[實用新型]一種半導體晶片研磨機的液體磨料供給裝置有效
| 申請號: | 202220281894.6 | 申請日: | 2022-02-11 |
| 公開(公告)號: | CN216940148U | 公開(公告)日: | 2022-07-12 |
| 發明(設計)人: | 何淑英;何浩梁;馮嘉荔;黃永欽 | 申請(專利權)人: | 廣州市鴻浩光電半導體有限公司 |
| 主分類號: | B24B57/02 | 分類號: | B24B57/02;B24B37/34;B24B37/08 |
| 代理公司: | 廣州正馳知識產權代理事務所(普通合伙) 44536 | 代理人: | 唐傳妹 |
| 地址: | 510000 廣東省廣州市*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 半導體 晶片 研磨機 液體 磨料 供給 裝置 | ||
1.一種半導體晶片研磨機的液體磨料供給裝置,包括研磨機箱(1),其特征在于:所述研磨機箱(1)的內底壁固定安裝有兩個對稱設置的電動推桿(2),且電動推桿(2)的頂端固定連接有密封載板(3),所述密封載板(3)密封滑動安裝于研磨機箱(1)內,且密封載板(3)的頂部設有研磨座(4),所述研磨座(4)的頂部設有研磨渠,且研磨渠內設有下磨盤(5),所述研磨機箱(1)的頂部安裝有驅動電機a(6),且驅動電機a(6)的輸出端固定連接有轉軸(7),所述轉軸(7)的底端延伸至研磨機箱(1)內并固定連接有上磨盤(8),且上磨盤(8)位于下磨盤(5)的正上方,所述研磨機箱(1)的右側開設有料口(9),且料口(9)的高度與上磨盤(8)相對應,所述研磨機箱(1)內安裝有液體料筒(10),且液體料筒(10)的底部連通有供料管(11),所述供料管(11)內設有閉合機構。
2.根據權利要求1所述的一種半導體晶片研磨機的液體磨料供給裝置,其特征在于:所述閉合機構包括出孔(12)和動活塞(13),所述動活塞(13)密封滑動安裝于供料管(11)內,所述供料管(11)靠近上磨盤(8)的一側開設出孔(12),且出孔(12)的出口處朝向上磨盤(8)的下方,所述動活塞(13)上設有驅動其發生滑動的動力機構。
3.根據權利要求2所述的一種半導體晶片研磨機的液體磨料供給裝置,其特征在于:所述動力機構包括驅動電機b(14)、轉盤(15)、聯動推桿(16)和橫設軸(17),所述驅動電機b(14)固定安裝于研磨機箱(1)的內壁,且驅動電機的輸出端固定連接轉盤(15),所述轉盤(15)上通過銷軸轉動安裝有聯動推桿(16),且聯動推桿(16)的另一端鉸接于動活塞(13)的底部。
4.根據權利要求1所述的一種半導體晶片研磨機的液體磨料供給裝置,其特征在于:所述液體料筒(10)的內壁轉動安裝有橫設軸(17),且橫設軸(17)的表面固定安裝有攪拌桿(18),所述攪拌桿(18)的右端延伸至液體料筒(10)外并固定連接有錐形齒輪a(19),所述轉軸(7)的表面固定安裝有錐形齒輪b(20),且錐形齒輪b(20)與錐形齒輪a(19)嚙合。
5.根據權利要求1所述的一種半導體晶片研磨機的液體磨料供給裝置,其特征在于:所述研磨機箱(1)的右側固定連接有L型承板(21),且L型承板(21)上放置有敞口的收液皿(22),所述收液皿(22)位于料口(9)的下方。
6.根據權利要求1所述的一種半導體晶片研磨機的液體磨料供給裝置,其特征在于:所述密封載板(3)的頂部開設有限位置槽(23),所述研磨座(4)放置于限位置槽(23)內,且晶片置于上磨盤(8)上。
7.根據權利要求1所述的一種半導體晶片研磨機的液體磨料供給裝置,其特征在于:所述液體料筒(10)內連通有補料管(24),且補料管(24)的另一端延伸至研磨機箱(1)外。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于廣州市鴻浩光電半導體有限公司,未經廣州市鴻浩光電半導體有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202220281894.6/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





