[實用新型]一種等離子清洗設備

有效

• 申請號: 202220909487.5
• 申請日: 2022-04-19
• 公開（公告）號: CN217251240U
• 公開（公告）日: 2022-08-23
• 發明（設計）人: 徐吉紅;周安;朱帥;董國慶
• 申請（專利權）人: 江西兆馳半導體有限公司
• 主分類號: B08B7/00
• 分類號: B08B7/00;B08B13/00
• 代理公司: 北京清亦華知識產權代理事務所(普通合伙) 11201
• 代理人: 何世磊

1.一種等離子清洗設備，包括機體、托盤及真空泵，其特征在于，所述機體內開設反應腔，所述真空泵連通所述反應腔，所述反應腔內自上而下設置上電極及下電極，所述反應腔內設置承載裝置，所述承載裝置位于所述上電極與所述下電極之間，所述承載裝置用于承載所述托盤，并驅動所述托盤進出所述反應腔。

2.根據權利要求1所述的等離子清洗設備，其特征在于，所述承載裝置包括驅動電機、絲桿及承載臺，所述機體的外側壁連接所述驅動電機，所述驅動電機電性連接所述絲桿，所述絲桿遠離所述驅動電機的一端穿過所述機體，并置于所述反應腔內，所述絲桿外套接所述承載臺。

3.根據權利要求2所述的等離子清洗設備，其特征在于，所述承載臺上設置定位機構，所述定位機構用于固定所述托盤。

4.根據權利要求3所述的等離子清洗設備，其特征在于，所述承載臺上開設放置槽，所述放置槽貫穿所述承載臺，且所述放置槽與所述托盤相對應，所述托盤的外側壁凸起形成搭接塊，當所述托盤置于所述放置槽內時，所述搭接塊抵接所述承載臺背向所述下電極的一面。

5.根據權利要求3所述的等離子清洗設備，其特征在于，所述承載臺朝向所述上電極的一面凸起形成定位塊，所述托盤的底部開設定位孔，通過將所述定位塊插接于所述定位孔內，以將所述托盤固定于所述承載臺上。

6.根據權利要求1所述的等離子清洗設備，其特征在于，所述托盤上設置若干個承片槽，若干個所述承片槽均勻分布于所述托盤上。

7.根據權利要求6所述的等離子清洗設備，其特征在于，若干個所述承片槽呈環形分布。

8.根據權利要求6所述的等離子清洗設備，其特征在于，所述托盤上開設取片槽，所述取片槽位于所述承片槽相對的兩端。

9.根據權利要求8所述的等離子清洗設備，其特征在于，所述取片槽連通所述承片槽，所述取片槽的底部為傾斜面，所述傾斜面與所述承片槽的底部形成鈍角。

10.根據權利要求1所述的等離子清洗設備，其特征在于，所述機體上設置控制總成，所述控制總成包括射頻功率源及射頻自動匹配器，所述射頻自動匹配器電性連接所述射頻功率源，所述射頻功率源用于向所述反應腔內提供正極功率。