[發明專利]一種低成本非摻雜異質結晶體硅太陽能電池及其制備方法在審
| 申請號: | 202211624308.4 | 申請日: | 2022-12-16 |
| 公開(公告)號: | CN115985993A | 公開(公告)日: | 2023-04-18 |
| 發明(設計)人: | 黃仕華;駱蕓爾;李林華 | 申請(專利權)人: | 浙江師范大學 |
| 主分類號: | H01L31/0745 | 分類號: | H01L31/0745;H01L31/18;C23C16/40;C23C16/505;C23C16/56;C23C14/24;C23C14/16;C23C14/35;C23C14/08;C23C28/00 |
| 代理公司: | 杭州之江專利事務所(普通合伙) 33216 | 代理人: | 朱楓 |
| 地址: | 321004 *** | 國省代碼: | 浙江;33 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 低成本 摻雜 結晶體 太陽能電池 及其 制備 方法 | ||
1.一種低成本的非摻雜異質結晶體硅太陽能電池,其特征在于具有如下的結構:Ag/ITO/Mnz1MoOy2/MoOy1/SiOp/p-c-Si/SiOp/TiOx1/Mnz2TiOx2/Ca/Al,其中1x11.8,1x21.8,1y12.5,1y22.5,0z10.15,0z20.15,1p2,SiOp層厚度小于1.5nm。
2.如權利要求1所述的一種低成本的非摻雜異質結晶體硅太陽能電池的制備方法,其特征在于:所用的生長設備包括混氣室和反應腔體,生長源溶液通過蒸發器蒸發并采用氫氣攜帶的方式進入混氣室,然后進入反應腔體,反應腔體內設有上下兩個金屬網格電極,射頻電壓加在上下兩個金屬網格電極之間;制備方法包括如下步驟:
1)硅片清洗;
2)氧化鉬薄膜生長:清洗后的硅片固定于反應腔體內可旋轉的載物臺上,打開MoCl5蒸發器的電源,通入氧氣、經過氫氣攜帶的MoCl5,打開射頻電源,在射頻電壓的激勵下生成等離子,然后發生反應,形成的反應物MoOy1沉積到硅片表面;
3)氧化鉬錳薄膜生長:MoOy1薄膜生長結束以后,打開MnCl2蒸發器的電源,經過氫氣攜帶的MnCl2進入反應腔體參與反應,形成的反應物Mnz1MoOy2沉積到MoOy1上面;
4)氧化鈦薄膜生長:利用機械手翻轉硅片,關閉MoCl5和MnCl2蒸發器的電源,打開TiCl4蒸發器的電源,經過氫氣攜帶的MoCl5與氧氣混合以后,在射頻電源激勵下生成等離子體,在硅片的背面形成TiOx1薄膜;
5)氧化鈦錳薄膜生長:TiOx1薄膜生長結束以后,打開MnCl2蒸發器的電源,經過氫氣攜帶的MnCl2進入反應腔體參與反應,形成的反應物Mnz2TiOx2沉積到TiOx1上面;
6)原位退火形成超薄氧化硅:氧化鉬、氧化鉬錳、氧化鈦、氧化鈦錳薄膜生長結束以后,關閉所有氣閥和射頻電源,腔室保持真空,真空度優于0.01Pa,樣品在原位退火5~10分鐘,退火溫度為300~350℃,形成超薄氧化硅;
7)Ca/Al背電極制備:采用蒸鍍法在硅片背表面的Mnz2TiOx2薄膜上面,首先生長10-20nm的鈣薄膜,然后生長300~500nm的鋁作為電池的背電極;
8)前表面ITO與銀電極生長:采用磁控濺射法,在硅片前表面的Mnz1MoOy2薄膜上面依次生長70~80nm的ITO導電薄膜和300~500nm的叉指狀銀電極。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于浙江師范大學,未經浙江師范大學許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202211624308.4/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





