[發明專利]一種金剛石研磨膏及其制備方法在審
| 申請號: | 202211727720.9 | 申請日: | 2022-12-31 |
| 公開(公告)號: | CN116083052A | 公開(公告)日: | 2023-05-09 |
| 發明(設計)人: | 吳月英;馮坤;齊榮 | 申請(專利權)人: | 北京國瑞升科技股份有限公司 |
| 主分類號: | C09K3/14 | 分類號: | C09K3/14;C09G1/02 |
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| 地址: | 100085 北京市海淀區上*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 金剛石 研磨 及其 制備 方法 | ||
本發明提供了一種金剛石研磨膏及其制造方法,金剛石研磨膏主要由以下組分組成:研磨微粉、液體油和研磨助劑;其中,所述研磨微粉包括偶聯處理的金剛石微粉和球形氧化鋁粉;所述液體油包括溶劑油、合成油、飽和醇聚合物的一種或幾種的混合;所述研磨助劑包括金屬銅粉、山梨醇脂肪酸酯、潤濕分散劑、潤滑劑、抗磨劑、雙親性有機物、增稠劑。本發明的金剛石研磨膏通過加入球形氧化鋁粉來改善金剛石微粉的分散性能及研磨性能,同時,在研磨過程中球形氧化鋁粉也起到了降低研磨盤盤溫的作用;通過加入金屬銅粉、潤滑劑、抗磨劑并采用特定的液體油等方式來降低研磨過程中的研磨盤盤溫以及降低被加工工件的表面粗糙度;通過加入特定的雙親性有機物來改善金剛石研磨膏的清洗性能;通過添加增稠劑來調節研磨膏的稠度,進而改善其使用性能及研磨性能。本發明的金剛石研磨膏具有分散性好,流動性好,研磨速率高,研磨盤盤溫可控,工件表面光潔度高、不粘工件,易清潔的突出特點,可提高研磨加工效率,降低加工成本。
技術領域
本發明涉及材料精密加工技術領域,具體而言,涉及一種金剛石研磨膏及其制備方法與應用。
背景技術
目前,精密超精密加工技術作為裝備制造業中的關鍵技術,長期以來一直是世界各國進行研發和應用的重點。隨著該加工技術的快速發展,目前,其在我國的應用早已不再局限于國防尖端和航空航天等少數領域,它已擴展到了國民經濟的各個領域,如,聲、光、圖像、辦公設備中的小型、超小型電子和光學零件的精密、超精密加工技術方面,其應用規模逐年增長,從單件小批量生產方式走向規模生產,隨著新產品的不斷涌現,精密超精密加工的應用范圍將進一步擴大。
精密超精密加工技術已成為目前高科技技術領域的基礎,鑒于先進制造技術的迅猛發展,對精度的要求越來越高,常規工藝已越來越不能滿足高精度制造的要求,迫切需要精密超精密加工技術來支持。
在進行精密超精密加工時,最后工序往往都是精密超精密研磨與拋光,而在精密超精密研磨與拋光時,一般需要使用金剛石研磨膏等研磨耗材,而現有的金剛石研磨膏主要有兩類,分別是水溶性金剛石研磨膏和油溶性金剛石研磨膏,相較于水性金剛石研磨膏存在的拋光速率低,工件表面粗糙度偏大的缺陷,油性金剛石研磨膏具有研磨速率更高,工件表面加工質量更好,性能更佳,但傳統的油性金剛石研磨膏存在流動性差、潤濕及潤滑性能差,表面粗糙度大,光潔度差,容易粘結在工件上,不易清潔的缺陷,另外,在研磨拋光過程中,往往還存在因大壓力下持續機械研磨拋光產生的熱量無法及時散出而使得被拋工件局部溫度過高而影響到拋光效果,不能滿足精密超精密加工的高需求。中國專利(公開號為CN?107400499?A)公開了一種金剛石研磨膏及其制備方法,該發明為油性金剛石研磨膏,其存在潤濕、潤滑性能差,被拋工件研磨面局部溫度過高,表面粗糙度大,表面光潔度差,容易粘結在工件上,不易清潔的缺陷。中國專利(公開號為CN?104017499?A)公開了一種金剛石研磨膏,同樣存在上述缺陷。
有鑒于此,特提出本發明。本發明可廣泛應用于各種模具、金相學、光學晶體、球形閥、硬質合金和氧化鋯義齒光等高硬度材料的研磨拋光。
發明內容
本發明的第一目的在于提供一種可廣泛應用于各種模具、金相學、光學晶體、球形閥、硬質合金和氧化鋯義齒光等高硬度材料研磨拋光的金剛石研磨膏,其具有分散性好,流動性好,拋光良率高,研磨盤表面溫度可控,工件表面光潔度高、不粘工件,易清潔的突出特點,在精密超精密研磨拋光過程中,研磨盤表面溫度比較適中,不會出現工件研磨盤盤面溫度過高、粗糙度過大的問題,克服了現有技術中傳統金剛石研磨膏所存在的研磨盤盤面溫度過高、工件表面粗糙度過大、光潔度差的問題,同時也克服了現有技術中研磨膏所存在的流動性差、劃傷嚴重、粘工件、不易清潔的問題。
本發明的第二目的在于提供一種金剛石研磨膏的制備方法,該制備方法前后步驟銜接緊密,方法簡單快捷,易于操作,并且操作條件溫和,可實現工業化生產,經濟效益好。
為了實現本發明的上述目的,特采用以下技術方案:
一種金剛石研磨膏,所述金剛石研磨膏主要由按重量份數計的如下組分制得:
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