[發(fā)明專利]一種應(yīng)用于高低溫傳函儀的紅外中繼系統(tǒng)

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202211543648.4
• 申請(qǐng)日: 2022-12-02
• 公開（公告）號(hào): CN115931308A
• 公開（公告）日: 2023-04-07
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 柴炎;李彪;吳耀;李勇;朱廣亮;張偉
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 湖北久之洋紅外系統(tǒng)股份有限公司
• 主分類號(hào): G01M11/02
• 分類號(hào): G01M11/02
• 代理公司: 湖北武漢永嘉專利代理有限公司 42102
• 代理人: 許美紅;張宇

1.一種應(yīng)用于高低溫傳函儀的紅外中繼系統(tǒng)，其特征在于，包括：前組成像系統(tǒng)、溫箱保護(hù)窗口、刀口或狹縫和后組成像系統(tǒng)；

所述前組成像系統(tǒng)包括第一前組透鏡、第二前組透鏡、第三前組透鏡和第四前組透鏡；所述后組成像系統(tǒng)包括第一后組透鏡、第二后組透鏡、第三后組透鏡和第四后組透鏡；所述溫箱保護(hù)窗口包括第一溫箱保護(hù)窗口和第二溫箱保護(hù)窗口；

物方成像光束依次經(jīng)過(guò)第一溫箱保護(hù)窗口、第二溫箱保護(hù)窗口、第一前組透鏡、第二前組透鏡、第三前組透鏡和第四前組透鏡后一次成像，刀口或狹縫靠近物方的前表面放置在一次像點(diǎn)處，再經(jīng)過(guò)第一后組透鏡、第二后組透鏡、第三后組透鏡和第四后組透鏡二次成像在點(diǎn)源探測(cè)器靶面上。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的紅外中繼系統(tǒng)，其特征在于，光線入射方向?yàn)槲锓剑礊楸粶y(cè)鏡頭的焦面，光線出射方向?yàn)橄穹?，即為點(diǎn)源探測(cè)器靶面，第一溫箱保護(hù)窗口和第二溫箱保護(hù)窗口均是一片氟化鈣平面窗口，第一前組透鏡是一片凸面向像方的硅正透鏡，第二前組透鏡是一片凸面向物方的彎月形鍺負(fù)透鏡，第三前組透鏡是一片凸面向物方的彎月形硅正透鏡，第四前組透鏡是一片凸面向像方的彎月形鍺負(fù)透鏡，刀口或狹縫均是一片藍(lán)寶石平面玻璃，第一后組透鏡是一片凸面向像方的彎月形硅正透鏡，第二后組透鏡是一片凸面向像方的彎月形鍺負(fù)透鏡，第三后組透鏡是一片凸面向物方的彎月形硅正透鏡，第四后組透鏡是一片雙凸鍺負(fù)透鏡。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的紅外中繼系統(tǒng)，其特征在于，所述紅外中繼系統(tǒng)放大倍率為1×，物方數(shù)值孔徑0.25。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的紅外中繼系統(tǒng)，其特征在于，第二前組透鏡靠近物方的第一面和第三后組透鏡遠(yuǎn)離物方的第二面分別為非球面。

5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的紅外中繼系統(tǒng)，其特征在于，所述紅外中繼系統(tǒng)在一次像點(diǎn)和二次像點(diǎn)處的像質(zhì)均接近衍射極限。

6.根據(jù)權(quán)利要求1至5任意一項(xiàng)所述的紅外中繼系統(tǒng)，其特征在于，所述紅外中繼系統(tǒng)適用于F數(shù)2及以上的中波紅外被測(cè)鏡頭進(jìn)行傳函測(cè)試。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的紅外中繼系統(tǒng)，其特征在于，所述紅外中繼系統(tǒng)中所含的鏡片最大口徑不超過(guò)20mm。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的紅外中繼系統(tǒng)，其特征在于，所述紅外中繼系統(tǒng)波段設(shè)計(jì)范圍為3μm～5μm。

9.根據(jù)權(quán)利要求5所述的紅外中繼系統(tǒng)，其特征在于，刀口或狹縫處中間像點(diǎn)和像面處的傳函在100lp/mm處均接近衍射極限，達(dá)到0.1以上。