[實用新型]一種鉑金坩堝煮沸清洗裝置有效
| 申請號： | 202221198744.5 | 申請日： | 2022-05-11 |
| 公開（公告）號： | CN217647034U | 公開（公告）日： | 2022-10-25 |
| 發明（設計）人： | 殷宏;太井超;閆學會 | 申請（專利權）人： | 天津鋼鐵集團有限公司 |
| 主分類號： | B08B3/10 | 分類號： | B08B3/10 |
| 代理公司： | 天津市鼎和專利商標代理有限公司 12101 | 代理人： | 范建良 |
| 地址： | 300301 *** | 國省代碼： | 天津;12 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 鉑金 坩堝 煮沸 清洗 裝置 | ||
【權利要求書】：
1.一種鉑金坩堝煮沸清洗裝置，包括燒杯，其特征在于：還包括設置在燒杯內的氣泡逃逸組件，所述氣泡逃逸組件包括最大外徑小于燒杯內徑的承載盤，承載盤的外圓周與燒杯之間形成環形氣泡逃逸空間；所述承載盤上設有氣泡逃逸孔，所述承載盤的底面設有支撐柱，所述承載盤的上部安裝有提手。
2.根據權利要求1所述的鉑金坩堝煮沸清洗裝置，其特征在于：所述承載盤采用聚四氟乙烯材料制成。
3.根據權利要求1所述的鉑金坩堝煮沸清洗裝置，其特征在于：所述支撐柱至少設有三個，且均布分布在承載盤的底部。
4.根據權利要求1所述的鉑金坩堝煮沸清洗裝置，其特征在于：所述支撐柱螺裝在承載盤的底面或者承載盤一體注塑成型。
5.根據權利要求1所述的鉑金坩堝煮沸清洗裝置，其特征在于：所述承載盤的外徑小于燒杯內徑3～5mm。
6.根據權利要求1所述的鉑金坩堝煮沸清洗裝置，其特征在于：所述承載盤上氣泡逃逸孔的直徑為5～6mm。
7.根據權利要求1所述的鉑金坩堝煮沸清洗裝置，其特征在于：所述提手包括剛性構件，包裹在剛性構件外表面的聚四氟乙烯保護層。
8.根據權利要求1所述的鉑金坩堝煮沸清洗裝置，其特征在于：所述提手為倒U型結構。
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