[發明專利]用于加工變化槽深光柵的擋板裝置和光柵刻蝕加工設備

在審

• 申請號: 202211577213.1
• 申請日: 2022-12-05
• 公開（公告）號: CN115793118A
• 公開（公告）日: 2023-03-14
• 發明（設計）人: 孟祥峰;董文浩;冒新宇
• 申請（專利權）人: 北京至格科技有限公司
• 主分類號: G02B5/18
• 分類號: G02B5/18
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司 11127
• 代理人: 朱坤鵬;陳燁

1.一種用于加工變化槽深光柵的擋板裝置，其特征在于，所述用于加工變化槽深光柵的擋板裝置包括左右設置的左擋板機構(1)和右擋板機構(2)，左擋板機構(1)含有依次連接的左擋板(11)和左驅動組件(12)，左驅動組件(12)能夠驅動左擋板(11)沿前后左右方向移動，右擋板機構(2)含有依次連接的右擋板(21)和右驅動組件(22)，右驅動組件(22)能夠驅動右擋板(21)沿前后左右方向移動，左擋板(11)和右擋板(21)之間能夠形成縱向通孔(3)，縱向通孔(3)的下方為光柵加工區域(4)，縱向通孔(3)的大小、形狀和位置均能夠改變。

2.根據權利要求1所述的用于加工變化槽深光柵的擋板裝置，其特征在于，左驅動組件(12)含有依次連接的左側Y軸移動組件(121)和左側X軸移動組件(122)，左側Y軸移動組件(121)能夠驅動左側X軸移動組件(122)和左擋板(11)沿前后方向同步移動，左側X軸移動組件(122)能夠驅動左擋板(11)沿左右方向移動。

3.根據權利要求2所述的用于加工變化槽深光柵的擋板裝置，其特征在于，左側Y軸移動組件(121)含有左側Y軸導軌(1211)、左側Y軸滑塊(1212)和左側Y軸驅動單元，左側Y軸導軌(1211)沿前后方向沿伸，所述左側Y軸驅動單元能夠驅動左側Y軸滑塊(1212)在左側Y軸導軌(1211)上前后移動。

4.根據權利要求3所述的用于加工變化槽深光柵的擋板裝置，其特征在于，左側X軸移動組件(122)含有左側X軸導軌(1221)、左側X軸滑塊(1222)和左側X軸驅動單元，左側X軸導軌(1221)沿左右方向沿伸，所述左側X軸驅動單元能夠驅動左側X軸滑塊(1222)在左側X軸導軌(1221)上左右移動。

5.根據權利要求4所述的用于加工變化槽深光柵的擋板裝置，其特征在于，左側X軸導軌(1221)固定于左側Y軸滑塊(1212)上，左擋板(11)固定于左側X軸滑塊(1222)上。

6.根據權利要求1所述的用于加工變化槽深光柵的擋板裝置，其特征在于，左擋板(11)和右擋板(21)均平行于水平面，左擋板(11)朝向右擋板(21)的側邊為左工作邊(111)，右擋板(21)朝向左擋板(11)的側邊為右工作邊(211)，左工作邊(111)和右工作邊(211)圍成縱向通孔(3)。

7.根據權利要求6所述的用于加工變化槽深光柵的擋板裝置，其特征在于，左工作邊(111)和右工作邊(211)的長度相同，縱向通孔(3)為矩形、菱形、三角形、圓形、五邊形或六邊形。

8.根據權利要求1所述的用于加工變化槽深光柵的擋板裝置，其特征在于，左擋板機構(1)的構造和右擋板機構(2)的構造相同，左擋板機構(1)和右擋板機構(2)能夠互為鏡像，當縱向通孔(3)的面積為零時，左擋板(11)和右擋板(21)能夠從上向下完全遮擋光柵加工區域(4)。

9.一種光柵刻蝕加工設備，其特征在于，所述光柵刻蝕加工設備包括離子束發射源(6)和權利要求1所述的用于加工變化槽深光柵的擋板裝置，離子束發射源(6)位于縱向通孔(3)的上方，離子束發射源(6)發射出的離子束流(61)僅能夠穿過縱向通孔(3)轟擊光柵加工區域(4)。

10.根據權利要求9所述的光柵刻蝕加工設備，其特征在于，所述光柵刻蝕加工設備還包括全遮擋刻蝕擋板(5)，全遮擋刻蝕擋板(5)位于離子束發射源(6)和縱向通孔(3)之間，沿從上向下的方向，全遮擋刻蝕擋板(5)能夠完全遮擋或暴露縱向通孔(3)。