[實用新型]分流裝置有效
| 申請號: | 202220650130.X | 申請日: | 2022-03-23 |
| 公開(公告)號: | CN217544549U | 公開(公告)日: | 2022-10-04 |
| 發明(設計)人: | 洪成都;曾麒文 | 申請(專利權)人: | 蘇州桔云科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/67 | 分類號: | H01L21/67 |
| 代理公司: | 北京市鑄成律師事務所 11313 | 代理人: | 王云紅;翟姝紅 |
| 地址: | 215000 江蘇省蘇州市蘇州*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 分流 裝置 | ||
1.一種分流裝置,用于分流化學藥液和清潔液,其特征在于,所述分流裝置包括:
座體結構;
殼體,包含彼此組合的罩蓋和槽體,所述槽體具有內圍流道和外圍流道;
中柱結構,立設于所述座體結構且具有內段,所述內段伸入所述殼體內,所述化學藥液和清潔液皆朝所述內段噴灑;
升降板,受動于所述座體結構而升降;
內分流罩,在所述殼體內環繞固定于所述中柱結構且具有對應于所述內圍流道的第一外周緣;以及
外分流罩,在所述殼體內同軸環繞所述內分流罩且具有對應于所述外圍流道的第二外周緣,所述外分流罩受動于所述升降板而能相對于所述內分流罩上升至靠近所述罩蓋和下降至遠離所述罩蓋;
其中,所述外分流罩經由受動上升而與所述內分流罩錯開,所述清潔液經由所述第一外周緣而落入所述內圍流道;所述外分流罩經由受動下降而與所述內分流罩共同組合成遮罩,所述化學藥液經由所述第二外周緣而落入所述外圍流道。
2.如權利要求1所述的分流裝置,其特征在于,所述座體結構包含固定座和設置于所述固定座的至少一個驅動器,所述中柱結構立設于所述固定座,所述至少一個驅動器驅動所述升降板升降。
3.如權利要求2所述的分流裝置,其特征在于,所述固定座設有至少一個導桿,所述至少一個導桿可活動地穿插所述升降板,所述至少一個導桿導引所述升降板升降。
4.如權利要求1所述的分流裝置,其特征在于,所述內段具有頂部,所述頂部高出于所述內分流罩和所述外分流罩,所述化學藥液和所述清潔液皆先朝所述頂部噴灑再流過所述內分流罩。
5.如權利要求1所述的分流裝置,其特征在于,所述升降板設有至少兩個連桿,所述至少兩個連桿可活動地穿過所述槽體并固定于所述外分流罩。
6.如權利要求5所述的分流裝置,其特征在于,所述槽體設有至少兩個穿孔,各所述連桿分別可活動地穿插于各所述穿孔。
7.如權利要求1所述的分流裝置,其特征在于,所述殼體靜置不動地與所述座體結構彼此相對配置。
8.如權利要求1所述的分流裝置,其特征在于,所述罩蓋為靜置不動的罩蓋。
9.如權利要求1所述的分流裝置,其特征在于,還包括至少一個噴液器,所述至少一個噴液器設置于所述殼體之外,所述殼體開設有上開口,所述至少一個噴液器經由所述上開口將所述化學藥液和清潔液噴灑到所述殼體內。
10.如權利要求1所述的分流裝置,其特征在于,所述內圍流道的內底面與所述外圍流道的內底面彼此等高。
11.如權利要求1所述的分流裝置,其特征在于,所述槽體具有至少三個上凸環墻,所述遮罩具有至少兩個下凸環墻,各所述上凸環墻分別與各所述下凸環墻彼此相向且彼此間隔并排,所述至少三個上凸環墻和所述至少兩個下凸環墻彼此交錯,所述槽體在所述至少三個上凸環墻之間形成有所述內圍流道和所述外圍流道。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





