[實用新型]一種電池片鍍膜系統有效
| 申請號: | 202220096732.5 | 申請日: | 2022-01-14 |
| 公開(公告)號: | CN217499412U | 公開(公告)日: | 2022-09-27 |
| 發明(設計)人: | 楊寶海;李義升;李翔;李軼軍 | 申請(專利權)人: | 營口金辰機械股份有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/54 | 分類號: | C23C16/54;C23C16/24;C23C16/50;H01L31/072;H01L31/18 |
| 代理公司: | 北京派特恩知識產權代理有限公司 11270 | 代理人: | 任曉;徐川 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 電池 鍍膜 系統 | ||
本實用新型實施例提供一種電池片鍍膜系統,該電池片鍍膜系統包括:用于輸送電池片的輸送線和設置于輸送線的傳輸工位旁側的多個鍍膜模塊,輸送線具有多個傳輸工位,鍍膜模塊與傳輸工位之間傳送電池片,多個鍍膜模塊包括:包括至少一個第一鍍膜裝置的第一鍍膜模塊;包括至少一個第二鍍膜裝置的第二鍍膜模塊;包括至少一個第二鍍膜裝置的第三鍍膜模塊;包括至少一個第四鍍膜裝置的第四鍍膜模塊;其中,第一鍍膜裝置、第二鍍膜裝置、第三鍍膜裝置以及第四鍍膜裝置中的至少一者的數量不小于兩個。本實用新型實施例中的電池片鍍膜系統降低了輸送線需要等待單個鍍膜裝置的處理而整體空等的情況出現概率,提高了單位時間內處理電池片的數目。
技術領域
本實用新型涉及光伏設備技術領域,具體涉及一種電池片鍍膜系統。
背景技術
隨著人類對節能減排需求的日益增加,在全球范圍內光伏發電具有廣闊的產業前景。其中,硅基異質結太陽能電池,以其簡潔的制備工藝,較高的轉化效率和較高的降本增效潛能,越來越受到業界的關注,已經成為了行業內的熱點。
PECVD(plasma enhanced chemical vapor deposition,等離子增強化學氣相沉積)工藝是在較高真空環境下,利用高頻電源將反應氣體電離成等離子態后完成表面鍍膜工藝,廣泛應用于光伏電池制造領域。
以硅基異質結電池片鍍膜生產線為例,在相關技術中,在生產線上依次布置多個PECVD工藝設備,在晶體硅基片上下表面上,利用PECVD工藝設備對稱地沉積本征薄膜硅層;然后繼續利用其他的PECVD工藝設備在上下表面的本征薄膜硅層沉積N型摻雜層和P型摻雜層,由于本征薄膜硅層、N型摻雜層、P型摻雜層的鍍膜時間不同,而生產線的生產節拍按照時長最長的一個鍍膜工序設定,導致其他工序空等時間較長,生產效率較低。
實用新型內容
有鑒于此,本申請實施例期望提供一種能夠提高電池片鍍膜效率的電池片鍍膜系統。
為達到上述目的,本申請實施例的技術方案是這樣實現的:
本實用新型實施例提供一種電池片鍍膜系統,該電池片鍍膜系統包括:
用于輸送電池片的輸送線,所述輸送線具有多個傳輸工位;
設置于所述輸送線的傳輸工位旁側的多個鍍膜模塊,所述鍍膜模塊與所述傳輸工位之間傳送電池片,多個所述鍍膜模塊包括:
第一鍍膜模塊,包括至少一個用于對電池片的第一面鍍第一本征層的第一鍍膜裝置;
第二鍍膜模塊,包括至少一個用于對電池片的第二面鍍第二本征層的第二鍍膜裝置,
第三鍍膜模塊,包括至少一個用于在所述第一本征層上鍍N型摻雜層的第三鍍膜裝置;
第四鍍膜模塊,包括至少一個用于在所述第二本征層上鍍P型摻雜層的第四鍍膜裝置;其中,所述第一鍍膜裝置、所述第二鍍膜裝置、所述第三鍍膜裝置以及所述第四鍍膜裝置中的至少一者的數量不小于兩個。
在一些實施例中,所述第一鍍膜裝置、所述第二鍍膜裝置、所述第三鍍膜裝置以及所述第四鍍膜裝置中,鍍膜所需時長最長者的數量不小于兩個。
在一些實施例中,所述第一鍍膜裝置、所述第二鍍膜裝置、所述第三鍍膜裝置以及所述第四鍍膜裝置中,鍍膜所需時長最長者的數量最多。
在一些實施例中,所述第一鍍膜模塊與所述第三鍍膜模塊沿輸送方向相鄰;和\或,所述第二鍍膜模塊與所述第四鍍膜模塊沿輸送方向相鄰。
在一些實施例中,所述輸送線包括至少一個用于翻轉電池片的翻轉工位,所述翻轉工位位于所述第三鍍膜模塊和所述第四鍍膜模塊之間。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





