[實用新型]一種離線低輻射鍍膜玻璃有效
| 申請號： | 202221698127.1 | 申請日： | 2022-06-30 |
| 公開（公告）號： | CN218025860U | 公開（公告）日： | 2022-12-13 |
| 發明（設計）人： | 李文君;劉自乾;潘杰 | 申請（專利權）人： | 湖南旗濱節能玻璃有限公司 |
| 主分類號： | C03C17/36 | 分類號： | C03C17/36 |
| 代理公司： | 深圳市世紀恒程知識產權代理事務所 44287 | 代理人： | 羅敏 |
| 地址： | 412200 湖南省*** | 國省代碼： | 湖南;43 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 離線 輻射 鍍膜 玻璃 | ||
1.一種離線低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，包括依次層疊設置的基板、第一功能層、保護層以及第二功能層；
其中，所述保護層包括鎳鉻合金層；
所述第一功能層包括輻射層，其中，所述輻射層包括氧化錫層和氧化銦層。
2.如權利要求1所述的離線低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述保護層的厚度為2nm～3nm。
3.如權利要求1所述的離線低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述輻射層的厚度為100nm～110nm。
4.如權利要求1所述的離線低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述第一功能層還包括依次層疊設置于所述基板一側的第一介電質層和第二介電質層，所述輻射層設于所述第二介電質層背離所述基板的一側；
其中，所述第一介電質層包括氮化硅層，所述第二介電質層包括氧化硅層。
5.如權利要求4所述的離線低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述第一介電質層的厚度為10nm～20nm，所述第二介電質層的厚度為15nm～20nm。
6.如權利要求1所述的離線低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述第二功能層包括沿遠離所述基板的方向依次層疊設置的第三介電質層和第四介電質層；
其中，所述第三介電質層包括氧化硅層，所述第四介電質層包括氮化硅層。
7.如權利要求6所述的離線低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述第三介電質層的厚度為10nm～20nm，所述第四介電質層的厚度為15nm～20nm。
8.如權利要求1所述的離線低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述離線低輻射鍍膜玻璃還包括強化層，所述強化層設于所述第二功能層遠離所述基板的一側，其中，所述強化層包括氧化鋯層。
9.如權利要求8所述的離線低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述強化層的厚度為2nm～3nm。
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