[實用新型]一種推流式電解除垢系統(tǒng)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202220235055.0
• 申請日: 2022-01-27
• 公開（公告）號: CN217051726U
• 公開（公告）日: 2022-07-26
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 余智勇;王凡;王金意;任志博;張暢;王鵬杰
• 申請（專利權(quán)）人: 中國華能集團清潔能源技術(shù)研究院有限公司;四川華能氫能科技有限公司;華能集團技術(shù)創(chuàng)新中心有限公司;四川華能太平驛水電有限責任公司;四川華能寶興河水電有限責任公司;四川華能嘉陵江水電有限責任公司;四川華能東西關(guān)水電股份有限公司;四川華能康定水電有限責任公司;四川華能涪江水電有限責任公司;華能明臺電力有限責任公司
• 主分類號: C02F1/461
• 分類號: C02F1/461;B08B3/12
• 代理公司: 北京清亦華知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11201
• 代理人: 黃垚琳

本申請?zhí)岢鲆环N推流式電解除垢系統(tǒng)，包括電解槽、與所述電解槽連通設(shè)置的沉淀槽和設(shè)置于所述電解槽和所述沉淀槽之間的隔板，所述電解槽內(nèi)的廢水經(jīng)過所述隔板流入所述沉淀槽內(nèi)，還包括設(shè)置于所述電解槽內(nèi)側(cè)壁的超聲發(fā)生組件，所述超聲發(fā)生組件朝向所述電極板組件設(shè)置，通過設(shè)立電解槽以及與其連通的沉淀槽，電解槽對廢水進行電解沉淀，并流經(jīng)沉淀槽進行二次沉降，比現(xiàn)有單獨罐體的結(jié)垢，強化了結(jié)垢物質(zhì)的沉淀分離，減少了結(jié)垢物質(zhì)對后續(xù)設(shè)備、管道等的影響，通過設(shè)立超聲發(fā)生組件對電極板組件的進行物理清洗，比現(xiàn)有的機械刮除方式，強化了極板的清洗恢復(fù)效果。

技術(shù)領(lǐng)域

本申請涉及廢水處理技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種推流式電解除垢系統(tǒng)。

背景技術(shù)

以工業(yè)循環(huán)冷卻水為代表，若水體中硬度或堿度較高，在使用過程中容易結(jié)垢，影響設(shè)備換熱效率或堵塞管道，通常可以采用采用軟化水或投加阻垢劑的方式以控制鈣、鎂硬度離子的結(jié)垢傾向。但是，使用軟化水的成本較高，工業(yè)上很少采用，而投加阻垢劑則容易帶來二次污染。

電化學方法能夠通過陰極的原位反應(yīng)產(chǎn)生強堿性環(huán)境，實現(xiàn)循環(huán)水中鈣、鎂等硬度離子的沉淀，是一種很有潛力的循環(huán)水除垢技術(shù)。然而，已有的電解除垢反應(yīng)器通常采用罐式，以筒壁為陰極，存在如下問題：一是，反應(yīng)器的沉淀效果較差，結(jié)垢物質(zhì)容易被水流帶出反應(yīng)器進入循環(huán)水中，沉積在水池、管道或換熱器表面；二是，需要額外增加轉(zhuǎn)刷對筒壁的結(jié)垢物質(zhì)進行清掃，由于結(jié)垢物質(zhì)附著較強，清理效果較差，長時間運轉(zhuǎn)影響陰極的除垢效果，轉(zhuǎn)刷也容易出現(xiàn)機械故障。

發(fā)明內(nèi)容

本申請旨在至少在一定程度上解決相關(guān)技術(shù)中的技術(shù)問題之一。

為此，本申請的目的在于提出一種推流式電解除垢系統(tǒng)，通過設(shè)立電解槽以及與其連通的沉淀槽，電解槽對廢水進行電解沉淀，并流經(jīng)沉淀槽進行二次沉降，比現(xiàn)有單獨罐體的結(jié)垢，強化了結(jié)垢物質(zhì)的沉淀分離，減少了結(jié)垢物質(zhì)對后續(xù)設(shè)備、管道等的影響，通過設(shè)立超聲發(fā)生組件對電極板組件的進行物理清洗，比現(xiàn)有的機械刮除方式，強化了極板的清洗恢復(fù)效果。

為達到上述目的，本申請?zhí)岢龅囊环N推流式電解除垢系統(tǒng)，包括電解槽、與所述電解槽連通設(shè)置的沉淀槽和設(shè)置于所述電解槽和所述沉淀槽之間的隔板，所述電解槽內(nèi)的廢水經(jīng)過所述隔板流入所述沉淀槽內(nèi)，所述電解槽內(nèi)設(shè)置有電極板組件，所述電極板組件和所述電解槽內(nèi)的廢水流向同向布置，還包括設(shè)置于所述電解槽內(nèi)側(cè)壁的超聲發(fā)生組件，所述超聲發(fā)生組件朝向所述電極板組件設(shè)置。

進一步地，所述隔板包括第一板體和第二板體，所述第一板體懸設(shè)于所述電解槽的內(nèi)壁，所述第一板體的下端和所述電解槽的底壁間隔設(shè)置，所述第二板體設(shè)置于所述沉淀槽的進水口處，所述第二板體的上端和所述沉淀槽的槽口平齊。

進一步地，所述超聲發(fā)生組件在所述電解槽內(nèi)壁的垂直投影長度至少大于所述電極板組件在所述電解槽內(nèi)壁的垂直投影長度。

進一步地，所述超聲發(fā)生組件包括多個超聲發(fā)生器，多個所述超聲發(fā)生器在所述電解槽的內(nèi)側(cè)壁上間隔布置。

進一步地，所述第二板體的上邊部為鋸齒形結(jié)構(gòu)。

進一步地，所述電解槽的底部為漏斗結(jié)構(gòu)。

進一步地，所述沉淀槽的底部包括斜坡結(jié)構(gòu)，所述斜坡結(jié)構(gòu)沿著廢水流向傾斜設(shè)置。

進一步地，所述電極板組件包括支架和間隔排列設(shè)置于所述支架上的多個電極板。

進一步地，所述電極板包括陽極板和陰極板，所述陽極板和所述陰極板間隔交錯布置。

進一步地，還包括稀酸儲罐，所述稀酸儲罐通過管路和所述電解槽連通。

本申請附加的方面和優(yōu)點將在下面的描述中部分給出，部分將從下面的描述中變得明顯，或通過本申請的實踐了解到。

附圖說明