[實用新型]基站及清潔系統有效
| 申請號: | 202220518376.1 | 申請日: | 2022-03-09 |
| 公開(公告)號: | CN217447585U | 公開(公告)日: | 2022-09-20 |
| 發明(設計)人: | 徐小偉;熊芳非;朱小剛;王奇;朱坤鵬 | 申請(專利權)人: | 美智縱橫科技有限責任公司 |
| 主分類號: | A47L11/24 | 分類號: | A47L11/24;A47L11/28;A47L11/40 |
| 代理公司: | 北京辰權知識產權代理有限公司 11619 | 代理人: | 王志紅 |
| 地址: | 215000 江蘇省*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 基站 清潔 系統 | ||
1.一種基站,其特征在于,包括:
站體,具有用于清洗清潔設備拖擦件的清洗槽;
第一水箱、第二水箱,設置在所述站體上,用于向清洗槽輸送清潔用水;
清潔液瓶,用于向所述清洗槽輸送清潔液,位于所述第一水箱和第二水箱之間,且所述站體上設置第一卡接結構,所述清潔液瓶上設置有與所述第一卡接結構卡接的第二卡接結構。
2.如權利要求1所述的基站,其特征在于,所述第一卡接結構為凸起,所述第二卡接結構為凹槽。
3.如權利要求1所述的基站,其特征在于,所述第一卡接結構為凹槽,所述第二卡接結構為凸起。
4.如權利要求2所述的基站,其特征在于,于所述站體上間隔設置兩個凸起,于所述清潔液瓶的相對兩側面開設兩個凹槽,所述清潔液瓶位于兩個凸起之間。
5.如權利要求2所述的基站,其特征在于,所述凸起具有第一導向面,所述凹槽具有與所述第一導向面適配的第二導向面。
6.如權利要求5所述的基站,其特征在于,所述第一導向面和第二導向面為斜面。
7.如權利要求1所述的基站,其特征在于,所述清潔液瓶倒置在所述第一水箱和第二水箱之間。
8.如權利要求2所述的基站,其特征在于,所述清潔液瓶包括:
瓶身,所述凹槽開設在所述瓶身上,且所述瓶身的頂部具有瓶口;
瓶蓋,設置在所述瓶口處;
瓶塞,所述瓶蓋將所述瓶塞固定在所述瓶口處。
9.如權利要求1-8任一項所述的基站,其特征在于,所述站體包括:
底座;
框架,設置在所述底座上,且所述第一水箱、第二水箱以及所述清潔液瓶設置在所述框架上。
10.一種清潔系統,其特征在于,包括清潔設備以及如權利要求1-9任一項所述的基站。
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