100）的底端面固定有內(nèi)撐架（101），所述內(nèi)撐架（101）的頂部中央固定有支撐筒（200），所述支撐筒（200）的頂部設(shè)置有磨臺（203），所述容筒（100）的內(nèi)頂部活動連接有頂筒（300），所述頂筒（300）內(nèi)固定有配合殼（301），所述配合殼（301）的底部與磨臺（203）之間留有細(xì)小的縫隙，所述頂筒（300）的上部活動連接有頂蓋（400）。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種降低添加劑研磨水分的研磨裝置，其特征在于：所述容筒（100）的周側(cè)下部固定有外筒（102），所述外筒（102）的周側(cè)固定有支撐架（106）。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種降低添加劑研磨水分的研磨裝置，其特征在于：所述外筒（102）的底端面固定有集中斗（103），所述集中斗（103）的外側(cè)固定連通有第一單向進(jìn)氣管（104），所述集中斗（103）的底部固定連通有輸出管（105）。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種降低添加劑研磨水分的研磨裝置，其特征在于：所述支撐筒（200）的內(nèi)底部固定有直立電機（201），所述直立電機（201）的輸出端固定有轉(zhuǎn)軸（202），所述轉(zhuǎn)軸（202）的頂端與磨臺（203）的底端面中央固定。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種降低添加劑研磨水分的研磨裝置，其特征在于：所述頂筒（300）的周側(cè)固定有支撐環(huán)（303），所述支撐環(huán)（303）的底端面固定在容筒（100）的頂端，所述配合殼（301）為空心結(jié)構(gòu)，所述配合殼（301）的頂部外側(cè)貫通開設(shè)有出料口（302）。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種降低添加劑研磨水分的研磨裝置，其特征在于：所述頂蓋（400）的頂部中央固定連通有輸料管（401），所述輸料管（401）的周側(cè)固定連通有第二單向進(jìn)氣管（402）。