[實用新型]一種上蓋及真空干燥裝置

有效

• 申請號: 202220390442.1
• 申請日: 2022-02-25
• 公開（公告）號: CN216817172U
• 公開（公告）日: 2022-06-24
• 發明（設計）人: 王帥
• 申請（專利權）人: 昆山龍騰光電股份有限公司
• 主分類號: G03F7/38
• 分類號: G03F7/38
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司 11332
• 代理人: 袁微微

本實用新型涉及顯示面板制造設備技術領域，公開了一種上蓋及真空干燥裝置。真空干燥裝置包括上蓋和底座，上蓋扣合在底座上，上蓋上開設有制程凹槽，當上蓋蓋設于底座上后圍設形成制程腔室，上蓋上還開設有壓力平衡腔室，壓力平衡腔室與制程凹槽至少共用一個壁板，壓力平衡腔室與制程腔室保持相同的壓力。本實用新型的上蓋中制程腔室的壁板不會發生凹陷變形，從而保證制程腔室形狀穩定、壓力變化均勻，進而保證玻璃基板的良品率，且從根本上杜絕了制程腔室壁板的變形，不需要定期檢測和更換，從而能提高生產效率、減少人力需求、降低生產成本。真空干燥裝置通過采用上述上蓋，良品率高、生產效率高、成本低，人力需求少。

技術領域

本實用新型涉及顯示面板制造設備技術領域，尤其涉及一種上蓋及真空干燥裝置。

背景技術

在顯示面板制造過程中，光刻是不可或缺的制程。光刻制程包括在玻璃基板上涂布光阻和對光阻進行真空干燥(Vacuum Drying，VCD)。真空干燥制程是利用真空環境使光阻中的溶劑揮發，使光阻具有一定的硬度。

圖1為現有技術提供的真空干燥裝置的結構示意圖，如圖1所示，真空干燥裝置包括底座1′、上蓋2′及真空泵3′，上蓋2′可以蓋設在底座1′上，以圍成制程腔室4′，制程腔室4′用于容納涂布有光阻的玻璃基板5′，真空泵3′與制程腔室4′連通。在進行真空干燥制程時，真空泵3′將制程腔室4′由大氣壓逐漸抽成真空(或接近真空)的狀態，最后對制程腔室4′進行釋壓以完成真空干燥制程。由于外部大氣壓高于制程腔室4′內的壓力，因此大氣壓會擠壓上蓋2′并使上蓋2′(尤其是表面積較大的側壁)產生變形，長期使用后上蓋2′抗變形能力變差，中部內凹。在真空泵3′逐漸將制程腔室4′抽成真空的過程中，因上蓋2′的變形會導致制程腔室4′內不同部位處的壓力變化不均勻，從而使不同部位的光阻中溶劑的揮發速度不均勻，進而影響玻璃基板5′的良品率。

現有技術中，為了保證玻璃基板的良品率，通常每間隔一定時間就需要對上蓋的形狀精度進行檢測，當上蓋的變形量超過一定范圍時，則需要更換新的上蓋。定期檢測不僅增加了人力需求，還影響生產效率，更換新上蓋則會導致玻璃基板的生產成本增加。

因此，亟待需要一種上蓋及真空干燥裝置來解決上述技術問題。

實用新型內容

本實用新型的一個目的在于提出一種上蓋，其構成制程腔室的部分不易變形，從而能保證制程腔室內壓力變化均勻，提高良品率。

本實用新型的另一個目的在于提出一種真空干燥裝置，通過采用上述的上蓋，良品率高、生產成本低，且維護過程所需的人力少。

為達此目的，本實用新型采用以下技術方案：

一種上蓋，用于與真空干燥裝置的底座配合，所述上蓋上開設有制程凹槽，以使所述上蓋蓋設于所述底座上后圍設形成制程腔室，所述上蓋上還開設有壓力平衡腔室，所述壓力平衡腔室與所述制程凹槽至少共用一個壁板，所述壓力平衡腔室與所述制程腔室保持相同的壓力。

優選地，所述上蓋用于與所述底座配合的表面上設置有定位凹槽，所述定位凹槽環設于所述制程凹槽，所述定位凹槽與所述底座上的密封條凹凸配合。

優選地，所述上蓋上開設有第一抽氣通道，所述第一抽氣通道一端與所述壓力平衡腔室相連通，另一端與真空泵連通。

優選地，所述上蓋包括橫截面為“冖”字型的支撐部，所述支撐部圍設形成所述制程凹槽，所述壓力平衡腔室設置于所述支撐部上側，并與所述制程凹槽共用所述支撐部頂部的壁板。

優選地，所述上蓋包括橫截面為“冖”字型的支撐部，所述支撐部圍設形成所述制程凹槽，所述壓力平衡腔室包圍于所述支撐部，并與所述制程凹槽共用所述支撐部多個壁板。

一種真空干燥裝置，包括底座和所述的上蓋，所述上蓋能夠蓋設于所述底座上以圍設形成制程腔室，所述制程腔室和所述壓力平衡腔室內保持相同的壓力。