[發(fā)明專(zhuān)利]一種球面相控陣天線的標(biāo)校區(qū)域的標(biāo)校相位的修正方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202211588381.0 | 申請(qǐng)日: | 2022-12-12 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN115588852B | 公開(kāi)(公告)日: | 2023-04-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王文政;杜丹;扈景召;官勁;胡陽(yáng) | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 中國(guó)電子科技集團(tuán)公司第十研究所 |
| 主分類(lèi)號(hào): | H01Q3/26 | 分類(lèi)號(hào): | H01Q3/26;H01Q3/34 |
| 代理公司: | 成都九鼎天元知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 51214 | 代理人: | 王會(huì)改 |
| 地址: | 610000 四川*** | 國(guó)省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 球面 相控陣 天線 校區(qū) 相位 修正 方法 | ||
本發(fā)明公開(kāi)了一種球面相控陣天線的標(biāo)校區(qū)域的標(biāo)校相位的修正方法,其包括:標(biāo)校第一圈層的標(biāo)校區(qū)域中所有標(biāo)校區(qū)域的相位,得到第一圈層的標(biāo)校區(qū)域中各標(biāo)校區(qū)域的修正相位;基于第一圈層的標(biāo)校區(qū)域中各標(biāo)校區(qū)域的修正相位,標(biāo)校第二圈層的標(biāo)校區(qū)域中所有標(biāo)校區(qū)域的相位,得到第二圈層的標(biāo)校區(qū)域中各標(biāo)校區(qū)域的修正相位;對(duì)所述標(biāo)校區(qū)域A進(jìn)行標(biāo)校,得到標(biāo)校區(qū)域A的修正相位。本發(fā)明可減小區(qū)間相位標(biāo)校誤差、簡(jiǎn)單可靠、耗費(fèi)硬件資源,可有效降低標(biāo)校區(qū)域相位標(biāo)校的累積誤差。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及球面相控陣天線技術(shù)領(lǐng)域,特別是一種球面相控陣天線的標(biāo)校區(qū)域的標(biāo)校相位的修正方法。
背景技術(shù)
球面相控陣天線由于其多波束、多目標(biāo)的工作方式以及全空域覆蓋的技術(shù)優(yōu)勢(shì),在近年來(lái)新型天線的研究中越來(lái)越受到重視,成為一個(gè)新型天線的熱點(diǎn)研究領(lǐng)域。
在多波束球面相控陣天線的核心問(wèn)題是相控陣天線的波束形成問(wèn)題,其中一個(gè)關(guān)鍵技術(shù)是對(duì)球面天線陣面的陣元通道的相位、幅度一致性標(biāo)校技術(shù),它決定了相控陣天線是否能形成有效的波束。球面相控陣天線由于其形狀決定其與平面相控陣天線不同,不能用一個(gè)標(biāo)校天線完成整個(gè)陣面的陣元通道相位一致性標(biāo)校,而要采用將整個(gè)球面劃分為多個(gè)標(biāo)校區(qū)域并在球面相控陣天線外圍架設(shè)圍繞球面天線陣面分布的標(biāo)校天線的方法標(biāo)校陣元通道的相位一致性。這樣對(duì)球面相控陣天線的陣元通道的相位、幅度一致性標(biāo)校就必須分為對(duì)各標(biāo)校區(qū)域的陣面的陣元通道相位一致性標(biāo)校與各陣面標(biāo)校區(qū)域間的相位一致性標(biāo)校兩個(gè)步驟。