[發明專利]一種涂層及帶有該涂層的支架、其制備方法和應用

在審

• 申請號: 202211739404.3
• 申請日: 2022-12-30
• 公開（公告）號: CN116196487A
• 公開（公告）日: 2023-06-02
• 發明（設計）人: 羅宇;黃君儀;張志軍
• 申請（專利權）人: 廣東博邁醫療科技股份有限公司
• 主分類號: A61L31/10
• 分類號: A61L31/10;A61L31/06;A61L31/16;C08F220/38;C08F220/32
• 代理公司: 北京維昊知識產權代理事務所(普通合伙) 11804
• 代理人: 孫新國

1.一種涂層，其用于包覆在支架表面，其特征在于，所述涂層包含聚多巴胺、兩性離子聚合物和多肽。

2.如權利要求1所述的涂層，其特征在于，所述兩性離子聚合物具有磺酸基團和環氧基團。

3.如權利要求1所述的涂層，其特征在于，所述多肽為精氨酸-谷氨酸-天冬氨酸-纈氨酸多肽或酪氨酸-異亮氨酸-甘氨酸-絲氨酸-精氨酸多肽。

4.一種帶有涂層的支架，其特征在于，包括基底支架和權利要求1至3任一項所述的涂層，所述涂層包覆在所述基底支架的表面。

5.如權利要求4所述的支架，其特征在于，所述基底支架的材料包括左旋聚乳酸、聚己內酯或聚乳酸-羥基乙酸共聚物。

6.如權利要求5所述的支架，其特征在于，所述基底支架的材料的分子量為600000-800000g/mol。

7.一種帶有涂層的支架的制備方法，其特征在于，包括：

將基底支架置于多巴胺溶液中進行反應，得到聚多巴胺修飾的基底支架；

將所述聚多巴胺修飾的基底支架置于兩性離子聚合物溶液中進行反應，得到兩性離子聚合物修飾的基底支架；以及

將所述兩性離子聚合物修飾的基底支架置于多肽溶液中進行反應，得到權利要求4至6任一項所述的帶有涂層的支架。

8.如權利要求7所述的制備方法，其特征在于，所述兩性離子聚合物的制備方法包括：

將兩性離子單體添加至水溶液中，在引發劑的作用下進行反應，得到兩性離子聚合物；

所述兩性離子單體為[2-(甲基丙烯酰氧)乙基]二甲基-(3-磺酸丙基)氫氧化銨和甲基丙烯酸縮水甘油酯；

所述引發劑為過硫酸銨和亞硫酸氫鈉的混合物。

9.如權利要求8所述的制備方法，其特征在于，所述得到兩性離子聚合物的步驟包括：

將所述[2-(甲基丙烯酰氧)乙基]二甲基-(3-磺酸丙基)氫氧化銨和所述甲基丙烯酸縮水甘油酯添加至水溶液中，在過硫酸銨和亞硫酸氫鈉的混合物的作用下進行反應得到反應產物，反應溫度為45℃，反應時間為5-12h，將反應產物經透析、冷凍干燥得到所述兩性離子聚合物；

所述[2-(甲基丙烯酰氧)乙基]二甲基-(3-磺酸丙基)氫氧化銨和所述甲基丙烯酸縮水甘油酯的質量比為5-10:1；

所述[2-(甲基丙烯酰氧)乙基]二甲基-(3-磺酸丙基)氫氧化銨在所述水溶液中的濃度為5-10wt％；

所述[2-(甲基丙烯酰氧)乙基]二甲基-(3-磺酸丙基)氫氧化銨與所述過硫酸銨的質量比為5-10:1；

所述過硫酸銨和所述亞硫酸氫鈉的質量比為2:1。

10.如權利要求7所述的制備方法，其特征在于，所述將所述聚多巴胺修飾的基底支架置于兩性離子聚合物溶液中進行反應得到兩性離子聚合物修飾的基底支架的步驟包括：

將所述聚多巴胺修飾的基底支架置于兩性離子聚合物溶液中進行反應，反應溫度為37℃，反應時間為24h，得到兩性離子聚合物修飾的基底支架，其中，

所述兩性離子聚合物溶液的濃度為1-2wt％。

11.如權利要求7所述的制備方法，其特征在于，所述將基底支架置于多巴胺溶液中進行反應得到聚多巴胺修飾的基底支架的步驟包括：

將基底支架浸泡于多巴胺溶液中進行反應，反應溫度為37℃，反應時間為12h，從而得到聚多巴胺修飾的基底支架；其中

所述多巴胺溶液的溶劑為pH為8.5的Tris-HCl緩沖液，所述多巴胺溶液的濃度為0.1-0.3wt％。