[發明專利]PNIPAM在制備具有對水和溫度響應性的高分辨率電子束抗蝕劑中的應用在審
| 申請號： | 202211593082.6 | 申請日： | 2022-12-13 |
| 公開（公告）號： | CN115857276A | 公開（公告）日： | 2023-03-28 |
| 發明（設計）人： | 埃澤爾·馬丁·阿金諾古;許海勝;勞倫斯·德·哈恩;金名亮;王新;周國富 | 申請（專利權）人： | 肇慶市華師大光電產業研究院 |
| 主分類號： | G03F7/16 | 分類號： | G03F7/16;G03F7/09;G03F7/32;G03F7/038;G03F7/004 |
| 代理公司： | 廣州正明知識產權代理事務所(普通合伙) 44572 | 代理人： | 成姍 |
| 地址： | 526000 廣東省肇慶市高*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | pnipam 制備 具有 溫度 響應 高分辨率 電子束 抗蝕劑 中的 應用 | ||
【權利要求書】：
1.PNIPAM在制備具有對水和溫度響應性的高分辨率電子束抗蝕劑中的應用。
2.根據權利要求1所述的應用，其特征在于，所述PNIPAM是負性抗蝕劑。
3.根據權利要求1所述的應用，其特征在于，所述應用具體包括以下步驟：
S1、在預處理好的基片上制備PNIPAM抗蝕劑涂層；
S2、設計微納米圖案，對步驟S1制備的樣品進行電子束曝光；
S3、對步驟S2所得樣品用顯影液顯影。
4.根據權利要求3所述的應用，其特征在于，步驟S1所述基片為導電襯底，包括硅片、金薄膜、ITO。
5.根據權利要求3所述的應用，其特征在于，步驟S1所述PNIPAM的分子量范圍為1000-10000。
6.根據權利要求3所述的應用，其特征在于，步驟S1中用水溶解PNIPAM。
7.根據權利要求3所述的應用，其特征在于，步驟S1所述PNIPAM抗蝕劑質量濃度為1％-100％。
8.根據權利要求3所述的應用，其特征在于，步驟S1所述PNIPAM抗蝕劑涂層的厚度為5nm-5000nm。
9.根據權利要求3所述的應用，其特征在于，步驟S2所述微納米圖案包括任意尺寸的點、線、面圖案。
10.根據權利要求3所述的應用，其特征在于，步驟S3所述顯影液為水。
下載完整專利技術內容需要扣除積分，VIP會員可以免費下載。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于肇慶市華師大光電產業研究院，未經肇慶市華師大光電產業研究院許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/202211593082.6/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇：一種陰極輥輥筒的成形方法
- 下一篇：一種多維度晶圓加工用拾取機械手
- 具有溫度響應或溫度響應和pH響應的空心球的制備方法
- 一種有機/無機雜化材料POSS/PNIPAM?b?PDMAEMA可控釋放喜樹堿的制備方法
- 一種PNIPAM-RGO石墨烯復合材料的制備及其在智能響應性修飾電極上的應用
- 一種以PNIPAM為模板制備二氧化硅中空微球的方法
- PNIPAm微凝膠及二氧化釩/二氧化硅/PNIPAm復合微凝膠的制備方法
- 具有可逆溶膠-凝膠轉變的POSS/PNIPAM納米復合材料及其制備方法與應用
- 一種相轉變溫度可控的熱響應納米纖維膜的制備方法
- 偶氮苯基小分子光控溫敏高分子PNIPAm在水中自組裝的方法
- 偶氮苯基小分子光控溫敏高分子PNIPAm在離子液體中自組裝
- 一種具有光響應性和溫敏特性復合膜的制備方法和膜的清洗方法
