[實用新型]一種等離子體技術(shù)降低電子化學(xué)品中金屬離子含量的裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202220454313.4
• 申請日: 2022-03-03
• 公開（公告）號: CN217498763U
• 公開（公告）日: 2022-09-27
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 李月慧;馬彥利;王梅
• 申請（專利權(quán)）人: 明士新材料有限公司
• 主分類號: C02F1/46
• 分類號: C02F1/46
• 代理公司: 深圳泛航知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 44867
• 代理人: 鄧愛軍

1.一種等離子體技術(shù)降低電子化學(xué)品中金屬離子含量的裝置，其特征在于：包括用于盛放高端電子化學(xué)品的內(nèi)反應(yīng)釜和設(shè)置于所述內(nèi)反應(yīng)釜外部的外反應(yīng)釜，所述內(nèi)反應(yīng)釜和所述外反應(yīng)釜之間形成冷卻夾層，所述內(nèi)反應(yīng)釜的底端設(shè)置有物料進口，所述內(nèi)反應(yīng)釜的底端設(shè)置有物料出口，所述內(nèi)反應(yīng)釜中設(shè)置有等離子機構(gòu)，所述冷卻夾層的頂端和底端分別設(shè)置有出水口和進水口，所述進水口和所述出水口之間設(shè)置有水循環(huán)機構(gòu)；

所述等離子機構(gòu)包括內(nèi)層石英和設(shè)置于所述內(nèi)層石英外部的外層石英，所述外層石英的外部設(shè)置有不銹鋼絲網(wǎng)，所述內(nèi)層石英和所述外層石英之間形成用于盛放氣體介質(zhì)的儲存腔，所述儲存腔的頂端與進氣口相連通，所述儲存腔的底端與所述內(nèi)反應(yīng)釜的內(nèi)部相連通，所述不銹鋼絲網(wǎng)與供電組件相連接，所述內(nèi)層石英中內(nèi)部設(shè)置有導(dǎo)電銅粉。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種等離子體技術(shù)降低電子化學(xué)品中金屬離子含量的裝置，其特征在于：所述供電組件包括等離子電源、示波器和電腦，所述電腦依次經(jīng)所述示波器和所述等離子電源與所述不銹鋼電網(wǎng)相連接。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種等離子體技術(shù)降低電子化學(xué)品中金屬離子含量的裝置，其特征在于：所述內(nèi)反應(yīng)釜中設(shè)置有溫度計。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種等離子體技術(shù)降低電子化學(xué)品中金屬離子含量的裝置，其特征在于：所述內(nèi)反應(yīng)釜中設(shè)置有攪拌槳，所述攪拌槳的頂端與攪拌棒的一端相連接，所述攪拌棒的另一端與用于驅(qū)動其轉(zhuǎn)動的動力源相連接。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種等離子體技術(shù)降低電子化學(xué)品中金屬離子含量的裝置，其特征在于：所述冷卻夾層的側(cè)面還設(shè)置有補水口，所述補水口的位于所述進水口和所述出水口之間，所述補水口與所述水循環(huán)機構(gòu)相連通。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種等離子體技術(shù)降低電子化學(xué)品中金屬離子含量的裝置，其特征在于：所述水循環(huán)機構(gòu)包括水箱、隔板、出水管路和進水管路，所述隔板將所述水箱分別儲水區(qū)和冷卻區(qū)，所述隔板的頂端與所述水箱之間留有溢流通道，所述進水口和所述補水口均通過所述出水管路與所述冷卻區(qū)相連通，所述出水管路上設(shè)置有水泵，所述出水口通過進水管路與所述儲水區(qū)相連通，所述冷卻區(qū)設(shè)置有冷卻單元。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種等離子體技術(shù)降低電子化學(xué)品中金屬離子含量的裝置，其特征在于：所述進水口、所述補水口和所述出水口均設(shè)置有閥門。