[實(shí)用新型]一種微區(qū)X射線光譜分析系統(tǒng)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202220061909.8
• 申請(qǐng)日: 2022-01-11
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN217359672U
• 公開(kāi)（公告）日: 2022-09-02
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 孫學(xué)鵬;孫天希;李成波
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 北京師范大學(xué)
• 主分類(lèi)號(hào): G01N23/04
• 分類(lèi)號(hào): G01N23/04;G01N23/083;G01N23/2206;G01N23/223
• 代理公司: 北京眾合誠(chéng)成知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11246
• 代理人: 劉妮

1.一種微區(qū)X射線光譜分析系統(tǒng)，其特征在于，包括：X射線光束會(huì)聚模塊、樣品探測(cè)模塊、計(jì)算機(jī)；

所述X射線光束會(huì)聚模塊用于獲得聚焦的X射線微焦斑；所述X射線微焦斑包括多色微區(qū)X射線微焦斑和單色微區(qū)X射線微焦斑；

所述樣品探測(cè)模塊用于探測(cè)樣品被所述X射線微焦斑激發(fā)后所產(chǎn)生的特征信號(hào)；

所述計(jì)算機(jī)用于根據(jù)所述特征信號(hào)獲得樣品表面相關(guān)信息。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的微區(qū)X射線光譜分析系統(tǒng)，其特征在于，所述X射線光束會(huì)聚模塊包括能夠產(chǎn)生多色微區(qū)X射線微焦斑的多色會(huì)聚單元；

所述多色會(huì)聚單元包括：X射線光源(1)、遮光器(2)、對(duì)稱(chēng)設(shè)置的兩個(gè)拋物線型單毛細(xì)管準(zhǔn)直透鏡(3)、對(duì)稱(chēng)設(shè)置的兩個(gè)拋物線型單毛細(xì)管聚焦透鏡(4)；

所述X射線光源(1)位于所述對(duì)稱(chēng)設(shè)置的兩個(gè)拋物線型單毛細(xì)管準(zhǔn)直透鏡(3)前焦點(diǎn)處，所述遮光器(2)位于所述對(duì)稱(chēng)設(shè)置的兩個(gè)拋物線型單毛細(xì)管準(zhǔn)直透鏡(3)的入射光或出射光處，用于阻擋直通光；

所述對(duì)稱(chēng)設(shè)置的兩拋物線型單毛細(xì)管聚焦透鏡(4)位于所述對(duì)稱(chēng)設(shè)置的兩個(gè)拋物線型單毛細(xì)管準(zhǔn)直透鏡(3)后用于接收其出射的多色X射線束，并將其會(huì)聚為微焦斑，并照射在樣品(7)表面。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的微區(qū)X射線光譜分析系統(tǒng)，其特征在于，所述X射線光束會(huì)聚模塊包括能夠產(chǎn)生單色微區(qū)X射線微焦斑的單色會(huì)聚單元；

所述單色會(huì)聚單元包括：X射線光源(1)、遮光器(2)、對(duì)稱(chēng)設(shè)置的兩個(gè)拋物線型單毛細(xì)管準(zhǔn)直透鏡(3)、對(duì)稱(chēng)設(shè)置的兩個(gè)拋物線型單毛細(xì)管聚焦透鏡(4)、單色器(10)；

所述X射線光源(1)位于所述對(duì)稱(chēng)設(shè)置的兩個(gè)拋物線型單毛細(xì)管準(zhǔn)直透鏡(3)前焦點(diǎn)處，所述遮光器(2)位于所述對(duì)稱(chēng)設(shè)置的兩個(gè)拋物線型單毛細(xì)管準(zhǔn)直透鏡(3)的入射光或出射光處，用于阻擋直通光；

所述單色器(10)用于將所述對(duì)稱(chēng)設(shè)置的兩個(gè)拋物線型單毛細(xì)管準(zhǔn)直透鏡(3)所出射的多色準(zhǔn)平行光束以一定角度入射至單色器(10)，并將其轉(zhuǎn)變?yōu)闇?zhǔn)單色X射線束，并出射至所述對(duì)稱(chēng)設(shè)置的兩個(gè)拋物線型單毛細(xì)管聚焦透鏡(4)上；

所述對(duì)稱(chēng)設(shè)置的兩拋物線型單毛細(xì)管聚焦透鏡(4)位于所述對(duì)稱(chēng)設(shè)置的兩個(gè)拋物線型單毛細(xì)管準(zhǔn)直透鏡(3)后，用于接收單色器(10)出射的單色X射線束，并將其會(huì)聚為微焦斑，并照射在樣品(7)表面。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的微區(qū)X射線光譜分析系統(tǒng)，其特征在于，所述單色會(huì)聚單元包括兩個(gè)對(duì)稱(chēng)設(shè)置的所述單色器(10)。

5.根據(jù)權(quán)利要求2或3或4所述的微區(qū)X射線光譜分析系統(tǒng)，其特征在于，當(dāng)所述遮光器(2)位于X射線光源(1)與對(duì)稱(chēng)設(shè)置的兩個(gè)拋物線型單毛細(xì)管準(zhǔn)直透鏡(3)之間時(shí)，其直徑小于對(duì)稱(chēng)設(shè)置的兩個(gè)拋物線型單毛細(xì)管準(zhǔn)直透鏡(3)的入口直徑；當(dāng)置于對(duì)稱(chēng)設(shè)置的兩個(gè)拋物線型單毛細(xì)管準(zhǔn)直透鏡(3)與對(duì)稱(chēng)設(shè)置的兩拋物線型單毛細(xì)管聚焦透鏡(4)之間時(shí)，其直徑等于聚焦透鏡出口直徑。

6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的微區(qū)X射線光譜分析系統(tǒng)，其特征在于，所述X射線光源(1)為微焦斑光管，其焦斑尺寸不大于80微米，光源焦斑形狀為點(diǎn)狀。

7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的微區(qū)X射線光譜分析系統(tǒng)，其特征在于，所述拋物線型單毛細(xì)管準(zhǔn)直透鏡(3)、拋物線型單毛細(xì)管聚焦透鏡(4)均采用中空玻璃管制造而成，其內(nèi)部曲線為拋物線形，內(nèi)壁鍍有光滑的重金屬薄膜，該重金屬為銥，金，鋨。

8.根據(jù)權(quán)利要求3或4平面晶體所述的微區(qū)X射線光譜分析系統(tǒng)，其特征在于，所述單色器(10)為平面晶體。

9.根據(jù)權(quán)利要求2所述的微區(qū)X射線光譜分析系統(tǒng)，其特征在于，所述遮光器(2)的材質(zhì)為鉛。