[發明專利]一種超導頻電四極場加速器裝置

在審

• 申請號: 202211722381.5
• 申請日: 2022-12-30
• 公開（公告）號: CN115955757A
• 公開（公告）日: 2023-04-11
• 發明（設計）人: 何源;王志軍
• 申請（專利權）人: 中國科學院近代物理研究所
• 主分類號: H05H9/04
• 分類號: H05H9/04;H05H7/22
• 代理公司: 北京紀凱知識產權代理有限公司 11245
• 代理人: 謝斌

1.一種超導頻電四極場加速器裝置，其特征在于，包括：液氦入口管路、液氦出口管路、功率耦合管路、液氦槽和超導RFQ腔體，所述超導RFQ腔體設置在所述液氦槽內，加壓液氦通過液氦入口管路灌入液氦槽并且從液氦出口管路流出，液氦浸沒超導RFQ腔體，維持超導RFQ腔體工作所需2K至4K的低溫環境。

2.根據權利要求1所述的超導頻電四極場加速器裝置，其特征在于，還包括：調諧器，調諧器通過擠壓所述超導RFQ腔體的壁體來調諧。

3.根據權利要求1所述的超導頻電四極場加速器裝置，其特征在于，還包括：超導螺線管，所述超導螺線管集成在液氦槽中，所述超導螺線管為離子加速提供聚束作用。

4.根據權利要求1所述的超導頻電四極場加速器裝置，其特征在于，當超導RFQ腔體完全達到超導溫度后，由功率耦合管路饋入微波功率，在超導RFQ腔體中建立起穩定的諧振電磁場，為離子加速提供電磁場。

5.根據權利要求1所述的超導頻電四極場加速器裝置，其特征在于，在所述超導RFQ腔體中設置四個翼，所述四個翼呈對稱放射狀設置在所述超導RFQ腔體中。

6.根據權利要求1所述的超導頻電四極場加速器裝置，其特征在于，所述超導RFQ腔體的外壁為圓形。

7.根據權利要求1所述的超導頻電四極場加速器裝置，其特征在于，所述超導RFQ腔體設置在所述液氦槽的中心處，所述超導RFQ腔體的底部通過支架固定在所述液氦槽的內壁上。

8.根據權利要求1所述的超導頻電四極場加速器裝置，其特征在于，所述超導RFQ腔體包括束流管，所述束流管的一端連接到所述超導RFQ腔體的側壁，并且穿過所述液氦槽的側板，所述束流管的另一端設置有法蘭，以與外界相連。

9.根據權利要求1所述的超導頻電四極場加速器裝置，其特征在于，所述超導RFQ腔體為鈮材加工而成。

10.根據權利要求1所述的超導頻電四極場加速器裝置，其特征在于，所述液氦槽為鈮材加工而成。