[實(shí)用新型]一種用于化學(xué)沉積的沉積處理設(shè)備

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202220462113.3
• 申請(qǐng)日: 2022-03-04
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN216947183U
• 公開(kāi)（公告）日: 2022-07-12
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 馮嘉荔;鐘興進(jìn);何淑英
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 廣州市鴻浩光電半導(dǎo)體有限公司
• 主分類號(hào): C23C16/44
• 分類號(hào): C23C16/44;C23C16/54;C23C16/458
• 代理公司: 廣州正馳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 44536
• 代理人: 唐傳妹

1.一種用于化學(xué)沉積的沉積處理設(shè)備，包括底座(1)，其特征在于：所述底座(1)的頂部連接有立架(2)，所述立架(2)的上端連接有處理箱(3)，所述處理箱(3)的上端開(kāi)口設(shè)置，所述處理箱(3)的左右兩側(cè)壁對(duì)稱連接有下支座(4)，所述下支座(4)的頂部連接有電動(dòng)推桿(5)，兩個(gè)所述電動(dòng)推桿(5)的頂部活動(dòng)端共同連接有封蓋(6)，所述封蓋(6)的中部貫穿有進(jìn)氣管(7)，所述進(jìn)氣管(7)的下端連接有布?xì)夤?8)，所述處理箱(3)的下端中心安裝有中轉(zhuǎn)軸(9)，所述中轉(zhuǎn)軸(9)的頂部連接有置料架(10)，所述置料架(10)的頂部設(shè)有襯底(11)，所述置料架(10)內(nèi)嵌設(shè)有加熱絲(12)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于化學(xué)沉積的沉積處理設(shè)備，其特征在于：所述中轉(zhuǎn)軸(9)與處理箱(3)之間安裝有密封軸承(13)，所述中轉(zhuǎn)軸(9)的下端連接有的錐齒輪一(14)，所述處理箱(3)的底部右側(cè)連接有減速電機(jī)(15)，所述減速電機(jī)(15)的動(dòng)力輸出端連接有錐齒輪二(16)，所述錐齒輪二(16)嚙合連接錐齒輪一(14)。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于化學(xué)沉積的沉積處理設(shè)備，其特征在于：所述處理箱(3)的底部連接有感應(yīng)線圈(17)，所述感應(yīng)線圈(17)所在平面與置料架(10)上端面平行設(shè)置，所述底座(1)的頂部連接有交流電源(18)，所述感應(yīng)線圈(17)電性連接交流電源(18)。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于化學(xué)沉積的沉積處理設(shè)備，其特征在于：所述底座(1)的頂部連接有尾氣箱(19)，所述尾氣箱(19)內(nèi)設(shè)有吸收液，所述處理箱(3)的底部連通有排氣管(20)，所述排氣管(20)下端伸入吸收液中，所述排氣管(20)中安裝有電磁閥(21)，所述尾氣箱(19)的頂部開(kāi)設(shè)有排氣口(22)。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于化學(xué)沉積的沉積處理設(shè)備，其特征在于：所述處理箱(3)內(nèi)壁與封蓋(6)底面均設(shè)有保溫層。