[實用新型]一種結(jié)晶器鋼水液位的電渦流檢測系統(tǒng)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202220875104.7
• 申請日: 2022-04-12
• 公開（公告）號: CN217465913U
• 公開（公告）日: 2022-09-20
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 劉衍青;王志春
• 申請（專利權(quán)）人: 內(nèi)蒙古科技大學(xué)
• 主分類號: G01F23/22
• 分類號: G01F23/22
• 代理公司: 北京律遠專利代理事務(wù)所(普通合伙) 11574
• 代理人: 全成哲

1.一種結(jié)晶器鋼水液位的電渦流檢測系統(tǒng)，其特征在于，包括結(jié)晶器裝置和渦流傳感器；

所述結(jié)晶器裝置包括主殼體以及凸設(shè)于主殼體的安裝殼體；

所述主殼體內(nèi)由上至下依次設(shè)置有空氣層、粉渣層、熔渣層以及鋼液層；

所述安裝殼體內(nèi)設(shè)置有低頻線圈組和高頻線圈組，所述低頻線圈組包括同心設(shè)置的低頻激勵線圈和低頻檢測線圈，所述低頻激勵線圈用于產(chǎn)生第一磁場，使鋼液層產(chǎn)生第一渦流信號；所述低頻檢測線圈用于檢測鋼液層內(nèi)變化的第一電壓值；所述高頻線圈組包括同心設(shè)置的高頻激勵線圈和高頻檢測線圈；所述高頻激勵線圈用于產(chǎn)生第二磁場，使熔渣層產(chǎn)生第二渦流信號；所述高頻檢測線圈用于檢測熔渣層內(nèi)變化的第二電壓值；

所述渦流傳感器設(shè)置在主殼體的內(nèi)側(cè)壁上，用于檢測鋼液層產(chǎn)生的第一渦流信號和熔渣層產(chǎn)生的第二渦流信號。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的結(jié)晶器鋼水液位的電渦流檢測系統(tǒng)，其特征在于，所述低頻線圈組的數(shù)量為兩組，兩組所述低頻線圈組間隔設(shè)置。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的結(jié)晶器鋼水液位的電渦流檢測系統(tǒng)，其特征在于，所述低頻激勵線圈的半徑小于所述低頻檢測線圈的半徑；所述低頻激勵線圈的匝數(shù)小于低頻檢測線圈的匝數(shù)。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的結(jié)晶器鋼水液位的電渦流檢測系統(tǒng)，其特征在于，所述低頻激勵線圈的厚度小于低頻檢測線圈的厚度。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的結(jié)晶器鋼水液位的電渦流檢測系統(tǒng)，其特征在于，所述高頻線圈組的數(shù)量為兩組，兩組所述高頻線圈組間隔設(shè)置。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的結(jié)晶器鋼水液位的電渦流檢測系統(tǒng)，其特征在于，所述高頻激勵線圈的半徑小于所述高頻檢測線圈的半徑；所述高頻激勵線圈的匝數(shù)小于高頻檢測線圈的匝數(shù)。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的結(jié)晶器鋼水液位的電渦流檢測系統(tǒng)，其特征在于，所述高頻激勵線圈的厚度等于所述高頻檢測線圈的厚度。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的結(jié)晶器鋼水液位的電渦流檢測系統(tǒng)，其特征在于，所述低頻檢測線圈的半徑大于所述高頻檢測線圈的半徑，所述低頻激勵線圈的半徑大于所述高頻激勵線圈的半徑。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的結(jié)晶器鋼水液位的電渦流檢測系統(tǒng)，其特征在于，所述低頻激勵線圈的激勵頻率大于所述高頻激勵線圈的激勵頻率。