[發(fā)明專利]一種易切削高硬度不銹鋼激光熔覆層及其制備方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202211716850.2 | 申請日: | 2022-12-29 |
| 公開(公告)號: | CN115948739A | 公開(公告)日: | 2023-04-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 李潔;蘇成明;王昕;劉文博;張飄飄;曹鵬 | 申請(專利權(quán))人: | 西安智能再制造研究院有限公司 |
| 主分類號: | C23C24/10 | 分類號: | C23C24/10;B22F1/00;C22C38/02;C22C38/04;C22C38/44;C22C38/48;C22C38/54;C22C38/60;C22C38/06;B22F9/08 |
| 代理公司: | 西安通大專利代理有限責(zé)任公司 61200 | 代理人: | 錢宇婧 |
| 地址: | 710000 陜西省西安市經(jīng)*** | 國省代碼: | 陜西;61 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 切削 硬度 不銹鋼 激光 覆層 及其 制備 方法 | ||
1.一種易切削高硬度不銹鋼激光熔覆層,其特征在于,所述激光熔覆層通過不銹鋼激光熔覆粉末制備而成,以質(zhì)量分數(shù)計,所述不銹鋼激光熔覆粉末的組成為:
C:0.13-0.21%,Cr:17-21%,Ni:2-5%,Mo:1.3-2%,Mn:0.2-0.6%;Nb:0.8-1.4%,B:0.7-1.2%,Si:0.3-0.6%,Al:0.02-0.05%,S:0.04-0.07%,P:0.02-0.05%,余量為Fe和不可避免的雜質(zhì)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種易切削高硬度不銹鋼激光熔覆層,其特征在于,所述不銹鋼激光熔覆粉末的組成為:C:0.16%,Cr:19.5%,Ni:2.3%,Mo:1.1%,Mn:0.3%,Nb:0.9%,B:0.98%,Si:0.4%,Al:0.03%,S:0.06%,P:0.04%,余量為Fe和不可避免的雜質(zhì)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種易切削高硬度不銹鋼激光熔覆層,其特征在于,所述不銹鋼激光熔覆粉末的粒度為100~270目;所述熔覆層中的w(Mn)/w(S)為5.0~8.0。
4.一種權(quán)利要求1所述易切削高硬度不銹鋼激光熔覆層的制備方法,其特征在于,按照目標成分混合合金粉末,制備出不銹鋼激光熔覆粉末,不銹鋼激光熔覆粉末置于光纖激光器的送粉器中,送粉器送粉的同時進行激光掃描,在基體上形成所述不銹鋼激光熔覆層。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的易切削高硬度不銹鋼激光熔覆層的制備方法,其特征在于,所述不銹鋼激光熔覆粉末進行干燥后置于光纖激光器的送粉器中,干燥溫度為100℃~200℃,干燥時間為1.5h。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的易切削高硬度不銹鋼激光熔覆層的制備方法,其特征在于,送粉過程中的送粉速率為60g/min-75g/min。
7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的易切削高硬度不銹鋼激光熔覆層的制備方法,其特征在于,送粉器的鋪粉方式為氮氣送粉預(yù)制鋪粉,鋪粉寬度為14mm,鋪粉厚度為2mm。
8.根據(jù)權(quán)利要求4所述的易切削高硬度不銹鋼激光熔覆層的制備方法,其特征在于,激光掃描的功率為5000-6000W,光斑尺寸14mm×2mm,掃描速度為480mm/min-660mm/min。
9.根據(jù)權(quán)利要求4所述的易切削高硬度不銹鋼激光熔覆層的制備方法,其特征在于,激光掃描過程中,激光熔覆搭接率為35%,送粉氣流量為10L/min。
10.根據(jù)權(quán)利要求4所述的易切削高硬度不銹鋼激光熔覆層的制備方法,其特征在于,通過氣霧化制粉工藝混合粉末。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于西安智能再制造研究院有限公司,未經(jīng)西安智能再制造研究院有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202211716850.2/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C24-00 自無機粉末起始的鍍覆
C23C24-02 .僅使用壓力的
C23C24-08 .加熱法或加壓加熱法的
C23C24-10 ..覆層中臨時形成液相的
C23C24-04 ..顆粒的沖擊或動力沉積
C23C24-06 ..粉末狀覆層材料的壓制,例如軋制





