[實用新型]一種鈮基超導量子比特制備平臺

有效

• 申請號: 202220093054.7
• 申請日: 2022-01-14
• 公開（公告）號: CN218026315U
• 公開（公告）日: 2022-12-13
• 發明（設計）人: 宿非凡;任育峰;李俊杰;耿廣州
• 申請（專利權）人: 中國科學院物理研究所
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/56;C23C14/16;C23C14/18;C23C14/58;G03F7/16
• 代理公司: 北京市英智偉誠知識產權代理事務所(普通合伙) 11521
• 代理人: 劉丹妮

1.一種鈮基超導量子比特制備平臺，其特征在于，所述鈮基超導量子比特制備平臺包括：主真空腔體、預真空腔體和第一高真空閥；其中，所述第一高真空閥位于所述主真空腔體和所述預真空腔體中間，隔開所述主真空腔體和所述預真空腔體。

2.根據權利要求1所述的鈮基超導量子比特制備平臺，其特征在于，所述第一高真空閥選自以下一種或多種：高真空閘板閥、高真空蝶閥、高真空球閥。

3.根據權利要求2所述的鈮基超導量子比特制備平臺，其特征在于，所述第一高真空閥為高真空閘板閥。

4.根據權利要求1所述的鈮基超導量子比特制備平臺，其特征在于，所述主真空腔體包括：磁控濺射靶、主真空室、第四高真空閥和第二高真空抽氣機組。

5.根據權利要求4所述的鈮基超導量子比特制備平臺，其特征在于，所述主真空室包括樣品平臺和第二觀察窗。

6.根據權利要求4所述的鈮基超導量子比特制備平臺，其特征在于：

所述磁控濺射靶與所述主真空室相連；和/或

所述第四高真空閥位于所述主真空室和所述第二高真空抽氣機組中間，隔開所述主真空室和所述第二高真空抽氣機組。

7.根據權利要求5所述的鈮基超導量子比特制備平臺，其特征在于，所述預真空腔體包括：滴膠桿、高真空閥、預真空室、氮氣閥、第一高真空抽氣機組、甩膠電機和抽氣電機管。

8.根據權利要求7所述的鈮基超導量子比特制備平臺，其特征在于，

所述預真空室包括基片勻膠平臺和第一觀察窗；和/或

所述高真空閥包括第二高真空閥和第三高真空閥。

9.根據權利要求8所述的鈮基超導量子比特制備平臺，其特征在于：所述預真空腔體還包括真空開關。

10.根據權利要求9所述的鈮基超導量子比特制備平臺，其特征在于：所述真空開關控制所述基片勻膠平臺進行吸片。

11.根據權利要求8所述的鈮基超導量子比特制備平臺，其特征在于：所述滴膠桿密封，光刻膠位于所述滴膠桿中；和/或

所述第二高真空閥位于所述滴膠桿與所述預真空室中間，隔開所述滴膠桿與所述預真空室。

12.根據權利要求11所述的鈮基超導量子比特制備平臺，其特征在于：所述光刻膠選自以下一種或多種：S18系列、SPR220系列、SPR955系列、LOR系列。

13.根據權利要求8所述的鈮基超導量子比特制備平臺，其特征在于：

所述預真空室中的基片勻膠平臺一端連接甩膠電機、真空開關和抽氣電機管；

所述預真空室一端連接氮氣閥；和/或

所述第三高真空閥位于所述氮氣閥和所述第一高真空抽氣機組中間。

14.根據權利要求13所述的鈮基超導量子比特制備平臺，其特征在于：所述真空開關位于所述甩膠電機和所述抽氣電機管中間。

15.根據權利要求8所述的鈮基超導量子比特制備平臺，其特征在于：

所述主真空室和所述預真空室均還包括真空計；

所述樣品平臺和所述基片勻膠平臺在豎直方向通過升降對樣品進行夾載和傳送；和/或

所述第二高真空閥、所述第三高真空閥和所述第四高真空閥選自以下一種或多種：高真空閘板閥、高真空蝶閥、高真空球閥。

16.根據權利要求15所述的鈮基超導量子比特制備平臺，其特征在于：所述第二高真空閥、所述第三高真空閥和所述第四高真空閥為高真空閘板閥。