[發明專利]一種高耐候光學薄膜及其制備方法在審
| 申請號: | 202211636134.3 | 申請日: | 2022-12-19 |
| 公開(公告)號: | CN116144278A | 公開(公告)日: | 2023-05-23 |
| 發明(設計)人: | 齊竹竹;郭秋泉 | 申請(專利權)人: | 江蘇新澄瑞材料科技有限公司 |
| 主分類號: | C09J7/25 | 分類號: | C09J7/25;C09D4/02;C09D4/06;C09D7/65;C09D7/61;C09D133/04;C09D175/14 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 高耐候 光學薄膜 及其 制備 方法 | ||
本發明公開了一種高耐候光學薄膜及其制備方法,涉及光學薄膜制備技術領域。該高耐候光學薄膜,包括基材,所述基材的背面設置有膠黏層,所述膠黏層設置于離型膜上,所述基材正面設置有防眩光層,所述防眩光層設置于減反射層上,所述減反射層設置于防指紋層上,所述防指紋層上設置有保護膜。該光學耐候性薄膜的制備方法,包括以下步驟:第一步、配制防眩光微粒涂液;第二步、將所述防眩光微粒涂液涂布于基材上;第三步、涂液固化后形成防眩光微粒涂層;第四步、在所述防眩光涂層上濺射減反射層;第五步、在所述減反射層上涂布得到防指紋層。本發明能有效減少外界強光經過光學薄膜的反射光對人眼造成的炫目,能滿足車載環境測試嚴苛的要求。
技術領域
本發明涉及屏幕保護膜制備技術領域,具體為一種高耐候光學薄膜及其制備方法。
背景技術
近年來,隨著科技的不斷發展,光學薄膜的應用越來越廣,光學薄膜技術一直是光學領域中不可忽略重要基礎技術,而且品質要求也越來越高,加上近年來在資訊顯示及光通訊科技快速發展之下,不論是在顯示設備中分、合色元件,又或是在光通訊主、被動元件開發制備上,薄膜制備技術都是不可忽略的,尤其是車載顯示屏作為HMI系統中的重要組成設備,市場需求將迎來快速提升,光學薄膜在車載顯示屏領域的應用需求將大幅上升。
然而普通的顯示屏有如下缺點:1)當外界環境中有強光時,光學薄膜會反射外界光進入人眼,使人眼產生炫目或疲勞;2)車載環境對光學薄膜的耐候特性測試要求嚴苛,玻璃透過率普遍在90%左右,導致屏幕的清晰度不高。
發明內容
解決的技術問題
針對現有技術的不足,本發明提供了一種高耐候光學薄膜及其制備方法,解決了1)當外界環境中有強光時,光學薄膜會反射外界光進入人眼,使人眼產生炫目或疲勞;2)車載環境對光學薄膜的耐候特性測試要求嚴苛,玻璃透過率普遍在90%左右,導致屏幕的清晰度不高。
技術方案
為實現以上目的,本發明通過以下技術方案予以實現:一種高耐候光學薄膜,包括基材,所述基材的背面設置有膠黏層,所述膠黏層背面設置有離型膜,所述基材正面設置有防眩光層,所述防眩光層正面設置有減反射層,所述減反射層正面設置有防指紋層,所述防指紋層正面設置有保護膜。
進一步地,所述基材為SRF光學級膜材。
進一步地,所述減反射層包括第一高折射層,所述第一高折射層的正面設置有第一低折射層,所述第一低折射層的正面設置有第二高折射層,所述第二高折射層的正面設置有第二低折射層。
進一步地,所述第一高折射層厚度8nm,第一低折射層厚度35nm,第二高折射層厚度111nm,第二低折射層厚度95nm。
進一步地,所述第一高折射層和第二高折射層的折射率為1.9~3.0,所述第一低折射層和第二低折射層的折射率為1.2~1.8。
一種高耐候光學薄膜的制備方法,包括以下步驟:
第一步、配制防眩光微粒涂液;
第二步、將所述防眩光微粒涂液涂布于基材上;
第三步、涂液固化后形成防眩光層;
第四步、在所述防眩光層上濺射減反射層;
第五步、在所述減反射層上涂布得到防指紋層。
進一步地,所述第一步中的防眩光微粒涂液的配置方法:
S1、將防眩光微粒、有機樹脂、光引發劑、紫外吸收劑、光穩定劑溶解于溶劑中;
S2、最后加入助劑,攪拌均勻。
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