[發(fā)明專利]一種高效率高精度激光選區(qū)熔化成形的質(zhì)量控制方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202211734382.1 | 申請(qǐng)日: | 2022-12-31 |
| 公開(公告)號(hào): | CN116160016A | 公開(公告)日: | 2023-05-26 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 魏愷文;鐘橋;曾曉雁;岳曉澤;李祥友 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 華中科技大學(xué) |
| 主分類號(hào): | B22F10/28 | 分類號(hào): | B22F10/28;B22F10/366;B22F10/37;B22F10/85;B33Y10/00;B33Y50/02 |
| 代理公司: | 武漢華之喻知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 42267 | 代理人: | 張彩錦;梁鵬 |
| 地址: | 430074 湖北*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 高效率 高精度 激光 選區(qū) 熔化 成形 質(zhì)量 控制 方法 | ||
1.一種高效率高精度激光選區(qū)熔化成形的質(zhì)量控制方法,其特征在于,采用高功率激光束以較大的層厚、掃描速度和掃描間距成形金屬零部件的高效率成形區(qū)域;采用低功率激光束以較小的層厚、掃描速度和掃描間距成形金屬零部件的高精度成形區(qū)域;對(duì)于高效率成形區(qū)域和高精度成形區(qū)域之間的過渡區(qū)域,其采用的激光功率、層厚、掃描速度和掃描間距的取值介于高精度成形區(qū)域和高效率成形區(qū)域?qū)?yīng)的激光功率、層厚、掃描速度和掃描間距的取值之間,且當(dāng)過渡區(qū)域位于高效率成形區(qū)域的上方且位于高精度成形區(qū)域的下方時(shí),采用激光功率、層厚、掃描速度和掃描間距全部或部分逐層減小的方式成形;當(dāng)過渡區(qū)域位于高精度成形區(qū)域的上方且位于高效率成形區(qū)域的下方時(shí),采用激光功率、層厚、掃描速度和掃描間距全部或部分逐層增大的方式成形,以此在確保不同區(qū)域過渡質(zhì)量的前提下,實(shí)現(xiàn)金屬零部件的高效率、高精度SLM成形。
2.如權(quán)利要求1所述的高效率高精度激光選區(qū)熔化成形的質(zhì)量控制方法,其特征在于,高效率成形區(qū)域采用的激光束能量分布模式為高階多模、平頂模式或環(huán)形模式,且激光功率Pe≥1000W;高精度成形區(qū)域采用的激光束能量分布模式為高斯模式,且激光功率Pa1000W。
3.如權(quán)利要求2所述的高效率高精度激光選區(qū)熔化成形的質(zhì)量控制方法,其特征在于,如果過渡區(qū)域位于高效率成形區(qū)域上方和高精度成形區(qū)域下方,則過渡區(qū)域采用低功率激光成形,該低功率激光的能量分布模式為高斯模式,激光功率Pe-a逐層降低且滿足Pa≤Pe-a≤Pe;如果過渡區(qū)域位于高精度成形區(qū)域上方和高效率成形區(qū)域下方,則過渡區(qū)域采用高功率激光成形,該高功率激光的能量分布模式為高階多模、平頂模式或環(huán)形模式,激光功率Pe-a逐層提升且滿足Pa≤Pe-a≤Pe。
4.如權(quán)利要求1所述的高效率高精度激光選區(qū)熔化成形的質(zhì)量控制方法,其特征在于,高效率成形區(qū)域采用的層厚Te0.05mm,掃描速度Ve1500mm/s,掃描間距Se0.10mm;高精度成形區(qū)域采用的層厚Ta、掃描速度Va、掃描間距Sa滿足:0.01mm≤Ta≤0.05mm,300mm/s≤Va≤1500mm/s,0.06mm≤Sa≤0.10mm。
5.如權(quán)利要求4所述的高效率高精度激光選區(qū)熔化成形的質(zhì)量控制方法,其特征在于,如果過渡區(qū)域位于高效率成形區(qū)域上方和高精度成形區(qū)域下方,則過渡區(qū)域的層厚Te-a逐層減小,且滿足Ta≤Te-a≤Te;如果過渡區(qū)域位于高精度成形區(qū)域上方和高效率成形區(qū)域下方,則過渡區(qū)域的層厚Te-a逐層增加,且滿足Ta≤Te-a≤Te。
6.如權(quán)利要求4所述的高效率高精度激光選區(qū)熔化成形的質(zhì)量控制方法,其特征在于,如果過渡區(qū)域位于高效率成形區(qū)域上方和高精度成形區(qū)域下方,則過渡區(qū)域的掃描速度Ve-a逐層減小,且滿足Va≤Ve-a≤Ve;如果過渡區(qū)域位于高精度成形區(qū)域上方和高效率成形區(qū)域下方,則過渡區(qū)域的掃描速度Ve-a逐層增加,且滿足Va≤Ve-a≤Ve。
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