[實用新型]一種采用半開式沉積罩的聚對二甲苯真空鍍膜裝置

有效

• 申請號: 202220130341.0
• 申請日: 2022-01-18
• 公開（公告）號: CN216765031U
• 公開（公告）日: 2022-06-17
• 發明（設計）人: 王成祥;鄒俊峰;李志安;李志勝
• 申請（專利權）人: 秦皇島精和智能裝備有限公司;北京勝泰東方科技有限公司
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24;C23C14/12
• 代理公司: 長春眾邦菁華知識產權代理有限公司 22214
• 代理人: 張偉

1.一種采用半開式沉積罩的聚對二甲苯真空鍍膜裝置，其特征在于，包括密封膠圈(1)、真空法蘭(2)、半開式沉積罩(3)、流向約束器(4)、真空計(5)、蒸發爐(6)、物料盒(7)、柔性波紋管彎頭(8)、裂解爐(9)、放氣閥(10)、柔性波紋管(11)、移動機柜(12)、低溫冷阱(13)、控制系統(14)和真空泵(15)，所述低溫冷阱(13)、所述控制系統(14)和所述真空泵(15)集成在所述移動機柜(12)內；

所述真空法蘭(2)位于所述半開式沉積罩(3)的下部，且所述真空法蘭(2)上設有用于容納所述密封膠圈(1)的膠圈凹槽，鍍膜時所述半開式沉積罩(3)與大面積平面基材(16)通過所述密封膠圈(1)密封；

所述流向約束器(4)安裝在所述半開式沉積罩(3)的內部并與所述裂解爐(9)的裂解管道下部對接連通，且所述流向約束器(4)和所述半開式沉積罩(3)之間設有供殘留的聚對二甲苯單體分子通過的夾層通道，所述裂解爐(9)的裂解管道上部通過所述柔性波紋管彎頭(8)與所述蒸發爐(6)連通，用于盛放聚對二甲苯固體材料的物料盒(7)設置在所述蒸發爐(6)內；

所述半開式沉積罩(3)上設有排氣口和所述真空計(5)，所述排氣口通過所述柔性波紋管(11)與所述低溫冷阱(13)連通，所述低溫冷阱(13)和所述真空泵(15)連通，所述柔性波紋管(11)上設有所述放氣閥(10)；

所述控制系統(14)用于采集所述真空計(5)的真空度數據，以及控制所述放氣閥(10)的開度，還用于控制所述蒸發爐(6)和所述裂解爐(9)的工作溫度以及控制所述低溫冷阱(13)和所述真空泵(15)的工作狀態。

2.根據權利要求1所述的一種采用半開式沉積罩的聚對二甲苯真空鍍膜裝置，其特征在于，所述膠圈凹槽的橫截面的形狀為燕尾型。

3.根據權利要求1所述的一種采用半開式沉積罩的聚對二甲苯真空鍍膜裝置，其特征在于，所述流向約束器(4)與所述裂解爐(9)的裂解管道通過螺母可拆卸連接。

4.根據權利要求1所述的一種采用半開式沉積罩的聚對二甲苯真空鍍膜裝置，其特征在于，所述蒸發爐(6)為水平臥式圓柱結構。

5.根據權利要求1所述的一種采用半開式沉積罩的聚對二甲苯真空鍍膜裝置，其特征在于，所述移動機柜(12)的底部安裝有四個萬向輪。

6.根據權利要求1所述的一種采用半開式沉積罩的聚對二甲苯真空鍍膜裝置，其特征在于，所述蒸發爐(6)的工作溫度為150℃，所述裂解爐(9)的工作溫度范圍為650℃～680℃。