[發(fā)明專利]一種高透光率的光學物品在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202211727919.1 | 申請日: | 2022-12-31 |
| 公開(公告)號: | CN115961247A | 公開(公告)日: | 2023-04-14 |
| 發(fā)明(設計)人: | 吳秀榕;萬一兵;楊燕龍 | 申請(專利權(quán))人: | 福建戴斯光電有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/06 | 分類號: | C23C14/06;C23C14/08 |
| 代理公司: | 泉州市創(chuàng)標專利代理事務所(特殊普通合伙) 35253 | 代理人: | 潘文林 |
| 地址: | 350109 福建省福州市福州高新*** | 國省代碼: | 福建;35 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 透光率 光學 物品 | ||
1.一種高透光率的光學物品,其特征在于:包括一基層、至少一設于鍍設在所述基層一側(cè)上的第一鍍膜層以及至少一一側(cè)鍍設在所述基層另一側(cè)上的第二鍍膜層,所述第一鍍膜層為(MgF2/TiO2)xMgF2,所述第二鍍膜層為(SiO2/Ta2O5)xSiO2。
2.如權(quán)利要求1所述一種高透光率的光學物品,其特征在于:在所述(MgF2/TiO2)xMgF2中,TiO2為高折射率材料,折射率為2.54、氟化鎂(MgF2)為低折射率材料,折射率為1.3。
3.如權(quán)利要求1所述一種高透光率的光學物品,其特征在于:在所述(SiO2/Ta2O5)xSiO2中Ta2O5為高折射率材料,折射率為2.2,二氧化硅(SiO2)為低折射率材料,折射率為1.47。
4.如權(quán)利要求1所述一種高透光率的光學物品,其特征在于:所述基層為硼硅酸鹽冕玻璃,折射率為1.52,入射角度為0度。
5.如權(quán)利要求1所述一種高透光率的光學物品,其特征在于:所述第一鍍膜層為十五層結(jié)構(gòu),每層厚度依次為空氣|1.66L、0.75H、0.7L、0.88H、0.76L、0.88H、0.76L、0.88H、0.76L、0.88H、0.76L、0.88H、0.55L、0.89H、0.4L|基層,H、M、L分別表示為四分之一波長高、中、低折射率膜層膜厚。
6.如權(quán)利要求1所述一種高透光率的光學物品,其特征在于:所述第二鍍膜層為十五層結(jié)構(gòu),每層厚度依次為空氣|2L、0.66H、0.8L、0.88H、0.8L、0.88H、0.8L、0.88H、0.8L、0.88H、0.8L、0.88H、0.55L、0.66H、0.44L|基層,H、M、L分別表示為四分之一波長高、中、低折射率膜層膜厚。
7.如權(quán)利要求1所述一種高透光率的光學物品,其特征在于:所述第一鍍膜層為二十三層結(jié)構(gòu),每層厚度依次為空氣|1.66L、0.76H、0.69L、0.99H、0.69L、0.99H、0.69L、0.99H、0.69L、0.99H、0.62L、0.99H、0.62L、0.99H、0.56L、0.88H、0.56L、0.88H、0.56L、0.88H、0.42L、0.51H、0.42L|基層,H、M、L分別表示為四分之一波長高、中、低折射率膜層膜厚。
8.如權(quán)利要求1所述一種高透光率的光學物品,其特征在于:所述第二鍍膜層為二十三層結(jié)構(gòu),每層厚度依次為空氣|1.47L、0.66H、0.81L、0.77H、0.81L、0.77H、0.81L、0.87H、0.81L、0.87H、0.81L、0.87H、0.81L、0.87H、0.81L、0.87H、0.81L、0.87H、0.81L、0.87H、0.81L、0.44H、0.73L|基層,H、ML分別表示四分之一波長高、中、低折射率膜層膜厚。
9.如權(quán)利要求1所述一種高透光率的光學物品,其特征在于:還包括一鍍設在所述第二鍍膜層另一側(cè)上的第三鍍膜層,所述第三鍍膜層包括一第一二氧化硅膜、復數(shù)層第一五氧化三鈦膜以及復數(shù)層第二二氧化硅膜,每一層所述第二二氧化硅膜的兩側(cè)均分別對應鍍設有一層所述第一五氧化三鈦膜,所述第一五氧化三鈦膜的厚度大于所述第二二氧化硅膜的厚度,最外側(cè)的一層所述第一五氧化三鈦膜鍍設在所述第一二氧化硅膜的一側(cè)上,所述第一二氧化硅膜的另一側(cè)與所述第一鍍膜層之間通過光膠的方式連成一體,所述第二二氧化硅膜的厚度為四分之一波長光學厚度的A倍,所述第一五氧化三鈦膜的厚度為四分之一波長光學厚度的A倍,所述A的取值范圍為0.5~1.5。
10.如權(quán)利要求1所述一種高透光率的光學物品,其特征在于:所述基層的厚度為0.3186mm,加工厚度公差±0.002mm,所述基層的光軸平行于通光面。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





