[實用新型]清潔基站以及清潔系統(tǒng)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202220133535.6 | 申請日: | 2022-01-18 |
| 公開(公告)號: | CN217118318U | 公開(公告)日: | 2022-08-05 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 凌姝潼;歐陽凡;葉力榮;其他發(fā)明人請求不公開姓名 | 申請(專利權(quán))人: | 深圳銀星智能集團股份有限公司 |
| 主分類號: | A47L11/24 | 分類號: | A47L11/24;A47L11/28;A47L11/40;A61L2/20 |
| 代理公司: | 北京市京大律師事務(wù)所 11321 | 代理人: | 蘇福念 |
| 地址: | 518110 廣東省深圳市龍華區(qū)觀瀾街道*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 清潔 基站 以及 系統(tǒng) | ||
1.一種清潔基站,與清潔機器人配套使用,其特征在于,所述清潔基站包括:
基站本體,所述基站本體具有供清潔機器人停靠的清潔工位,所述基站本體設(shè)有位于所述清潔工位下方的清潔槽,所述清潔槽用于盛裝對清潔機器人的清潔件進行清潔的清潔液;
氣體發(fā)生器,所述氣體發(fā)生器用于制造殺菌氣體,所述氣體發(fā)生器安裝于所述基站本體,所述氣體發(fā)生器的出氣端與所述清潔槽連通設(shè)置。
2.如權(quán)利要求1所述的清潔基站,其特征在于,所述清潔基站還包括安裝于所述清潔槽內(nèi)的攪拌裝置,所述攪拌裝置用于攪動所述清潔槽內(nèi)的清潔液運動,以提高殺菌氣體溶解于清潔液體中。
3.如權(quán)利要求2所述的清潔基站,其特征在于,所述攪拌裝置鄰近所述氣體發(fā)生器的出氣端和所述清潔槽連通的位置設(shè)置。
4.如權(quán)利要求2所述的清潔基站,其特征在于,所述清潔槽的槽底部分凹設(shè)形成安裝槽,所述攪拌裝置包括螺旋槳葉以及驅(qū)動裝置,所述驅(qū)動裝置設(shè)于所述基站本體內(nèi),所述螺旋槳葉安裝于所述安裝槽內(nèi)并與所述驅(qū)動裝置傳動連接。
5.如權(quán)利要求4所述的清潔基站,其特征在于,所述安裝槽的槽底設(shè)置有橫跨所述安裝槽的槽口的多個擋板,多個所述擋板沿同一方向延伸且相鄰兩所述擋板間隔排布。
6.如權(quán)利要求1所述的清潔基站,其特征在于,所述清潔基站還包括過濾裝置,所述過濾裝置安裝于所述清潔槽內(nèi)并將所述清潔槽沿上下向分隔呈上清洗區(qū)和下清洗區(qū);所述氣體發(fā)生器的出氣端與所述下清洗區(qū)連通設(shè)置。
7.如權(quán)利要求6所述的清潔基站,其特征在于,所述過濾裝置包括呈環(huán)形設(shè)置的安裝支架以及罩蓋所述安裝支架軸向上的一端的濾網(wǎng),所述安裝支架與所述清潔槽的槽壁配合,所述濾網(wǎng)將所述清潔槽沿上下向分隔成上清洗區(qū)和下清洗區(qū)。
8.如權(quán)利要求7所述的清潔基站,其特征在于,所述基站本體的表面還凹設(shè)有環(huán)繞所述清潔槽并與所述清潔槽連通的裝配槽;所述基站本體的表面還凹設(shè)有與所述裝配槽連通的避讓凹部;所述安裝支架遠離所述濾網(wǎng)的一端的側(cè)緣設(shè)置有與所述裝配槽配合的搭接邊。
9.如權(quán)利要求1至8中任意一項所述的清潔基站,其特征在于,所述氣體發(fā)生器為臭氧發(fā)生器。
10.一種清潔系統(tǒng),其特征在于,包括清潔機器人以及如權(quán)利要求1-9任一項所述的清潔基站。
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