其中標(biāo)校區(qū)域間的相位一致性標(biāo)校一般可采兩種方法:1.是用對(duì)各標(biāo)校天線的通道一致性標(biāo)校來(lái)完成標(biāo)校區(qū)域間相位的一致性標(biāo)校。2.是利用相鄰標(biāo)校區(qū)域的最大合成增益法來(lái)標(biāo)校各標(biāo)校區(qū)域的相位一致性。其中方法2由于其標(biāo)校區(qū)域標(biāo)校得到的標(biāo)校區(qū)域相位值能保證相鄰標(biāo)校區(qū)域之間得到最大波束合成增益,有較大的技術(shù)優(yōu)勢(shì)。在利用最大合成增益法標(biāo)校各標(biāo)校區(qū)域的相位時(shí),可以選擇不同的標(biāo)校區(qū)域遞推順序,不同的遞推順序?qū)е碌睦塾?jì)遞推相位誤差也不相同。
發(fā)明內(nèi)容
針對(duì)球面相控陣天線在進(jìn)行標(biāo)校區(qū)域的相位標(biāo)定時(shí),由于遞推關(guān)系導(dǎo)致的相位標(biāo)校的累積誤差問(wèn)題,本發(fā)明提供一種可減小區(qū)間相位標(biāo)校誤差的一種球面相控陣天線的標(biāo)校區(qū)域的標(biāo)校相位的修正方法,該方法簡(jiǎn)單可靠、耗費(fèi)硬件資源,可有效降低標(biāo)校區(qū)域相位標(biāo)校的累積誤差。利用該方法可在工程實(shí)踐中設(shè)計(jì)出滿(mǎn)足工程需求的球面相控陣天線系統(tǒng)。
本發(fā)明公開(kāi)了一種球面相控陣天線的標(biāo)校區(qū)域的標(biāo)校相位的修正方法,所述球面相控陣天線的標(biāo)校區(qū)域以標(biāo)校區(qū)域A為中心,標(biāo)校區(qū)域A以下分兩個(gè)圈層設(shè)置標(biāo)校區(qū)域,每個(gè)圈次上均勻分布六個(gè)標(biāo)校區(qū)域,它們分別是第一圈層的A1、B1、C1、D1、E1、F1標(biāo)校區(qū)域和第二圈層的A2、B2、C2、D2、E2、F2,其中上下圈層之間標(biāo)校區(qū)域的相鄰關(guān)系為:標(biāo)校區(qū)域A與第一圈層的A1、B1、C1、D1、E1、F1標(biāo)校區(qū)域相鄰;第一圈層的標(biāo)校區(qū)域A1與第二圈層的標(biāo)校區(qū)域A2相鄰;第一圈層的標(biāo)校區(qū)域B1與第二圈層的標(biāo)校區(qū)域B2相鄰;第一圈層的標(biāo)校區(qū)域C1與第二圈層的標(biāo)校區(qū)域C2相鄰;第一圈層的標(biāo)校區(qū)域D1與第二圈層的標(biāo)校區(qū)域D2相鄰;第一圈層的標(biāo)校區(qū)域E1與第二圈層的標(biāo)校區(qū)域E2相鄰;第一圈層的標(biāo)校區(qū)域F1與第二圈層的標(biāo)校區(qū)域F2相鄰;
所述方法包括:
步驟1:標(biāo)校第一圈層的標(biāo)校區(qū)域中所有標(biāo)校區(qū)域的相位,得到第一圈層的標(biāo)校區(qū)域中各標(biāo)校區(qū)域的修正相位;
步驟2:基于第一圈層的標(biāo)校區(qū)域中各標(biāo)校區(qū)域的修正相位,標(biāo)校第二圈層的標(biāo)校區(qū)域中所有標(biāo)校區(qū)域的相位,得到第二圈層的標(biāo)校區(qū)域中各標(biāo)校區(qū)域的修正相位;
步驟3:對(duì)所述標(biāo)校區(qū)域A進(jìn)行標(biāo)校,得到標(biāo)校區(qū)域A的修正相位。
進(jìn)一步地,第一圈層的標(biāo)校區(qū)域至第二圈層的標(biāo)校區(qū)域中每個(gè)圈層中各標(biāo)校區(qū)域分別與其位于同一圈層以及相鄰圈層的兩個(gè)標(biāo)校區(qū)域相鄰;
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