[實(shí)用新型]一種介入支架系統(tǒng)檢驗(yàn)平臺(tái)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202220482042.3 | 申請(qǐng)日: | 2022-03-07 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN217005739U | 公開(kāi)(公告)日: | 2022-07-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 汪立;陳蕊;朱磊 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 上海百心安生物技術(shù)股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | G01B21/00 | 分類號(hào): | G01B21/00;B08B3/12 |
| 代理公司: | 暫無(wú)信息 | 代理人: | 暫無(wú)信息 |
| 地址: | 200120 上海市浦東新區(qū)張*** | 國(guó)省代碼: | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 介入 支架 系統(tǒng) 檢驗(yàn) 平臺(tái) | ||
1.一種介入支架系統(tǒng)檢驗(yàn)平臺(tái),其特征在于:包括:
底座(1);
檢測(cè)模塊,包括第一模塊(2)與第二模塊(3),所述第一模塊(2)與第二模塊(3)之間設(shè)置有一定間距,所述第一模塊(2)與第二模塊(3)的頂面中間位置處分別開(kāi)設(shè)有橫向設(shè)置的第一搭載凹槽(2-2)與第二搭載凹槽(3-2),且所述第一搭載凹槽(2-2)的中軸線與第二搭載凹槽(3-2)的中軸線保持在同一水平線上,所述第一搭載凹槽(2-2)的一側(cè)開(kāi)設(shè)有等徑凹槽(2-3);
所述第一模塊(2)內(nèi)部設(shè)置有第一磁鐵(2-4),所述第二模塊(3)設(shè)置有第二磁鐵(3-3)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種介入支架系統(tǒng)檢驗(yàn)平臺(tái),其特征在于:所述第一搭載凹槽(2-2)與第二搭載凹槽(3-2)均設(shè)計(jì)為中間段等徑,末端半徑逐漸變大的喇叭形。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種介入支架系統(tǒng)檢驗(yàn)平臺(tái),其特征在于:所述等徑凹槽(2-3)的各段直徑保持一致,開(kāi)槽直徑為支架系統(tǒng)支架段的接受上限。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種介入支架系統(tǒng)檢驗(yàn)平臺(tái),其特征在于:所述底座(1)的底部開(kāi)設(shè)有兩組貫穿孔(1-1)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種介入支架系統(tǒng)檢驗(yàn)平臺(tái),其特征在于:所述第一模塊(2)與第二模塊(3)的底部分別開(kāi)設(shè)有第一通孔(2-1)與第二通孔(3-1),所述第一通孔(2-1)和第二通孔(3-1)的直徑均與貫穿孔(1-1)的直徑一致。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種介入支架系統(tǒng)檢驗(yàn)平臺(tái),其特征在于:所述第一磁鐵(2-4)設(shè)置于第一通孔(2-1)的內(nèi)部,所述第二磁鐵(3-3)設(shè)置于第二通孔(3-1)的內(nèi)部。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種介入支架系統(tǒng)檢驗(yàn)平臺(tái),其特征在于:所述第一模塊(2)與第二模塊(3)通過(guò)螺栓固定設(shè)置于底座(1)上。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種介入支架系統(tǒng)檢驗(yàn)平臺(tái),其特征在于:所述第一模塊(2)與第二模塊(3)的間隙上方設(shè)置有光源和顯微觀測(cè)系統(tǒng)。
9.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種介入支架系統(tǒng)檢驗(yàn)平臺(tái),其特征在于:所述第一通孔(2-1)位于第一搭載凹槽(2-2)的正下方,且所述第一通孔(2-1)的頂部與第一搭載凹槽(2-2)底部存在一定的間距。
10.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種介入支架系統(tǒng)檢驗(yàn)平臺(tái),其特征在于:所述第二通孔(3-1)位于第二搭載凹槽(3-2)的正下方,且所述第二通孔(3-1)的頂部與第二搭載凹槽(3-2)底部存在一定的間距。
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