[實(shí)用新型]一種瓷磚的打磨拋光設(shè)備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202221250389.1
• 申請日: 2022-05-24
• 公開（公告）號: CN217530337U
• 公開（公告）日: 2022-10-04
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 歐軍;鄭華鋒;陳娟;劉永貴
• 申請（專利權(quán)）人: 四川利弘陶瓷有限公司
• 主分類號: B24B19/22
• 分類號: B24B19/22;B24B27/00;B24B55/06;B24B47/12;B24B41/06
• 代理公司: 成都欣圣知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 51292
• 代理人: 易丹

1.一種瓷磚的打磨拋光設(shè)備，其特征在于，包括：

機(jī)架；

底板，水平設(shè)于所述機(jī)架的下半部；

驅(qū)動機(jī)構(gòu)，設(shè)于所述機(jī)架的上半部，所述驅(qū)動機(jī)構(gòu)具有一個可橫向運(yùn)動和可縱向運(yùn)動的輸出端；

打磨電機(jī)，設(shè)于所述驅(qū)動機(jī)構(gòu)的輸出端上，且所述電機(jī)的輸出軸豎直向下并正對所述底板；

砂輪，可拆卸的設(shè)于所述打磨電機(jī)的輸出軸上；

其中，瓷磚可置于所述底板頂面，所述驅(qū)動機(jī)構(gòu)可驅(qū)動所述砂輪與所述瓷磚的任意位置接觸。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的瓷磚的打磨拋光設(shè)備，其特征在于，

所述底板的頂面設(shè)有若干定位塊。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的瓷磚的打磨拋光設(shè)備，其特征在于，

每個所述定位塊分別設(shè)于一個氣缸的活塞桿端部。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的瓷磚的打磨拋光設(shè)備，其特征在于，

所述底板上具有若干貫穿其頂面和底面的落塵孔。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的瓷磚的打磨拋光設(shè)備，其特征在于，所述驅(qū)動機(jī)構(gòu)包括：

兩根螺桿，分別橫置于所述底板的上方，兩根所述螺桿分別由一個縱移電機(jī)驅(qū)動其轉(zhuǎn)動；

支撐架，其兩端具有與兩根所述螺桿匹配的螺紋孔；

驅(qū)動架，位于所述支撐架的一側(cè)，且與所述支撐架之間具有間隔，其兩端同樣具有與兩根所述螺桿匹配的螺紋孔，且所述驅(qū)動架的側(cè)部具有齒條；

滑板，其兩端分別與所述支撐架和所述驅(qū)動架滑動連接；

平移電機(jī)，設(shè)于所述滑板上，其輸出軸上設(shè)有與所述齒條匹配的齒輪；

其中，所述打磨電機(jī)設(shè)于所述滑板上。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的瓷磚的打磨拋光設(shè)備，其特征在于，

所述支撐架的兩端具有折彎；

所述支撐架與所述驅(qū)動架的結(jié)構(gòu)相同。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的瓷磚的打磨拋光設(shè)備，其特征在于，所述驅(qū)動機(jī)構(gòu)還包括：

滑塊，中部具有貫穿其兩端的螺紋孔，所述滑塊與所述螺桿配合；

其中，所述支撐架和所述驅(qū)動架的兩端分別設(shè)有一個所述滑塊。

8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的瓷磚的打磨拋光設(shè)備，其特征在于，

所述螺桿的兩端與所述機(jī)架轉(zhuǎn)動連接；

所述縱移電機(jī)與所述機(jī)架固定連接。

9.根據(jù)權(quán)利要求5所述的瓷磚的打磨拋光設(shè)備，其特征在于，

兩根所述螺桿之間的間距大于等于所述底板的寬度。