[實用新型]一種輻射劑量探測器篩選系統有效
| 申請號: | 202220881359.4 | 申請日: | 2022-04-13 |
| 公開(公告)號: | CN217213178U | 公開(公告)日: | 2022-08-16 |
| 發明(設計)人: | 翟賀爭;武權;董輝;王彥;徐暢;蘇鍇駿;阮書州;崔明;吳香君;王曼瑤;張琪 | 申請(專利權)人: | 中國醫學科學院放射醫學研究所 |
| 主分類號: | G01T1/16 | 分類號: | G01T1/16;G01T7/00;G01B5/00;G01B11/14;B07C5/02;B07C5/346 |
| 代理公司: | 天津市尚儀知識產權代理事務所(普通合伙) 12217 | 代理人: | 孫喬喬 |
| 地址: | 300192 *** | 國省代碼: | 天津;12 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 輻射 劑量 探測器 篩選 系統 | ||
本實用新型公開了一種輻射劑量探測器篩選系統,所述篩選系統包括放射源、料盤、底座和基臺;所述放射源中設有激光測距模塊;所述料盤為三層層疊結構,由兩片外擋板和夾在其中間的限位擋板組成,所述限位擋板包括三種類型;所述料盤通過底座固定于高度可調的基臺上;所述底座包括第一底座和第二底座,第一底座和第二底座均包括底板和立板,兩塊立板夾緊料盤底部,使料盤保持直立;所述基臺包括活動基板,活動基板中心形成用于放置定位標尺的定位孔,自定位孔圓心向四周輻射出多條角度標識線。本實用新型通過全新的結構設計,定位精準,使用方便,實現多種不同類型的輻射劑量探測器的篩選。
技術領域
本實用新型涉及輻射劑量測量領域,具體為一種輻射劑量探測器篩選系統。
背景技術
為了保障輻射劑量探測器對射線響應結果的一致性,在探測器安裝于劑量計或劑量測試之前,需要經過一道很重要的程序,就是對其進行篩選。目前常用的輻射劑量探測器一致性的方式是將同一批次一定數量的探測器(圓片狀、玻璃管狀或方形等)放置在一個封閉的容器中并排擺放且固定后,整體放置在距離放射源一定的位置進行射線照射,再將其在同一測讀儀器上進行測量,將測讀數據基本一致的探測器留用。在放射源對其進行照射的過程中,既要保證劑量探測器在射野內均勻分布,又要保證射野的中心與放置劑量探測器區域的中心相重合,從而保證各個劑量探測器接受等量的輻射劑量。但實際篩選過程中,對劑量探測器的安放位置進行精確定位過程繁瑣,不易實施。
申請號為2019113882510的中國專利文獻提供了一種熱釋光輻照選片裝置,其主要包括上蓋板、下蓋板、螺絲孔和樣品槽,下蓋板上均勻分布有數個樣品槽,上蓋板上方設置有數個螺絲孔,上蓋板和下蓋板之間通過螺絲穿過螺絲孔連接固定。其將熱釋光固定在特定的單個熱釋光片槽內,在裝入輻照器內的過程中不會發生重疊等現象,確保篩選結果穩定可靠,裝置由于底部比較寬,四周平整,可以平行或者在豎立擺放在任何放射輻照裝置下進行有效照射。該裝置能夠用于熱釋光探測器的擺放和固定,但受限于安放探測器的類型和數量,同時也無法調整探測器對射線的角度,也不具備簡易安裝擺放和方便轉移探測器的功能。另外,2011年12月《計量學報》發表的《熱釋光探測器刻度中關于電子平衡的初步實驗研究》明確提出,熱釋光探測器刻度過程中應提供電子平衡厚度的材料,而上述對比文件無法實現。
鑒于此,需要設計一款輻射劑量探測器篩選系統,即適用于篩選各種類型的探測器,還可以根據需求選擇不同的照射角度,方便各種類型探測器的安放和固定的同時,也方便安裝和轉移探測器,可以進行批量照射,進而提高篩選效率。此外,還可根據現場實際輻照場射線能量的不同調整不同厚度的外擋板。
實用新型內容
本實用新型為了解決以上技術問題,提供一種輻射劑量探測器篩選系統。
為實現上述目的,本實用新型提供如下技術方案:
一種輻射劑量探測器篩選系統,包括放射源、料盤、底座和基臺;所述放射源中設有激光測距模塊;所述料盤為三層層疊結構,由兩片外擋板和夾在其中間的限位擋板組成,所述限位擋板包括三種類型;所述料盤通過底座固定于高度可調的基臺上;所述底座包括第一底座和第二底座,第一底座和第二底座均包括底板和立板,兩塊立板夾緊料盤底部,使料盤保持直立;所述基臺包括活動基板,活動基板中心形成用于放置定位標尺的定位孔,自定位孔圓心向四周輻射出多條角度標識線。
進一步的,所述限位擋板與外擋板的尺寸相同,且均為表面平整,厚度均勻的板材。
進一步的,所述基臺還包括主基板,主基板邊緣設有多根支撐柱,支撐柱外壁形成螺紋并嵌套螺母,活動基板穿設在多根支撐柱上。
進一步的,所述活動基板上表面設有水平泡。
進一步的,所述定位標尺本體為圓柱形,其外壁設有與其中軸線平行的第一刻度線和多條垂直于第一刻度線的第二刻度線;定位標尺下部形成托盤,托盤側壁形成第三刻度線;定位標尺的中軸線、第一刻度線、第三刻度線位于同一平面;每條第二刻度線對應的數值為該刻度線到托盤底面的垂直高度。
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