[實用新型]具有溫控裝置的水洗過濾裝置

有效

• 申請號: 202220082029.9
• 申請日: 2022-01-13
• 公開（公告）號: CN216825437U
• 公開（公告）日: 2022-06-28
• 發明（設計）人: 江昭毅
• 申請（專利權）人: 奇鼎科技股份有限公司
• 主分類號: B01D47/06
• 分類號: B01D47/06
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 王寶筠

本申請提供一種具有溫控裝置的水洗過濾裝置，其包含一第一水洗組件、一第二水洗組件以及一連接管路，該第一水洗組件的一第一殼體的一內側設置一第一灑水裝置、一第一淋水組件以及一第一循環組件，該第二水洗組件的一第二殼體的一內側設置一第二灑水裝置、一第二淋水組件以及一第二循環組件，該連接管路的一端連通該第一殼體的一第一容置空間，該連接管路的另一端連通該第二殼體的一第二容置空間；利用該第一循環組件包含的一第一溫控裝置，以及該第二循環組件包含的一第二溫控裝置，使流經的流體具有溫差，提升整體過濾效率。

技術領域

本申請是關于一種具有溫控裝置的水洗過濾裝置，尤其是指一種利用加熱裝置，使流體產生溫差的水洗過濾裝置。

背景技術

隨著半導體組件尺寸的縮小，氣態分子污染物(AMC)的管制及監控方式也逐漸受到重視。為了避免電子產品的電性受到影響，半導體及晶圓制造的過程均置于嚴格管控的環境，亦即無塵室(cleanroom)內?，F有技術的無塵室空氣質量控制，主要著重在微粒、氣流及溫濕度；然而近年來半導體業界已開始重新思考所謂無塵室的定義。隨著半導體體積的縮小，靜電破壞及氣態分子污染物的影響日益明顯，用于清除氣態分子污染物的裝置也逐漸進入市場。

其中，常見的清除氣態分子污染物的裝置，是設置灑水(或噴水)裝置及淋水材料的水洗過濾裝置，水洗過濾裝置通常使用于恒溫恒濕微污染處理裝置上，通過水霧與流經的空氣接觸，以去除空氣中微量的氣態分子污染物，而空氣污染物大致可區分為粒狀污染物及氣態污染物兩大類。

但現有技術水洗過濾裝置雖于氣體污染物去除，具有良好效率，但在粒狀污染物，尤其是以亞微粒(sub-micron,PM0.01～PM1)為主的粒狀污染物，去除效率相對不佳，因此產業界需要一種能有效去除粒狀污染物的水洗過濾裝置。

有鑒于上述現有技術的問題，本申請提供一種具有溫控裝置的水洗過濾裝置，其是第一流體進入第一水洗組件，第一水洗組件以加熱后的第二流體加熱經過的第一流體，第一流體流至第二水洗組件后，第二水洗組件以較低溫的第三流體接觸，使經過的第一流體與第三流體具有溫差，產生熱泳現象，提供能有效去除粒狀污染物的水洗過濾裝置。

實用新型內容

本申請所要解決的技術問題在于提供一種具有溫控裝置的水洗過濾裝置，其是利用二水洗組件的結合，一第一流體進入第一水洗組件，以第一水洗組件包含的溫控裝置加熱第一灑水裝置內的第二流體，第二流體噴出對應加熱經過的第一流體，第一流體流至第二水洗組件，并以第二水洗組件包含的溫控裝置控置第二灑水裝置內的第三流體的溫度，使經過的第一流體與第三流體具有溫差，產生熱泳現象，提升整體過濾效率。

為達到上述所指稱的各目的與功效，本申請提供一種具有溫控裝置的水洗過濾裝置，其包含：一第一水洗組件、一第二水洗組件以及一連接管路，該第一水洗組件包含：一第一殼體，其一內側設置一第一容置空間，該第一殼體的一端開設一入風口，該入風口連通該第一容置空間；一第一灑水裝置，其設置于該第一容置空間，并設置于該入風口的一下方，且具有間隔空間；一第一淋水組件，其設置于該第一容置空間，并設置于該第一灑水裝置的一下方；以及一第一循環組件，其包含一第一泵浦以及一第一溫控裝置，該第一泵浦的一端連通該第一容置空間的一下方，該第一溫控裝置的一端連通該第一泵浦的另一端，該第一溫控裝置的另一端連通該第一灑水裝置；該第二水洗組件設置于該第一水洗組件的一側，該第二水洗組件包含：一第二殼體，其一內側設置一第二容置空間，該第二殼體的一端開設一出風口，該出風口連通該第二容置空間；一第二灑水裝置，其設置于該第二容置空間，并設置于該出風口的一下方，且具有間隔空間；一第二淋水組件，其設置于該第二容置空間，并設置于該第二灑水裝置的一下方；以及一第二循環組件，其包含一第二泵浦以及一第二溫控裝置，該第二泵浦的一端連通該第二容置空間的一下方，該第二溫控裝置的一端連通該第二泵浦的另一端，該第二溫控裝置的另一端連通該第二灑水裝置；該連接管路的一端連通該第一容置空間，該連接管路的另一端連通該第二容置空間；利用此結構加熱經過第一水洗組件的流體，再于第二水洗組件內，與溫度較低的流體混合，提升水洗組件的過濾效率。