[發明專利]一種濺鍍用IZO摻雜靶材及其制備方法

在審

• 申請號: 202211626321.3
• 申請日: 2022-12-15
• 公開（公告）號: CN116041047A
• 公開（公告）日: 2023-05-02
• 發明（設計）人: 譚洪蕾;邵學亮;李開杰;鐘小華
• 申請（專利權）人: 先導薄膜材料（廣東）有限公司
• 主分類號: C04B35/01
• 分類號: C04B35/01;C04B35/622;C23C14/35;C23C14/08
• 代理公司: 清遠市清城區諾譽知識產權代理事務所(普通合伙) 44815
• 代理人: 龔元元

1.一種濺鍍用IZO摻雜靶材，其特征在于，由氧化銦、氧化鋅和摻雜氧化物組成；所述IZO摻雜靶材中Zn與In的原子比為Zn/(Zn+In)＝0.1％～7％；所述摻雜氧化物為氧化鉭、氧化鈰、氧化鈦、氧化鍺或氧化鎵。

2.根據權利要求1所述的一種濺鍍用IZO摻雜靶材，其特征在于，所述IZO摻雜靶材的質量百分含量組成為：氧化銦95.58％～99.74％，氧化鋅0.06％～4.22％，摻雜氧化物≤0.2％。

3.根據權利要求1或2所述的一種濺鍍用IZO摻雜靶材，其特征在于，所述IZO摻雜靶材相對密度大于98.5％，電阻率＜5mΩ﹒cm，50～300nm的氣孔＜10個/2600μm²。

4.權利要求1～3任一項所述的一種濺鍍用IZO摻雜靶材的制備方法，其特征在于，包括如下制備步驟：

(1)將氧化銦粉末、氧化鋅粉末、摻雜氧化物粉末與水、分散劑和粘結劑混合制漿，得到漿料；

(2)將步驟(1)所得漿料進行噴霧造粒，得到造粒粉末；

(3)將步驟(2)所得造粒粉末經過干壓和冷等靜壓后，進行常壓燒結，得到所述濺鍍用IZO摻雜靶材。

5.根據權利要求4所述的一種濺鍍用IZO摻雜靶材的制備方法，其特征在于，步驟(1)中所述分散劑為聚乙烯吡咯烷酮、聚羧酸系化合物、聚乙烯酸鹽中的一種或多種，分散劑的加入量為氧化銦粉末和氧化鋅粉末總質量的3％～10％。

6.根據權利要求4所述的一種濺鍍用IZO摻雜靶材的制備方法，其特征在于，步驟(1)中所述粘結劑為聚乙烯醇、羧甲基纖維素、聚丙烯酰胺、聚丙烯酸鹽、聚乙二醇中的一種或多種，粘結劑的加入量為氧化銦粉末和氧化鋅粉末總質量的3％～10％。

7.根據權利要求4所述的一種濺鍍用IZO摻雜靶材的制備方法，其特征在于，步驟(1)中所述漿料的固含量為45％～70％之間，漿料粒度D50＜0.5μm，D90＜1μm。

8.根據權利要求4所述的一種濺鍍用IZO摻雜靶材的制備方法，其特征在于，步驟(2)中所述噴霧造粒的溫度為80～110℃，所述造粒粉末的粒徑介于0.5～2μm之間。

9.根據權利要求4所述的一種濺鍍用IZO摻雜靶材的制備方法，其特征在于，步驟(3)中所述燒結的程序為：以0.1～1℃/min升溫至1300～1550℃，保溫5～12h。

10.權利要求1～3任一項所述的一種濺鍍用IZO摻雜靶材的制備方法，其特征在于，包括如下制備步驟：

(1)將氧化銦粉末、氧化鋅粉末、摻雜氧化物粉末與水、分散劑和粘結劑混合制漿，通過細磨分別得到粒度0.3μm＜D50＜0.5μm，0.75μm＜D90＜1μm的大顆粒漿料和粒度0.15μm＜D50＜0.3μm，0.5μm＜D90＜0.75μm的小顆粒漿料；

(2)將步驟(1)所得大顆粒漿料和小顆粒漿料按質量比為1～4:1混合得到混合漿料；

(3)將步驟(2)所得混合漿料進行噴霧造粒，得到造粒粉末；

(4)將步驟(3)所得造粒粉末經過干壓和冷等靜壓后，進行常壓燒結，得到所述濺鍍用IZO摻雜靶材。