[實用新型]用于防止濺液的晶圓刷洗機

有效

• 申請號: 202220076627.5
• 申請日: 2022-01-12
• 公開（公告）號: CN216705248U
• 公開（公告）日: 2022-06-10
• 發明（設計）人: 沈達;萬士元;鄒祖航;管發海
• 申請（專利權）人: 吾拾微電子（蘇州）有限公司
• 主分類號: B08B3/02
• 分類號: B08B3/02;B08B13/00;H01L21/67
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本申請涉及一種用于防止濺液的晶圓刷洗機，包括：機臺；固定機構，設置在機臺上以將目標物固定；涂膠機構，設置在固定機構的一側，且可相對于固定機構移動，以對目標物進行涂膠；清洗機構，設置在固定機構的一側，且可相對于固定機構移動，以對目標物進行清洗；以及驅動機構，設置在機臺上；其中，固定機構包括形成有腔體的固定殼體、設置在固定殼體內的固定件，驅動機構包括與固定殼體連接的第一驅動件，第一驅動件驅動固定殼體沿機臺的高度方向移動。通過上述，其能夠提高清潔效率、且能夠防止水濺射。

【技術領域】

本申請涉及一種用于防止濺液的晶圓刷洗機。

【背景技術】

晶圓是指制作硅半導體積體電路所用的硅晶圓或化合物半導體之砷化鎵，氮化鎵，磷化銦晶圓，由于其形狀為圓形，故稱為晶圓。隨著半導體器件關鍵尺寸的不斷縮小以及新材料(例如鍵合膠，劃片保護膠等)的引入，在晶圓的生產加工過程中，對晶圓表面的潔凈度要求越來越嚴苛，通常需要進行多次清洗，以去除晶圓上沾附的污垢及膠液殘留。而且被清洗的晶圓越來越薄(50-150um的厚度比傳統的600um厚度晶圓低很多)，清洗過程中還須確保晶圓不會碎裂。

但是，現有技術中的晶圓的清洗效率較低，且在清洗過程中水容易濺射，從而影響其他設備部件的運行。

因此，有必要對現有技術予以改良以克服現有技術中的所述缺陷。

【實用新型內容】

本申請的目的在于提供一種清潔效率高且能夠防止清洗液濺射的用于防止濺液的晶圓刷洗機。

本申請的目的是通過以下技術方案實現：一種用于防止濺液的晶圓刷洗機，包括：

機臺；

固定機構，設置在所述機臺上以將目標物固定；

涂膠機構，設置在所述固定機構的一側，且可相對于所述固定機構移動，以對所述目標物進行涂膠；

清洗機構，設置在所述固定機構的一側，且可相對于所述固定機構移動，以對所述目標物進行清洗；

驅動機構，設置在所述機臺上；

其中，所述固定機構包括形成有腔體的固定殼體、設置在所述固定殼體內的固定件，所述驅動機構包括與所述固定殼體連接的第一驅動件，所述第一驅動件驅動所述固定殼體沿所述機臺的高度方向移動。

在其中一個實施例中，所述用于防止濺液的晶圓刷洗機還包括導向柱，所述固定殼體上設置有與所述導向柱滑動配合的導向孔。

在其中一個實施例中，所述驅動機構還包括與所述固定件連接的第二驅動件，所述第二驅動件驅動所述固定件沿預設轉速旋轉。

在其中一個實施例中，所述用于防止濺液的晶圓刷洗機還包括設置在所述固定件上的傳感器，所述傳感器適于檢測所述固定件的旋轉角度。

在其中一個實施例中，所述清洗機構包括裝有清洗液的第一箱體、與所述第一箱體連通的輸送管、與所述輸送管連通的清洗手臂及與所述清洗手臂連通的清洗噴嘴，所述清洗手臂可相對于所述機臺移動以帶動所述清洗噴嘴移動。

在其中一個實施例中，所述清洗機構還包括廢液盒，所述廢液盒設置在所述清洗噴嘴朝向遠離所述固定機構移動的方向上。

在其中一個實施例中，所述涂膠機構包括裝有膠體的第二箱體、與所述第二箱體連通的導液管、與所述導液管連通的涂膠手臂及與所述涂膠手臂連通的涂膠頭，所述涂膠手臂可相對于所述機臺移動以帶動所述涂膠頭移動。

在其中一個實施例中，所述涂膠機構還包括回收盒，所述回收盒設置在所述涂膠頭朝向遠離所述固定機構移動的方向上。

在其中一個實施例中，機臺上還設置有導軌；