[發(fā)明專(zhuān)利]真空雙室熱處理爐及其工作方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202211565249.8
• 申請(qǐng)日: 2022-12-07
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN116103479A
• 公開(kāi)（公告）日: 2023-05-12
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 谷文舉;陳希章;張麗煒;彭康;張振華;信冬群;卓曉;王艷虎;余可陽(yáng);耿燕飛;姚秀聰;張健
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 浙江正泰電器股份有限公司;溫州大學(xué)
• 主分類(lèi)號(hào): C21D9/00
• 分類(lèi)號(hào): C21D9/00;C21D1/773;C21D11/00;C21D1/74;C21D1/00
• 代理公司: 北京遠(yuǎn)智匯知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11659
• 代理人: 康亞健

1.真空雙室熱處理爐，其特征在于，包括：

爐體，所述爐體設(shè)置有加熱室(1)和冷卻室(2)，所述冷卻室(2)設(shè)置有前門(mén)(21)和中門(mén)(22)，所述加熱室(1)和所述冷卻室(2)之間設(shè)置有隔熱門(mén)(3)，所述隔熱門(mén)(3)設(shè)置于所述中門(mén)(22)和所述加熱室(1)之間，所述加熱室(1)用于對(duì)工件進(jìn)行加熱處理，所述冷卻室(2)用于對(duì)加熱處理后的所述工件進(jìn)行冷卻；

抽真空裝置(4)，被配置為對(duì)所述加熱室(1)和所述冷卻室(2)進(jìn)行抽真空；

冷卻油池(5)，設(shè)置于所述冷卻室(2)的下部，加熱后的所述工件能夠移動(dòng)至所述冷卻油池(5)內(nèi)進(jìn)行油淬冷卻；

水冷換熱裝置(6)，所述水冷換熱裝置(6)包括循環(huán)管路(61)，所述循環(huán)管路(61)設(shè)置于所述冷卻室(2)的上部，所述循環(huán)管路(61)內(nèi)流通有冷卻水；

風(fēng)冷換熱裝置(7)，包括供氣件和吹風(fēng)件，所述供氣件能夠向所述冷卻室(2)內(nèi)通入保護(hù)氣體，所述吹風(fēng)件能夠轉(zhuǎn)動(dòng)以驅(qū)動(dòng)所述保護(hù)氣體流動(dòng)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空雙室熱處理爐，其特征在于，所述真空雙室熱處理爐還包括：

溫度檢測(cè)裝置(8)，設(shè)置于所述冷卻室(2)的側(cè)面，所述溫度檢測(cè)裝置(8)被配置為檢測(cè)所述冷卻室(2)內(nèi)的溫度。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的真空雙室熱處理爐，其特征在于，所述吹風(fēng)件包括驅(qū)動(dòng)電機(jī)(72)和冷卻風(fēng)扇(73)，所述驅(qū)動(dòng)電機(jī)(72)設(shè)置于所述冷卻室(2)的頂面，所述冷卻風(fēng)扇(73)設(shè)置于所述冷卻室(2)內(nèi)，所述冷卻風(fēng)扇(73)連接于所述驅(qū)動(dòng)電機(jī)(72)的驅(qū)動(dòng)軸，所述驅(qū)動(dòng)電機(jī)(72)能夠驅(qū)動(dòng)所述冷卻風(fēng)扇(73)旋轉(zhuǎn)，所述驅(qū)動(dòng)電機(jī)(72)的轉(zhuǎn)速能夠調(diào)節(jié)以調(diào)節(jié)所述冷卻風(fēng)扇(73)的轉(zhuǎn)速。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空雙室熱處理爐，其特征在于，所述真空雙室熱處理爐還包括：

冷卻室升降機(jī)構(gòu)，包括升降驅(qū)動(dòng)件(91)和升降平臺(tái)(92)，所述升降驅(qū)動(dòng)件(91)設(shè)置于所述冷卻室(2)的外側(cè)面，所述升降平臺(tái)(92)設(shè)置于所述冷卻室(2)內(nèi)，用于承載所述工件，所述升降驅(qū)動(dòng)件(91)能夠驅(qū)動(dòng)所述升降平臺(tái)(92)在所述冷卻室(2)內(nèi)上下移動(dòng)，以使所述工件向下移動(dòng)浸入所述冷卻油池(5)或使所述工件向上移動(dòng)離開(kāi)所述冷卻油池(5)。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的真空雙室熱處理爐，其特征在于，所述冷卻室升降機(jī)構(gòu)還包括：

水平驅(qū)動(dòng)件(93)，設(shè)置于所述升降平臺(tái)(92)的下側(cè)，所述水平驅(qū)動(dòng)件(93)能夠驅(qū)動(dòng)所述升降平臺(tái)(92)水平移動(dòng)，以將所述工件輸送至所述加熱室(1)內(nèi)及從所述加熱室(1)內(nèi)移動(dòng)至所述冷卻室(2)內(nèi)。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的真空雙室熱處理爐，其特征在于，所述真空雙室熱處理爐還包括：

加熱放置平臺(tái)(101)，設(shè)置于所述加熱室(1)內(nèi)，所述加熱放置平臺(tái)(101)用于放置所述工件；

加熱升降機(jī)構(gòu)(102)，設(shè)置于所述加熱室(1)的底部，所述加熱升降機(jī)構(gòu)(102)能夠驅(qū)動(dòng)所述加熱室(1)上下移動(dòng)，以使所述加熱放置平臺(tái)(101)能夠與所述升降平臺(tái)(92)相齊平。

7.根據(jù)權(quán)利要求1-6任一項(xiàng)所述的真空雙室熱處理爐，其特征在于，所述真空雙室熱處理爐還包括：

熱輻射加熱裝置(11)，所述熱輻射加熱裝置(11)分布于所述加熱室(1)的內(nèi)壁上，用于對(duì)所述加熱室(1)內(nèi)的所述工件進(jìn)行加熱處理。

8.根據(jù)權(quán)利要求1-6任一項(xiàng)所述的真空雙室熱處理爐，其特征在于，所述前門(mén)(21)設(shè)置有鎖緊裝置(211)，所述鎖緊裝置(211)能夠?qū)⑺銮伴T(mén)(21)鎖緊于所述冷卻室(2)。

9.根據(jù)權(quán)利要求1-6任一項(xiàng)所述的真空雙室熱處理爐，其特征在于，所述真空雙室熱處理爐還包括：

冷卻室壓力表(23)，設(shè)置于所述冷卻室(2)，所述冷卻室壓力表(23)用于檢測(cè)所述冷卻室(2)內(nèi)的氣壓值；

加熱室壓力表(12)，設(shè)置于所述加熱室(1)，所述加熱室壓力表(12)用于檢測(cè)所述加熱室(1)內(nèi)的氣壓值。