[實用新型]超表面光學器件及光學設備

有效

• 申請號: 202220088637.0
• 申請日: 2022-01-13
• 公開（公告）號: CN216696740U
• 公開（公告）日: 2022-06-07
• 發明（設計）人: 孫磊;邱兵
• 申請（專利權）人: 天津山河光電科技有限公司
• 主分類號: G02B5/00
• 分類號: G02B5/00
• 代理公司: 北京市漢坤律師事務所 11602
• 代理人: 魏小薇;吳麗麗

1.一種超表面光學器件，其特征在于，包括：

襯底；以及

位于所述襯底上的納米結構層，所述納米結構層包括多個復合納米單元，每個所述復合納米單元包括在所述襯底上排列的多個納米結構單元，

其中，所述多個復合納米單元的排列周期不完全相同，并且

其中，在每個復合納米單元中，所述多個納米結構單元的排列周期不完全相同。

2.根據權利要求1所述的超表面光學器件，其特征在于，

所述多個復合納米單元在平面坐標系的至少一個維度上的尺寸基于第一規則變化；和/或

所述多個復合納米單元中的相鄰復合納米單元之間的間隔在平面坐標系的至少一個維度上基于第二規則變化。

3.根據權利要求1所述的超表面光學器件，其特征在于，

所述多個復合納米單元沿圓的周向方向依次排布；或者

所述多個復合納米單元沿圓的徑向方向依次嵌套排布。

4.根據權利要求1所述的超表面光學器件，其特征在于，在每個復合納米單元中：

所述多個納米結構單元在平面坐標系的至少一個維度上的尺寸基于第三規則變化；和/或

所述多個納米結構單元中的相鄰納米結構單元之間的間隔在平面坐標系的至少一個維度上基于第四規則變化。

5.根據權利要求1所述的超表面光學器件，其特征在于，在每個復合納米單元中：

所述多個納米結構單元在平面坐標系的至少一個維度上的尺寸遞增、遞減或呈周期性變化；和/或

所述多個納米結構單元中的相鄰納米結構單元之間的間隔在平面坐標系的至少一個維度上遞增、遞減或呈周期性變化。

6.根據權利要求1所述的超表面光學器件，其特征在于，

所述多個復合納米單元的形狀、尺寸、取向中至少一項參數不完全相同；和/或

在每個復合納米單元中，所述多個納米結構單元的形狀、尺寸、材料、取向中至少一項參數不完全相同。

7.根據權利要求1所述的超表面光學器件，其特征在于，所述多個復合納米單元中的各所述納米結構單元被布置為使得所述多個復合納米單元具有相應的物理量參數，所述物理量參數包括波長調制參數、偏振調制參數、光束偏轉角度調制參數、相位參數或焦距中的至少一種。

8.根據權利要求1所述的超表面光學器件，其特征在于，所述納米結構層包括多個功能區域，每個功能區域包括所述多個復合納米單元的相應子集，所述多個復合納米單元被布置為使得所述多個功能區域具有彼此不同的光學功能。

9.根據權利要求8所述的超表面光學器件，其特征在于，

所述多個功能區域呈陣列排布；或者

所述多個功能區域沿圓的周向方向依次排布；或者

所述多個功能區域沿圓的徑向方向依次嵌套排布。

10.根據權利要求2、4或5所述的超表面光學器件，其特征在于，

所述平面坐標系為直角坐標系或極坐標系。

11.根據權利要求1至9中任一項所述的超表面光學器件，其特征在于，

所述多個納米結構單元為納米柱單元；或者

所述多個納米結構單元為納米孔單元；或者

所述多個納米結構單元包括多個納米柱單元和多個納米孔單元。

12.一種光學設備，其特征在于，包括：根據權利要求1至11任一項所述的超表面光學器件。