[發(fā)明專利]一種高耐沾污水性丙烯酸消光劑及制備方法與應(yīng)用

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• 申請?zhí)枺?/td>: 202211555266.3
• 申請日: 2022-12-06
• 公開（公告）號: CN115785726A
• 公開（公告）日: 2023-03-14
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 徐一丹;王曉;李志遠(yuǎn);吉曉軍;景傳明;孫家寬;紀(jì)學(xué)順
• 申請（專利權(quán)）人: 萬華化學(xué)集團(tuán)股份有限公司
• 主分類號: C09D7/65
• 分類號: C09D7/65;C08F220/58;C08F220/56;C08F222/38;C08F226/02;C08F226/04;C08F2/32;C09D133/00
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本發(fā)明公開了一種高耐沾污水性丙烯酸消光劑及制備方法與應(yīng)用。所述丙烯酸消光劑由包含以下重量百分比的各組分通過反相乳液聚合制得：丙烯酰胺5?15%，2?丙烯酰胺?2?甲基丙磺酸15?28%，交聯(lián)單體0.005?0.05%，溶劑油25?40%，油包水型乳化劑1.5?3.5%，水包油型乳化劑2?5%，水15?30%，氧化劑0.003?0.06%，還原劑0.006?0.12%。本發(fā)明提供的水性丙烯酸消光劑與水性丙烯酸乳液制備的罩面涂料可以高效率降低涂膜光澤，且大幅度提升涂膜的耐沾污性能，與此同時具有優(yōu)異的耐洗刷性和耐水白性。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種丙烯酸消光劑，尤其涉及一種高耐沾污水性丙烯酸消光劑及制備方法與應(yīng)用。

背景技術(shù)

隨著人們生活水平的提高，人們對建筑涂料的要求也越來越高，更多選擇質(zhì)量輕、粘結(jié)效果好和裝飾性強的多彩漆作為外墻涂料。但多彩漆本身的耐水白、耐沾污性、抗老化等性能較差，容易出現(xiàn)各種漆膜問題。現(xiàn)有的解決辦法是在多彩漆表面涂擦一層抗耐污，耐水性好的罩面涂料進(jìn)行保護(hù)，使建筑墻面整潔，同時也能夠起到保護(hù)建筑墻面，延長其使用壽命的作用。為了減少光污染和對視覺的保護(hù)，啞光罩面涂料也越來越受歡迎，但由于啞光表面微凹凸裝，一定程度上會使耐沾污性變差，很難滿足人們越來越高的要求。而常用的啞光助劑多為粉體氣相二氧化硅或聚酯微球，具有質(zhì)量輕、易產(chǎn)生污染的缺陷；而自啞乳液往往消光效率低，合成難度大。因此，開發(fā)可以提升罩面涂料耐沾污性、耐水白性以及耐洗刷性能的新型消光劑，更能滿足大眾的需求，也更符合技術(shù)發(fā)展的需要。

CN103613702A公開了一種水性多功能丙烯酸消光樹脂及其制備方法，采用改性二氧化硅和有機熱固性聚甲基脲樹脂作為外加消光劑，得到了消光效率高，耐水性、耐酸堿性突出的水性多功能丙烯酸消光樹脂。但存在工藝方法步驟繁多，消光劑與樹脂本體相容性差，容易產(chǎn)生絮凝、沉淀等問題。

CN110172121A公開了一種水性丙烯酸消光樹脂及其制備方法，通過將種子乳液聚合和多級乳液聚合相結(jié)合，以多烯鍵式不飽和丙烯酸酯為交聯(lián)劑，制備出平均粒徑在0.5～20微米范圍內(nèi)的穩(wěn)定的水性丙烯酸樹脂。該樹脂在成膜過程中較大顆粒整齊緊密地排列在漆膜表面形成微粗糙結(jié)構(gòu)，從而使樹脂本體產(chǎn)生消光效果。但是這種方法在這個粒徑范圍內(nèi)，成膜交聯(lián)度低，漆膜的耐沾污性能及耐水性較差。

CN105968253A公開了一種水性自消光丙烯酸乳液及其制備方法與應(yīng)用，通過有機硅氧烷嵌段枝接改性制備水性自消光丙烯酸乳液,但是該方法制得的雙分布或多分布乳液，粒徑差別仍然較小，使得最終漆膜無法保證在三個角度光反射下都有很低的光澤。

發(fā)明內(nèi)容

為了解決以上技術(shù)問題，本發(fā)明提出一種高耐沾污水性丙烯酸消光劑及制備方法與應(yīng)用。本發(fā)明通過反相乳液聚合提供了一種丙烯酸消光劑，其應(yīng)用于制備罩面涂料可以高效率降低涂膜光澤，且大幅度提升涂膜的耐沾污性能，與此同時具有優(yōu)異的耐洗刷性和耐水白性。該消光劑在罩面涂料中具有良好的相容性，漆膜通透性高，穩(wěn)定性好。

為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明所采用的技術(shù)方案如下：

一種高耐沾污水性丙烯酸消光劑，所述丙烯酸消光劑由包含以下重量百分比的各組分通過反相乳液聚合制得：

丙烯酰胺5-15％，

2-丙烯酰胺-2-甲基丙磺酸15-28％，

交聯(lián)單體0.005-0.05％，

溶劑油25-40％，

油包水型乳化劑1.5-3.5％，

水包油型乳化劑2-5％，

水15-30％，

氧化劑0.003-0.06％，

還原劑0.006-0.12％。