[發(fā)明專利]氣相沉積設(shè)備有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202211601478.0 | 申請(qǐng)日: | 2022-12-14 |
| 公開(公告)號(hào): | CN115613002B | 公開(公告)日: | 2023-03-17 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 馬保群;陳濤 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 陛通半導(dǎo)體設(shè)備(蘇州)有限公司 |
| 主分類號(hào): | C23C14/50 | 分類號(hào): | C23C14/50 |
| 代理公司: | 蘇州市中南偉業(yè)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 32257 | 代理人: | 李艾 |
| 地址: | 215400 江蘇省蘇*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 沉積 設(shè)備 | ||
1.氣相沉積設(shè)備,其特征在于,包括:
腔體;
基臺(tái),所述基臺(tái)包括臺(tái)面和基軸,所述臺(tái)面位于所述腔體內(nèi),所述基軸連接所述臺(tái)面下表面,所述基軸穿過所述腔體連接有調(diào)節(jié)板;
行星組件,所述行星組件包括旋轉(zhuǎn)架,所述旋轉(zhuǎn)架內(nèi)周設(shè)置有內(nèi)齒圈,所述旋轉(zhuǎn)架底面中心與旋轉(zhuǎn)軸心轉(zhuǎn)動(dòng)連接,所述旋轉(zhuǎn)軸心安裝在支撐板上,所述旋轉(zhuǎn)軸心位于所述旋轉(zhuǎn)架內(nèi)的一端連接有行星架,所述行星架中心轉(zhuǎn)動(dòng)連有中心齒輪,所述行星架的多個(gè)端部分別轉(zhuǎn)動(dòng)連接有行星輪,所述行星輪分別與所述內(nèi)齒圈和中心齒輪嚙合;
多個(gè)旋轉(zhuǎn)升降組件,多個(gè)所述旋轉(zhuǎn)升降組件通過固定板相連,所述旋轉(zhuǎn)升降組件與所述調(diào)節(jié)板相接,所述旋轉(zhuǎn)升降組件通過所述行星輪的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)升降;
所述旋轉(zhuǎn)升降組件為差動(dòng)螺旋組件,所述差動(dòng)螺旋組件包括:螺桿,所述螺桿下端通過支撐件連接于所述行星輪中心,所述螺桿兩端分別設(shè)置有螺紋旋向相同的第一螺旋副和第二螺旋副;
固定殼,多個(gè)所述固定殼通過所述固定板相連,所述固定殼內(nèi)設(shè)置有對(duì)應(yīng)所述第一螺旋副的第一內(nèi)螺紋;
差動(dòng)位移頭,所述差動(dòng)位移頭在所述固定殼內(nèi)平動(dòng),所述差動(dòng)位移頭內(nèi)設(shè)置有對(duì)應(yīng)所述第二螺旋副的第二內(nèi)螺紋,所述差動(dòng)位移頭頂部設(shè)置為半球形,所述差動(dòng)位移頭頂部抵接所述調(diào)節(jié)板;
所述第一內(nèi)螺紋的導(dǎo)程大于第二內(nèi)螺紋的導(dǎo)程,所述第一螺旋副和第二螺旋副之間的螺桿外套設(shè)有彈簧,所述彈簧一端抵接所述第一螺旋副,所述彈簧另一端抵接所述固定殼或差動(dòng)位移頭;
所述支撐板和固定板通過安裝板固定連接于所述腔體下方。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣相沉積設(shè)備,其特征在于,所述固定殼上端設(shè)置有內(nèi)六角導(dǎo)槽,所述差動(dòng)位移頭設(shè)置有外六角導(dǎo)柱,所述外六角導(dǎo)柱插入所述內(nèi)六角導(dǎo)槽。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣相沉積設(shè)備,其特征在于,所述差動(dòng)位移頭表面設(shè)置有刻度。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣相沉積設(shè)備,其特征在于,所述調(diào)節(jié)板與所述腔體之間設(shè)置有多根固定螺柱,所述固定螺柱一端與所述腔體鎖緊,所述固定螺柱另一端穿過所述調(diào)節(jié)板,所述調(diào)節(jié)板兩側(cè)的固定螺柱上均螺紋連接有固定螺母。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣相沉積設(shè)備,其特征在于,所述行星架上設(shè)置有連接所有中心齒輪和行星輪的輪軸,所述輪軸下端套設(shè)有限位套,所述輪軸上端設(shè)置有限位槽,所述限位槽內(nèi)卡設(shè)有等高隔離環(huán),所述中心齒輪和行星輪卡設(shè)在所述等高隔離環(huán)與限位套之間。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣相沉積設(shè)備,其特征在于,所述臺(tái)面連接有加熱器,所述基軸通過驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)與所述調(diào)節(jié)板轉(zhuǎn)動(dòng)連接,所述腔體與調(diào)節(jié)板之間的基軸外設(shè)置有波紋管,所述波紋管的兩端分別與所述腔體底部和調(diào)節(jié)板相連。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣相沉積設(shè)備,其特征在于,所述旋轉(zhuǎn)架外周設(shè)置有防滑紋。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
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