[發明專利]質譜儀及其氣相離子源裝置在審
| 申請號: | 202211708284.0 | 申請日: | 2022-12-29 |
| 公開(公告)號: | CN116206943A | 公開(公告)日: | 2023-06-02 |
| 發明(設計)人: | 朱勇勇;陳元;郭錫巖;何洋;肖育 | 申請(專利權)人: | 上海裕達實業有限公司 |
| 主分類號: | H01J49/26 | 分類號: | H01J49/26;H01J49/04;H01J49/10 |
| 代理公司: | 上海段和段律師事務所 31334 | 代理人: | 李佳俊 |
| 地址: | 200245 *** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 質譜儀 及其 離子源 裝置 | ||
1.一種氣相離子源電離裝置,其特征在于,包括第一金屬網(1)、第二金屬網(2)以及電離源腔室(3);
所述第一金屬網(1)與所述第二金屬網(2)兩者以平行間隔方式固定于所述電離源腔室(3)內,所述電離源腔室(3)設有進樣口(31)、載氣進口(32)以及離子出口(33),所述進樣口(31)位于所述第一金屬網(1)與所述第二金屬網(2)之間,所述載氣進口(32)位于所述第二金屬網(2)的外側,所述離子出口(33)位于所述第一金屬網(1)的外側;
所述第一金屬網(1)加載高電平,所述第二金屬網(2)加載低電平,氣相樣品經所述進樣口(31)進入所述第一金屬網(1)和第二金屬網(2)之間,所述電離源腔室(3)內工作氣壓的改變使所述第一金屬網(1)對所述第二金屬網(2)放電,位于所述第一金屬網(1)與所述第二金屬網(2)之間的氣相樣品被電離,被電離的離子在所述第一金屬網(1)的電壓和通過所述載氣進口(32)進入的載氣的輔助作用下飛向所述離子出口(33),并經所述離子出口(33)被引出所述電離源腔室(3)之外而進入下一級系統。
2.根據權利要求1所述的氣相離子源電離裝置,其特征在于,所述第一金屬網(1)與所述第二金屬網(2)的材質相同或不同。
3.根據權利要求2所述的氣相離子源電離裝置,其特征在于,所述第一金屬網(1)與所述第二金屬網(2)的材質為不銹鋼。
4.根據權利要求1所述的氣相離子源電離裝置,其特征在于,所述第一金屬網(1)與所述第二金屬網(2)的形狀相同或不同。
5.根據權利要求1-4任一所述的氣相離子源電離裝置,其特征在于,所述第一金屬網(1)與所述第二金屬網(2)之間施加的電壓差值為2~3KV,所述第一金屬網(1)和所述第二金屬網(2)之間的間隙為1.5~3mm。
6.一種質譜儀,其特征在于,采用如權利要求1-5任一所述的氣相離子源電離裝置,還包括樣品引入裝置(4)、載氣引入裝置(5)、離子傳輸裝置(6)、質量分析器(7)、離子接收裝置(8)以及真空泵(9);
所述樣品引入裝置(4)通過所述進樣口(31)將待測氣相樣品送入所述第一金屬網(1)和所述第二金屬網(2)之間,所述載氣引入裝置(5)通過所述載氣進口(32)輸入載氣,電離的離子在所述第一金屬網(1)的電壓和載氣的輔助作用下飛向所述離子出口(33),并經所述離子出口(33)進入所述離子傳輸裝置(6)中,通過所述離子傳輸裝置(6)的準直和整形傳輸至所述質量分析器(7)中進行分析,分析完成后的離子自所述質量分析器(7)進入所述離子接收裝置(8)內,所述離子接收裝置(8)用于形成質譜圖,所述真空泵(9)用于實現質譜儀內部腔室所需的真空環境。
7.根據權利要求6所述的質譜儀,其特征在于,所述離子傳輸裝置(6)為離子透鏡、離子導引裝置或離子透鏡和離子導引裝置的組合體。
8.根據權利要求6所述的質譜儀,其特征在于,所述質量分析儀(7)為四極桿、離子阱或飛行時間質譜儀。
9.根據權利要求6所述的質譜儀,其特征在于,所述離子接收裝置(8)為法拉第筒、電子倍增器或微通道板。
10.根據權利要求6所述的質譜儀,其特征在于,所述載氣引入裝置(4)引入的載氣為惰性氣體或混有甲烷的惰性氣體。
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