[實用新型]一種防止等離子噴涂區(qū)域錯誤的遮蔽治具

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202220111454.6
• 申請日: 2022-01-17
• 公開（公告）號: CN217664041U
• 公開（公告）日: 2022-10-28
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 趙赟
• 申請（專利權(quán)）人: 北京富創(chuàng)精密半導(dǎo)體有限公司
• 主分類號: B05B12/20
• 分類號: B05B12/20
• 代理公司: 沈陽優(yōu)普達(dá)知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 21234
• 代理人: 孫奇

本實用新型是一種防止等離子噴涂區(qū)域錯誤的遮蔽治具，治具包括：把手、上蓋板、下蓋板、定位銷；在上蓋板和下蓋板之間設(shè)有LINER；上蓋板為跑道形結(jié)構(gòu)，上蓋板上端設(shè)有多個把手；上蓋板底部設(shè)有第一密封凸起，第一密封凸起與LINER上部凹槽緊密配合連接；下蓋板為圓環(huán)形結(jié)構(gòu)，下蓋板設(shè)有圓形第二密封凸起，第二密封凸起與LINER下部凹槽緊密配合連接；下蓋板通過定位銷與LINER定位連接。對LINER等離子噴涂的區(qū)域的位置和一致性要求極高，因為等離子噴涂區(qū)域?qū)⒅苯佑绊懶酒纳a(chǎn)質(zhì)量。本實用新型通過設(shè)計專用仿形治具來解決和提高這些關(guān)鍵零部件產(chǎn)品等離子噴涂區(qū)域的精準(zhǔn)性和一致性，進(jìn)而保證芯片質(zhì)量。

技術(shù)領(lǐng)域

本實用新型屬于半導(dǎo)體關(guān)鍵零部件LINER腔體內(nèi)部噴涂前使用的遮蔽治具，等離子噴涂的區(qū)域?qū)⒅苯佑绊懓雽?dǎo)體設(shè)備的耐腐蝕程度，同時也能避免因工件腐蝕產(chǎn)生的物質(zhì)粘附在芯片上，影響芯片的性能。本實用新型闡述一種防止LINER腔體等離子噴涂區(qū)域錯誤的遮蔽治具。

背景技術(shù)

隨著半導(dǎo)體行業(yè)的快速發(fā)展，半導(dǎo)體的應(yīng)用場景越來越廣泛。其中芯片的制造是半導(dǎo)體生產(chǎn)的核心環(huán)節(jié)。芯片的生產(chǎn)是在腐蝕性氣體和腐蝕性等離子環(huán)境中進(jìn)行的，在該環(huán)境中，工件表面一直處于高能等離子體和化學(xué)反應(yīng)體系中，因此用于芯片制備的腔體中的工件須具有較強的耐腐蝕性能，一般采用等離子噴涂氧化釔的方式。由于腔體結(jié)構(gòu)復(fù)雜，根據(jù)使用要求一般要求局部等離子噴涂，其他位置不做噴涂處理，且噴涂區(qū)域要求明確，一致性及位置都有尺寸精度要求(精度公差±0.05mm)，傳統(tǒng)的遮蔽方式，一是機加刻線，但遮蔽線處于零件內(nèi)部，機臺上無法實現(xiàn)；二是手動用卡尺在零件上測量位置，但很難保證精確的位置，測量時易劃傷零件，手動測繪很難保證遮蔽線的一致性，而且耗時效率低。

實用新型內(nèi)容

針對上述存在的問題，為了達(dá)到內(nèi)腔局部等離子噴涂區(qū)域的要求，通過專用治具的設(shè)計，結(jié)合不同的工位，設(shè)計不同工裝，噴涂前將腔內(nèi)非噴涂區(qū)域遮蔽，進(jìn)而保證噴涂區(qū)域的準(zhǔn)確性。本實用新型的目的是提供了一種防止等離子噴涂區(qū)域錯誤的遮蔽治具。

本實用新型采樣的技術(shù)方案是：

一種防止等離子噴涂區(qū)域錯誤的遮蔽治具，治具包括：把手、上蓋板、下蓋板、定位銷；在上蓋板和下蓋板之間設(shè)有LINER；上蓋板為跑道形結(jié)構(gòu)，上蓋板上端設(shè)有多個把手；上蓋板底部設(shè)有第一密封凸起，第一密封凸起與LINER上部凹槽緊密配合連接；下蓋板為圓環(huán)形結(jié)構(gòu)，下蓋板設(shè)有圓形第二密封凸起，第二密封凸起與LINER下部凹槽緊密配合連接；下蓋板通過定位銷與LINER定位連接。

上蓋板和下蓋板及定位銷選用聚丙烯材質(zhì)制成。

本實用新型的有益效果為：

1.通過專用治具的設(shè)計制作，保證等離子噴涂區(qū)域的準(zhǔn)確性。

2.專用治具的制作提高了遮蔽效率，為實現(xiàn)穩(wěn)定量產(chǎn)做準(zhǔn)備。

3.通過專用治具的設(shè)計制作，提高生產(chǎn)效率，減少人工成本。

附圖說明

圖1本實用新型的遮蔽治具裝配圖。

圖2本實用新型的上蓋板立體圖。

圖3本實用新型的上蓋板俯視圖。

圖4本實用新型的上蓋板剖視圖

圖5本實用新型的下蓋板示意圖。

具體實施方式

下面結(jié)合說明書附圖1-5及附圖標(biāo)記對本實用新型進(jìn)一步詳細(xì)說明。一種LINER等離子噴涂遮蔽治具，主要用于提高半導(dǎo)體關(guān)鍵零部件等離子噴涂區(qū)域的準(zhǔn)確性和一致性。由于LINER是半導(dǎo)體領(lǐng)域的關(guān)鍵產(chǎn)品，主要用于氣相沉積CVD、ALD等半導(dǎo)體制程，腔體產(chǎn)品的結(jié)構(gòu)較為復(fù)雜，同時由于內(nèi)腔的特殊結(jié)構(gòu)，普通的遮蔽方式很難達(dá)到圖紙要求及實際使用要求。