[實(shí)用新型]維護(hù)基站及清潔機(jī)器人系統(tǒng)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202220727730.1
• 申請(qǐng)日: 2022-03-30
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN218738780U
• 公開(kāi)（公告）日: 2023-03-28
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 鄭連榮
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 深圳銀星智能集團(tuán)股份有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): A47L11/40
• 分類(lèi)號(hào): A47L11/40;A47L11/24;A47L11/283
• 代理公司: 北京市京大律師事務(wù)所 11321
• 代理人: 王文

1.一種維護(hù)基站，用于維護(hù)清潔機(jī)器人，所述清潔機(jī)器人包括機(jī)身底盤(pán)，其特征在于，所述維護(hù)基站包括：

基座；

清潔槽，與所述基座連接，所述清潔槽能夠容納清潔所述清潔機(jī)器人產(chǎn)生的污液；以及

滾刷，設(shè)置于所述清潔槽內(nèi)，所述滾刷可轉(zhuǎn)動(dòng)，使得所述滾刷能夠清掃所述清潔機(jī)器人的所述機(jī)身底盤(pán)。

2.如權(quán)利要求1所述的維護(hù)基站，其特征在于，還包括：

滾刷架，與所述清潔槽連接，所述滾刷活動(dòng)連接于所述滾刷架，使得所述滾刷能夠相對(duì)所述滾刷架作靠近或遠(yuǎn)離所述清潔槽槽底的運(yùn)動(dòng)。

3.如權(quán)利要求2所述的維護(hù)基站，其特征在于，根據(jù)所述滾刷與所述滾刷架之間的相對(duì)位置，所述滾刷具有第一狀態(tài)和第二狀態(tài)，其中：

在所述第一狀態(tài)，所述滾刷與所述清潔機(jī)器人的所述機(jī)身底盤(pán)接觸；

在所述第二狀態(tài)，所述滾刷與所述清潔機(jī)器人之間具有間隔。

4.如權(quán)利要求3所述的維護(hù)基站，其特征在于，所述清潔槽內(nèi)容納清潔液，在所述滾刷處于所述第一狀態(tài)下所述滾刷至少部分浸入所述清潔液。

5.如權(quán)利要求3所述的維護(hù)基站，其特征在于，所述滾刷還具有第三狀態(tài)，在所述第三狀態(tài)，所述滾刷與所述清潔槽的槽底接觸。

6.如權(quán)利要求2所述的維護(hù)基站，其特征在于，所述滾刷沿軸向的兩端部具有沿軸向延伸的凸出部，

所述滾刷架包括位于所述滾刷軸向兩端的條形槽，所述條形槽的延伸方向與所述清潔槽的槽底所在平面相交，所述凸出部伸入所述條形槽，并能夠相對(duì)所述條形槽滑動(dòng)。

7.如權(quán)利要求2所述的維護(hù)基站，其特征在于，所述滾刷架可水平活動(dòng)地連接于所述清潔槽，使得所述滾刷架能夠帶動(dòng)所述滾刷相對(duì)所述清潔槽水平移動(dòng)。

8.如權(quán)利要求1所述的維護(hù)基站，其特征在于，所述滾刷包括：

滾筒；以及

多束橡膠刷條，均布于所述滾筒的外周面。

9.一種清潔機(jī)器人系統(tǒng)，其特征在于，包括：

如權(quán)利要求1至8中任意一項(xiàng)所述的維護(hù)基站；以及

清潔機(jī)器人，所述清潔機(jī)器人能夠運(yùn)動(dòng)至所述維護(hù)基站的清潔槽上。

10.如權(quán)利要求9所述的清潔機(jī)器人系統(tǒng)，其特征在于，所述清潔機(jī)器人包括機(jī)身、行走件、清掃件、地面檢測(cè)件、拖擦件，所述機(jī)身包括機(jī)身底盤(pán)，所述行走件、所述清掃件、所述地面檢測(cè)件、所述拖擦件安裝于所述機(jī)身的所述機(jī)身底盤(pán)所在側(cè)，

所述滾刷還具有第四狀態(tài)，在所述第四狀態(tài)，所述滾刷活動(dòng)至脫離所述機(jī)身底盤(pán)并與所述行走件、所述清掃件、所述地面檢測(cè)件、或所述拖擦件相接觸。