[實(shí)用新型]涂布設(shè)備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202220052740.X
• 申請日: 2022-01-10
• 公開（公告）號: CN216704917U
• 公開（公告）日: 2022-06-10
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王錦山;張恒
• 申請（專利權(quán)）人: 上海德滬涂膜設(shè)備有限公司
• 主分類號: B05C5/02
• 分類號: B05C5/02;B05C11/10;B05C9/14;B05C13/00
• 代理公司: 深圳舍穆專利代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 44398
• 代理人: 黃賢炬

本實(shí)用新型描述了一種涂布設(shè)備，包括支承機(jī)構(gòu)、供料機(jī)構(gòu)、冷卻機(jī)構(gòu)、以及驅(qū)動機(jī)構(gòu)，支承機(jī)構(gòu)具有支承涂布對象的支承面、以及與支承面相鄰的流體腔，供料機(jī)構(gòu)包括分配漿料的分配部，分配部包括具有容納漿料的腔室的殼體、以及連通于腔室的出料口，冷卻機(jī)構(gòu)連通于支承機(jī)構(gòu)的流體腔，并向支承機(jī)構(gòu)的流體腔輸送冷卻介質(zhì)，驅(qū)動機(jī)構(gòu)驅(qū)動支承機(jī)構(gòu)和/或供料機(jī)構(gòu)以使兩者相對移動。本實(shí)用新型的涂布設(shè)備在對涂布對象進(jìn)行涂布時(shí)，可以通過冷卻介質(zhì)形成涂布的低溫環(huán)境，降低供應(yīng)到涂布對象上的漿料的揮發(fā)速率，進(jìn)而能夠在涂布對象上全面地、穩(wěn)定地形成膜。

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型具體涉及一種涂布設(shè)備。

背景技術(shù)

目前，隨著一些行業(yè)例如芯片、顯示、太陽能得到的發(fā)展，各工廠對精密成膜的技術(shù)也有了更高的需求。由于涂敷濕膜干燥制備膜層的技術(shù)在制備膜層時(shí)使用起來比較簡單，且成本較低，因此，涂敷濕膜干燥制備膜層的方法在一些精密涂膜的產(chǎn)業(yè)中得到了廣泛的應(yīng)用。

現(xiàn)有技術(shù)中，為了降低生產(chǎn)成本并提高生產(chǎn)產(chǎn)能，常常采用涂敷濕膜干燥的方法制備膜層，使用涂敷濕膜干燥的方法制備膜層包括有狹縫涂膜、旋涂、刮涂等多種方式，而采用狹縫涂膜通常可以得到大面積、具有較高的一致性且精準(zhǔn)膜厚的液膜，因此也常常用使用狹縫涂膜的方式進(jìn)行涂膜。

然而，在進(jìn)行大面積涂布時(shí)，與制備小批量且小尺寸的液膜相比，很容易出現(xiàn)一些制備小尺寸液膜時(shí)不容易出現(xiàn)的一些問題。在制備大尺寸的液膜時(shí)，涂膜的時(shí)間會比制備同種小尺寸的液膜多上幾倍甚至十倍。在這種情況下，若形成液膜的溶劑揮發(fā)較快，在進(jìn)行涂膜的前端和后端的溶劑梯度不同，容易造成膜厚不均，在液膜干燥過程中如果出現(xiàn)成核的結(jié)晶甚至可能會造成制膜失敗。且對于一些具有光學(xué)性能需求的膜層(例如鈣鈦礦液膜)來說，若不能在短時(shí)間內(nèi)統(tǒng)一成膜，會嚴(yán)重的影響其光電效率。

發(fā)明內(nèi)容

本實(shí)用新型是有鑒于上述現(xiàn)有技術(shù)的狀況而提出的，其目的在于提供一種能夠控制或降低液膜溶劑揮發(fā)速率的涂布設(shè)備。

為此，本實(shí)用新型提供一種涂布設(shè)備，包括支承機(jī)構(gòu)、供料機(jī)構(gòu)、冷卻機(jī)構(gòu)、以及驅(qū)動機(jī)構(gòu)，所述支承機(jī)構(gòu)具有支承涂布對象的支承面、以及與所述支承面相鄰的流體腔，所述供料機(jī)構(gòu)包括分配漿料的分配部，所述分配部包括具有容納漿料的腔室的殼體、以及連通于所述腔室的出料口，所述冷卻機(jī)構(gòu)連通于所述支承機(jī)構(gòu)的流體腔，并向所述支承機(jī)構(gòu)的流體腔輸送冷卻介質(zhì)，所述驅(qū)動機(jī)構(gòu)驅(qū)動所述支承機(jī)構(gòu)和/或所述供料機(jī)構(gòu)以使兩者相對移動。

在本實(shí)用新型所涉及的涂布設(shè)備中，通過支承機(jī)構(gòu)支承涂布對象，通過供料機(jī)構(gòu)中分配漿料的分配部向出料口輸送漿料，出料口流出的漿料流到涂布對象，并通過驅(qū)動機(jī)構(gòu)驅(qū)動供料機(jī)構(gòu)并使支承機(jī)構(gòu)和/或供料機(jī)構(gòu)相互移動。由此，能夠通過涂布設(shè)備對涂布對象進(jìn)行涂布。另外，支撐機(jī)構(gòu)具有流體腔，冷卻機(jī)構(gòu)與流體腔連通并向流體腔輸送冷卻介質(zhì)。在這種情況下，當(dāng)涂布設(shè)備對涂布對象進(jìn)行涂布時(shí)，通過冷卻機(jī)構(gòu)向與支承面相鄰的流體腔輸送冷卻介質(zhì)，可以在涂布過程中維持漿料形成液膜的低溫條件，進(jìn)而抑制漿料的揮發(fā)直至完成大面積尺寸的涂布，由此能夠控制或降低漿料的揮發(fā)速率，提高大面積涂布的期望效果。

另外，在本實(shí)用新型所涉及的涂布設(shè)備中，可選地，所述冷卻介質(zhì)為冷卻氣或冷卻液。由此，通過冷卻氣和冷卻液在一定程度上降低周圍空間的溫度，由此能夠降低分子的運(yùn)動速率。

另外，在本實(shí)用新型所涉及的涂布設(shè)備中，可選地，所述供料機(jī)構(gòu)還包括連通于所述分配部且儲存漿料的儲料罐，所述儲料罐具有連通于所述冷卻機(jī)構(gòu)且與所述儲料罐的儲料空間相鄰且不連通的流體腔，所述冷卻機(jī)構(gòu)向所述儲料罐的流體腔輸送所述冷卻介質(zhì)。在這種情況下，當(dāng)對涂布對象進(jìn)行涂布時(shí)，通過冷卻介質(zhì)維持儲料罐中漿料所處的低溫環(huán)境，由此能夠有效控制或降低漿料的揮發(fā)速率。

另外，在本實(shí)用新型所涉及的涂布設(shè)備中，可選地，所述殼體具有連通于所述冷卻機(jī)構(gòu)且與所述腔室相鄰且不連通的流體腔，所述冷卻機(jī)構(gòu)向所述殼體的流體腔輸送所述冷卻介質(zhì)。由此，能夠有效控制殼體的溫度，使得保持在殼體內(nèi)的漿料能夠處于一個(gè)具有穩(wěn)定溫度的環(huán)境。