[發明專利]一種大面積消色差超構透鏡的制備方法在審
| 申請號: | 202211739484.2 | 申請日: | 2022-12-30 |
| 公開(公告)號: | CN115951433A | 公開(公告)日: | 2023-04-11 |
| 發明(設計)人: | 胡躍強;姜玉婷;李苓;段輝高;賈紅輝 | 申請(專利權)人: | 湖南大學;湖南大學深圳研究院;湖大粵港澳大灣區創新研究院(廣州增城) |
| 主分類號: | G02B3/00 | 分類號: | G02B3/00;G02B27/00;G02B17/08;G03F7/20;G03F7/16;G03F7/42 |
| 代理公司: | 北京思海天達知識產權代理有限公司 11203 | 代理人: | 王兆波 |
| 地址: | 410012 湖*** | 國省代碼: | 湖南;43 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 大面積 色差 透鏡 制備 方法 | ||
1.一種大面積消色差超構透鏡的制備方法,其特征在于,包括以下步驟:
S1、旋涂抗蝕劑,即在選擇好的介質襯底上進行抗蝕劑的旋涂,并進行抗蝕劑的烘烤以確保溶液全部排出,僅留下溶質;所述抗蝕劑為正型抗蝕劑包括聚甲基丙烯酸甲酯和ZEP;
S2、利用光刻技術進行版圖的精準曝光,光刻技術包括電子束曝光技術,紫外或者極紫外曝光技術和納米壓印技術;
S3、利用原子層沉積系統對曝光的位置的結構進行填充,沉積的厚度為最大結構尺寸的一半,在確保曝光位置全部填充的情況下,使生成的結構具有陡直性;
S4、刻蝕,即對包覆在抗蝕劑以上的部分進行刻蝕;
S5、去膠,即采用反應離子刻蝕的方法對樣片上剩余的抗蝕劑進行去除。
2.根據權利要求1所述的一種大面積消色差超構透鏡的制備方法,其特征在于,步驟S1為首先在具有ITO薄膜層的透明玻璃基板上以2000rpm的轉速旋涂1000nm厚的聚甲基丙烯酸甲酯電子束抗蝕劑層,并在180℃的熱板上烘烤4分鐘。
3.根據權利要求2所述的一種大面積消色差超構透鏡的制備方法,其特征在于,步驟S2為通過電子束光刻以100KV的電壓和200pA的束流對樣品進行曝光,將樣品在甲基異丁基酮和異丙醇的混合溶液中顯影1分鐘,并在IPA中固定1分鐘。
4.根據權利要求3所述的一種大面積消色差超構透鏡的制備方法,其特征在于,甲基異丁基酮和異丙醇的比例為1:3。
5.根據權利要求1所述的一種大面積消色差超構透鏡的制備方法,其特征在于,步驟S3為使用原子層沉積系統用230nmTiO2填充暴露區域,一層230nm?TiO2將保留在整個樣品的頂部。
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