[發(fā)明專(zhuān)利]兆聲輔助的研磨盤(pán)及研磨總成在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202211702503.4 | 申請(qǐng)日: | 2022-12-29 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN115972081A | 公開(kāi)(公告)日: | 2023-04-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 孫勇 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 萬(wàn)華化學(xué)集團(tuán)電子材料有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | B24B37/11 | 分類(lèi)號(hào): | B24B37/11;B24B37/34;B24B47/00;B24B57/00 |
| 代理公司: | 北京信諾創(chuàng)成知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11728 | 代理人: | 王媛媛;楊仁波 |
| 地址: | 264006 山東省*** | 國(guó)省代碼: | 山東;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 輔助 研磨 總成 | ||
1.一種兆聲輔助的研磨盤(pán),其特征在于,包括:
研磨盤(pán)本體,所述研磨盤(pán)本體的第一表面開(kāi)設(shè)有容納槽;
上盤(pán),所述上盤(pán)覆蓋所述研磨盤(pán)本體的第一表面,并與所述研磨盤(pán)本體可拆卸連接;
兆聲發(fā)生器;
換能器,所述換能器設(shè)置于所述容納槽內(nèi),并與所述兆聲發(fā)生器電連接;
匹配層,所述匹配層在所述容納槽內(nèi)與所述換能器朝向所述上盤(pán)的一側(cè)表面固定連接,并與所述上盤(pán)抵接;
傳動(dòng)軸,所述傳動(dòng)軸與所述研磨盤(pán)本體固定連接;
驅(qū)動(dòng)組件,所述驅(qū)動(dòng)組件與所述傳動(dòng)軸驅(qū)動(dòng)連接,驅(qū)動(dòng)所述傳動(dòng)軸轉(zhuǎn)動(dòng)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的兆聲輔助的研磨盤(pán),其特征在于,還包括:
研磨墊,所述研磨墊與所述上盤(pán)背向所述容納槽的一側(cè)表面固定連接。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的兆聲輔助的研磨盤(pán),其特征在于:
所述研磨墊朝向所述上盤(pán)的一側(cè)表面設(shè)置有膠粘層,所述研磨墊與所述上盤(pán)膠粘連接。
4.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)所述的兆聲輔助的研磨盤(pán),其特征在于,還包括:
用于監(jiān)測(cè)晶圓表面膜層厚度的終點(diǎn)檢測(cè)裝置,所述終點(diǎn)檢測(cè)裝置設(shè)置于所述容納槽內(nèi)。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的兆聲輔助的研磨盤(pán),其特征在于:
所述終點(diǎn)檢測(cè)裝置包括光學(xué)終點(diǎn)檢測(cè)裝置和電渦流終點(diǎn)檢測(cè)裝置中的至少一種。
6.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)所述的兆聲輔助的研磨盤(pán),其特征在于:
所述換能器、所述匹配層和所述研磨盤(pán)本體同軸設(shè)置。
7.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)所述的兆聲輔助的研磨盤(pán),其特征在于:
所述兆聲發(fā)生器發(fā)出的兆聲頻率為850KHz-1.4MHz。
8.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)所述的兆聲輔助的研磨盤(pán),其特征在于:
所述上盤(pán)與所述研磨盤(pán)本體螺栓連接。
9.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)所述的兆聲輔助的研磨盤(pán),其特征在于:
所述匹配層朝向所述換能器的一側(cè)表面設(shè)置有膠粘層,所述匹配層和所述換能器膠粘連接。
10.一種研磨總成,包括研磨頭、研磨液供液臂和研磨墊修整器,其特征在于,還包括權(quán)利要求1-9任一項(xiàng)所述的兆聲輔助的研磨盤(pán)。
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