[發明專利]一種用于光學真空鍍膜機的控制系統

在審

• 申請號: 202211577448.0
• 申請日: 2022-12-09
• 公開（公告）號: CN115712272A
• 公開（公告）日: 2023-02-24
• 發明（設計）人: 呂敏;蒲睿;彭宏;雷梁;張蜀曉
• 申請（專利權）人: 成都中科唯實儀器有限責任公司
• 主分類號: G05B19/05
• 分類號: G05B19/05
• 代理公司: 成都金英專利代理事務所(普通合伙) 51218
• 代理人: 郭肖凌

1.一種用于光學真空鍍膜機的控制系統，對箱式自動真空鍍膜機進行控制，其特征在于，包括PLC控制模塊、人機交互控制模塊、操作面板、傳感器模塊和執行器件；

所述PLC控制模塊用于處理輸入和輸出信號，執行控制程序；

所述人機交互控制模塊設置在工作站，通過高速現場總線與PLC控制模塊通訊連接，運行人機界面軟件，提供設備控制系統的人機操作接口；

所述操作面板用于提供常用控制功能的操作途徑；

所述傳感器模塊用于反饋設備工作情況和操作情況的信息；

所述執行器件用于接收控制模塊輸出信號，并轉換為機械動作或電氣信號。

2.根據權利要求1所述的一種用于光學真空鍍膜機的控制系統，其特征在于，所述人機交互控制模塊包括用戶管理模塊、系統參數配置模塊、權限管理模塊、狀態指示模塊、操作控制模塊、報警管理模塊和事件管理模塊；

用戶管理模塊用于進行用戶登錄或退出、新增或刪除用戶信息和修改用戶資料操作；

參數配置模塊用于設置設備通訊端口分配、真空顯示單位以及系統鎖定參數；

權限管理模塊用于配置用戶的不同操作和安全級別，不同級別具有不同的操作權限；

狀態指示模塊用于通過狀態指示燈顯示PLC的工作狀態；

操作控制模塊用于控制設備的自動運行或手動操縱運行，包括自動控制模塊和手動控制模塊；

報警管理模塊用于顯示和查看設備報警信息；

事件管理模塊用于記錄和查看實時事件信息和歷史事件信息。

3.根據權利要求2所述的一種用于光學真空鍍膜機的控制系統，其特征在于，所述參數配置模塊包括通訊端口分配子模塊、真空顯示單位設置子模塊和系統安全設置子模塊；

通訊端口分配子模塊用于設置工控機通訊串口；

真空顯示單元設置子模塊用于根據實際需求選擇真空顯示單位，并切換顯示界面；

系統安全設置子模塊用于提供自動鎖定功能，自動鎖定等待時間內沒進行操作，則注銷當前用戶，進入安全保護狀態。

4.根據權利要求2所述的一種用于光學真空鍍膜機的控制系統，其特征在于，所述通過狀態指示燈顯示PLC的工作狀態具體為：

SF紅色：硬件或軟件故障；

BF紅色：PROFIBUS接口的硬件或軟件故障；

DC5V綠色：CPU和PLC總線電源正常；

FRCE黃色：強制請求激活；

RUN綠色：CPU處于運行狀態；啟動時以1Hz頻率閃爍；處于HALT狀態時以0.5Hz頻率閃爍；

STOP黃色：CPU處于STOP或HALT或啟動狀態，閃爍時請求存儲器復位。

5.根據權利要求2所述的一種用于光學真空鍍膜機的控制系統，其特征在于，所述操作控制模塊還包括互鎖保護子模塊，用于避免多個控制指令同時執行，保護設備運行安全。

6.根據權利要求2所述的一種用于光學真空鍍膜機的控制系統，其特征在于，所述操作控制模塊還包括配方配置子模塊，通過設置不同類型的工藝基本單元實現不同的工藝流程或系統狀態。

7.根據權利要求6所述的一種用于光學真空鍍膜機的控制系統，其特征在于，所述工藝基本單元具體包括：

真空狀態：包括基本真空參數，用于系統真空狀態判定；

自動排氣：包括自動排氣功能運行參數，用于自動排氣操作；

自動放氣：包括自動放氣功能運行參數，用于自動放氣操作；

泵制冷：包括低溫泵自動制冷功能運行參數，用于低溫泵制冷或維持操作；

泵再生：包括低溫泵再生功能運行參數，用于低溫泵再生操作；

工件盤轉動：包括工件盤轉動運行參數，用于工件盤轉動操作；

工件加熱：包括烘烤系統運行參數，用于工件加熱操作；

阻蒸：包括阻蒸系統運行參數，用于阻蒸系統操作；

系統等待：包括系統等待時間，用于系統延時操作。

8.根據權利要求1所述的一種用于光學真空鍍膜機的控制系統，其特征在于，所述常用控制功能包括電子槍束流、電子槍掃描控制、阻蒸擋板、阻蒸開關和阻蒸束流升降。