[實(shí)用新型]一種濕法蝕刻裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202220484817.0
• 申請(qǐng)日: 2022-03-08
• 公開（公告）號(hào): CN216413009U
• 公開（公告）日: 2022-04-29
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 李瑞評(píng);鄭賢良;曾柏翔;張佳浩;林明順
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 福建晶安光電有限公司
• 主分類號(hào): H01L21/306
• 分類號(hào): H01L21/306;H01L21/683;C30B33/10;B01F31/441;B01F35/90
• 代理公司: 北京漢之知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11479
• 代理人: 高園園

1.一種濕法蝕刻裝置，其特征在于，包括：

蝕刻槽，所述蝕刻槽包括外槽及內(nèi)槽，所述內(nèi)槽設(shè)置在所述外槽中，所述內(nèi)槽設(shè)置為上方開口的結(jié)構(gòu)，用于容納待蝕刻的襯底，并且所述內(nèi)槽的上表面低于所述外槽的上表面，蝕刻過(guò)程中，所述外槽中的蝕刻溶液的液面低于所述內(nèi)槽的上表面，所述內(nèi)槽中的蝕刻液自所述內(nèi)槽的上方開口溢出至所述外槽，所述內(nèi)槽的側(cè)壁在靠近所述內(nèi)槽底部的一端設(shè)置有回液口，所述外槽中的蝕刻液經(jīng)所述回液口回流至所述內(nèi)槽；及

支撐結(jié)構(gòu)，用于放置待蝕刻的所述襯底，所述支撐結(jié)構(gòu)與所述內(nèi)槽對(duì)應(yīng)設(shè)置，并且設(shè)置為沿所述內(nèi)槽的高度方向可上下移動(dòng)，以帶動(dòng)所述襯底進(jìn)入內(nèi)槽中的蝕刻液中以開始蝕刻，或帶動(dòng)所述襯底自所述內(nèi)槽的蝕刻液中離開以停止蝕刻。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的濕法蝕刻裝置，其特征在于，還包括循環(huán)泵，所述循環(huán)泵設(shè)置為將所述外槽中的蝕刻溶液抽回至所述內(nèi)槽。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的濕法蝕刻裝置，其特征在于，所述內(nèi)槽和所述外槽內(nèi)還設(shè)置有加熱裝置。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的濕法蝕刻裝置，其特征在于，還包括控制裝置，所述控制裝置與所述加熱裝置連接，用于控制所述加熱裝置的加熱溫度及加熱時(shí)間。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的濕法蝕刻裝置，其特征在于，所述支撐結(jié)構(gòu)包括：

支撐座，用于放置所述襯底；以及

旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，所述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)與所述支撐座連接并且垂直于所述支撐座的表面設(shè)置，所述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)帶動(dòng)所述支撐座360°旋轉(zhuǎn)。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的濕法蝕刻裝置，其特征在于，還包括控制裝置，所述控制裝置與所述支撐結(jié)構(gòu)連接，用于控制所述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)的旋轉(zhuǎn)速率及旋轉(zhuǎn)時(shí)間。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的濕法蝕刻裝置，其特征在于，還包括蝕刻液供給裝置，與所述內(nèi)槽連接，用于向所述內(nèi)槽提供蝕刻液。

8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的濕法蝕刻裝置，其特征在于，還包括驅(qū)動(dòng)裝置，所述驅(qū)動(dòng)裝置用于驅(qū)動(dòng)所述支撐結(jié)構(gòu)沿所述內(nèi)槽的高度方向上下移動(dòng)和/或驅(qū)動(dòng)所述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)的旋轉(zhuǎn)。

9.根據(jù)權(quán)利要求5所述的濕法蝕刻裝置，其特征在于，還包括感應(yīng)器，所述感應(yīng)器設(shè)置在所述支撐座上，用于在蝕刻過(guò)程中感測(cè)所述襯底的導(dǎo)電率以判斷蝕刻終點(diǎn)。