[實用新型]密封件鍍膜設備

有效

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• 申請日: 2022-01-27
• 公開（公告）號: CN217298008U
• 公開（公告）日: 2022-08-26
• 發(fā)明（設計）人: 朱昆;顏學慶;曹健輝;劉瑋;馬偉;陳惠君;曹禎燁;杜翰翔;郝坤翔;李冬娜;劉曉蘭
• 申請（專利權）人: 瑞昌鼎新半導體工業(yè)有限公司;等離子體裝備科技（廣州）有限公司;廣東省新興激光等離子體技術研究院
• 主分類號: C23C16/50
• 分類號: C23C16/50;C23C16/54
• 代理公司: 廣州市律帆知識產權代理事務所(普通合伙) 44614
• 代理人: 王園園

本申請涉及一種密封件鍍膜設備，所述密封件鍍膜設備包括：清潔腔室鍍膜腔室密封件固定裝置；所述固定裝置用于放置入所述清潔腔室和鍍膜腔室內；所述清潔腔室在真空環(huán)境下等離子體對所述固定裝置上的密封件表面進行清潔處理；所述鍍膜腔室在真空環(huán)境下采用化學氣相沉積工藝對鍍膜腔室中所述固定裝置上的密封件表面進行鍍膜；該技術方案，極大地提高了鍍膜效率，并且能夠提升薄膜沉積的膜層質量。

技術領域

本申請涉及真空鍍膜技術領域，尤其是涉及一種密封件鍍膜設備。

背景技術

密封件是用途廣泛的器件，在醫(yī)藥應用領域，密封件可以用于封裝藥品，其類型眾多，包括膠塞、瓶蓋等；可用于密封各類疫苗、注射劑、生物制劑、抗生素、輸液、血液、抗腫瘤藥物等等，由于密封件是直接接觸容器內藥品的包裝材料，導致密封件和藥品之間發(fā)生活性成分的遷移，吸附甚至發(fā)生化學反應，使藥物失效，有的還會產生嚴重的副作用。

為了保證藥品運輸和保存的安全性與穩(wěn)定性，需要改善密封件與藥品之間的相容性，常用技術手段是在密封件表面上添加一層化學穩(wěn)定且低離子遷移率的保護膜，可以很好地緩解這一現象，加工方法一般采用涂膜、覆膜、鍍膜，效果較好的方式是采用化學氣相沉積(CVD)在密封件表面沉積一層固體薄膜層，相比于涂膜和覆膜，該工藝更簡單、不容易破膜、產品只需要抽樣質檢、適用于各種復雜形狀的密封件。

目前，在密封件的制造過程中，為了能完美符合容器的形狀，通常利用模具對密封件進行壓制定型，為了便于脫模，往往采用有機溶劑，如脫模劑硅油，由于有機溶劑會降低膜層的附著力，必須在鍍膜前將密封件清洗干凈，一般都采用清潔劑來對密封件進行清洗，然后烘干，再進行上料和鍍膜，鍍膜后清洗干凈方可使用，由于密封件的清洗和烘干過程耗時長，導致密封件的生產效率較低，而且，清洗不干凈和烘干不充分也會影響鍍膜效果。

實用新型內容

本申請的目的旨在解決上述的技術缺陷，提供一種密封件鍍膜設備，以提高密封件的鍍膜效果，提升密封件的生產效率。

一種密封件鍍膜設備，包括：清潔腔室、鍍膜腔室以及安裝密封件的固定裝置；

所述固定裝置用于將密封件放置入所述清潔腔室和鍍膜腔室內；

所述清潔腔室在真空環(huán)境下利用等離子體對所述固定裝置上的密封件表面進行清潔處理；

所述鍍膜腔室在真空環(huán)境下采用化學氣相沉積工藝對鍍膜腔室中所述固定裝置上的密封件表面進行鍍膜。

在一個實施例中，所述清潔腔室設置有第一真空泵和等離子體離子源；

所述第一真空泵用于對清潔腔室進行抽真空；

所述等離子體離子源用于在真空環(huán)境下輸出等離子體對所述固定裝置上的密封件表面進行清潔。

在一個實施例中，所述鍍膜腔室設置有第二真空泵和化學氣相沉積系統(tǒng)；

所述第二真空泵用于對鍍膜腔室進行抽真空；

所述化學氣相沉積系統(tǒng)在真空環(huán)境下采用化學氣相沉積工藝對鍍膜腔室中所述固定裝置上的密封件表面進行鍍膜。

在一個實施例中，所述清潔腔室與鍍膜腔室通過第一閥門連通；所述第一閥門用于連通或關閉清潔腔室與鍍膜腔室；

所述清潔腔室內設有第一傳送帶，所述鍍膜腔室內設有第二傳送帶；

所述第一傳送帶和第二傳送帶用于將所述固定裝置及密封件從清潔腔室轉移到鍍膜腔室。

在一個實施例中，所述的密封件鍍膜設備，還包括：連接所述清潔腔室的上料腔室；其中，所述上料腔室與清潔腔室通過第二閥門連通，所述上料腔室還設有第三傳送帶；

所述上料腔室用于在對密封件進行上料時放置所述固定裝置；