[發明專利]能級調控PbS量子點光電探測器及其制備方法在審
| 申請號: | 202211705410.7 | 申請日: | 2022-12-29 |
| 公開(公告)號: | CN116190485A | 公開(公告)日: | 2023-05-30 |
| 發明(設計)人: | 余黎靜;唐利斌;田品;郝群;鐘和甫;左文彬;雷曉虹;鄧功榮;王靜宇;黃俊博;馮江敏;袁俊;龔曉霞;施靜梅 | 申請(專利權)人: | 昆明物理研究所 |
| 主分類號: | H01L31/109 | 分類號: | H01L31/109;H01L31/0352;H01L31/18;H01L31/0336;H01L31/0224 |
| 代理公司: | 昆明祥和知識產權代理有限公司 53114 | 代理人: | 和琳 |
| 地址: | 650000 云*** | 國省代碼: | 云南;53 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 能級 調控 pbs 量子 光電 探測器 及其 制備 方法 | ||
1.能級調控PbS量子點光電探測器,為垂直型多層結構,其特征在于從下至上,分別為襯底、ITO或FTO電極、AZO功能層、PbS量子點光敏層、Bi2Te3薄膜和Al電極。
2.如權利要求1所述的能級調控PbS量子點光電探測器,其特征在于所述襯底為金剛石、藍寶石或石英。
3.如權利要求1所述的能級調控PbS量子點光電探測器,其特征在于所述PbS量子點的尺寸為3?nm。
4.能級調控PbS量子點光電探測器的制備方法,其特征在于制備方法包括以下步驟:
步驟1,清洗已在表面制備ITO或FTO透明電極的透明襯底;
步驟2,在已制備ITO或FTO透明電極的透明襯底上磁控濺射一層AZO薄膜,濺射在室溫下進行,濺射功率為140-220W、Ar流量為60-100sccm,濺射壓強為3-10Pa,濺射時間20-100min;
步驟3,在濺射完AZO的襯底上,旋涂PbS量子點,旋涂轉速為2000-2500?rpm,旋涂時間為20-40s;旋涂PbS量子點5-10層;
其中,PbS量子點的溶劑為正辛烷或正己烷,濃度為10?-50?mg/mL,每旋涂完一層量子點,進行TBAI配體交換,交換時間為30-60s,交換完后用甲醇進行清洗;
步驟4,在PbS量子點薄膜上磁控濺射一層Bi2Te3薄膜,濺射在室溫下進行,濺射功率為150-200W、Ar流量為60-100sccm,濺射壓強為3-10Pa,濺射時間1-5s;
步驟5,Bi2Te3薄膜上鍍膜生長一層Al電極,使用物理氣相沉積法鍍涂Al電極,蒸鍍時間為2-10min,構筑完成探測器。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





